KR20120051575A - 노즐의 위치 조정 방법, 컴퓨터 기억 매체 및 도포 처리 장치 - Google Patents

노즐의 위치 조정 방법, 컴퓨터 기억 매체 및 도포 처리 장치 Download PDF

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KR20120051575A
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Abstract

본 발명은 도포 처리 장치에 의해 기판에 대하여 도포 처리를 함에 있어서, 도포액을 공급하는 노즐의 위치 조정을 작업원의 숙련도에 상관없이 정확하고 신속하게 행하는 것을 목적으로 한다.
웨이퍼에 도포액을 공급하는 도포액 노즐(33)의 위치를 조정하는 방법으로서, 도포액 노즐(33)을, 웨이퍼가 유지되어 있지 않은 상태의 스핀척(20)의 중심부의 위쪽으로 이동시키고, 그 후, 스핀척(20)의 중심부에 대응하는 흡인구(20a) 및 도포액 노즐(33)의 선단부를 CCD 카메라(50, 51)로 촬상하며, 촬상된 화상에 있어서, 도포액 노즐(33)의 선단부 중심의 수평 방향의 위치와 스핀척(20)의 중심부인 흡인구(20a)의 수평 방향의 위치가 일치하도록 도포액 노즐(33)의 위치를 조정한다.

Description

노즐의 위치 조정 방법, 컴퓨터 기억 매체 및 도포 처리 장치{NOZZLE POSITIONING METHOD, COMPUTER STORAGE MEDIUM AND COATING PROCESSING APPARATUS}
본 발명은 기판 위에 도포액을 공급하여 도포 처리를 할 때에 그 도포액을 공급하는 노즐의 위치 조정 방법, 프로그램, 컴퓨터 기억 매체 및 도포 처리 장치에 관한 것이다.
예컨대 반도체 디바이스의 제조 프로세스에서의 포토리소그래피 공정에서는, 예컨대 반도체 웨이퍼(이하, 「웨이퍼」로 함) 위에 레지스트액을 도포하여 레지스트막을 형성하는 레지스트 도포 처리, 그 레지스트막을 정해진 패턴으로 노광하는 노광 처리, 노광된 레지스트막을 현상하는 현상 처리 등이 순차 이루어져, 웨이퍼 위에 정해진 레지스트 패턴이 형성된다. 이들 웨이퍼의 처리는 각종 처리 장치가 다수 구비된 도포 처리 시스템에서, 매엽식으로 연속하여 이루어진다.
이 도포 처리 시스템에서 이루어지는 레지스트 도포 처리는 통상 도포 처리 장치에서 행해진다. 도포 처리 장치는 웨이퍼를 배치하고 유지하여 회전시키는 스핀척과, 웨이퍼 위쪽으로부터 레지스트액을 토출하는 노즐을 구비한다. 레지스트 도포 처리 시에는, 스핀척에 웨이퍼를 배치하여 그 스핀척을 회전시키고, 회전하고 있는 웨이퍼 중심부에 대응하는 위치로 노즐을 이동시켜, 노즐로부터 레지스트액을 토출하며, 레지스트액을 웨이퍼의 중심부로부터 전체에 확산시킴으로써 행해진다.
그런데, 레지스트막의 형성에서는, 레지스트액을 웨이퍼 위에 균일하고 고르게 도포해야 하지만, 레지스트액이 웨이퍼 위에서 국부적으로 도포되어 있지 않거나, 또는 레지스트액이 국부적으로 얇게 또는 두껍게 도포되는 도포 불량이 생기는 경우가 있다.
이러한 도포 불량은, 예컨대 레지스트액을 웨이퍼에 공급할 때에, 웨이퍼 중심부와 노즐의 위치가 어긋난 경우나, 노즐을 웨이퍼 중심부에 대응하는 위치로 이동시키는 과정에서 목적 외의 위치에서 노즐로부터 레지스트액이 적하되어, 이 레지스트액의 적하를 알아차리지 못한 채 웨이퍼 중심부에서 레지스트액을 공급하여 회전 도포한 경우 등에 발생하는 것이 알려져 있다.
목적 외의 위치에의 레지스트액의 적하가 발생한 것을 검출하여 도포 불량을 미연에 방지하는 방법으로서는, 예컨대 특허문헌 1에, 웨이퍼 중심부로 이동중인 노즐을 촬상 수단에 의해 광학적으로 촬상하여, 노즐로부터 레지스트액이 적하했거나, 또는 적하할 듯한 상태가 된 것을 검출하는 방법이 제안되어 있다. 그리고, 목적 외의 위치에의 레지스트액의 적하를 검출한 경우에는 도포 처리를 정지시켜 불량품의 발생을 방지하여, 수율의 향상이 도모된다.
일본 특허 공개 제2008-135679호 공보
그런데, 상기 레지스트 도포 장치에서의 노즐의 위치 조정, 즉 센터링 조정은 종래부터 작업원의 육안에 의해 이루어지고 있었다. 즉, 스핀척의 회전 중심에 웨이퍼의 중심이 맞도록 웨이퍼가 배치되어 있는지의 여부, 및 노즐이 스핀척의 회전 중심축 위에 위치하고 있는지의 여부를 육안으로 확인하고, 위치 어긋남이 있는 경우에는, 작업원에 의해 그 위치 어긋남량을 추정하여, 손으로 수정함으로써 위치를 조정하였다. 이 때문에, 센터링 조정에는 시간이 걸리고, 그 동안에는 장치를 가동할 수 없기 때문에 장치 가동률의 저하를 초래하였다.
추가로, 노즐이 스핀척의 회전 중심축 위에 위치하고 있는지의 여부의 확인은, 통상, 예컨대 스핀척의 중심부에 형성된, 웨이퍼 흡착 유지용 흡인구의 중심 위치와 노즐의 중심 위치가 일치하고 있는지의 여부를 확인함으로써 이루어지지만, 이 흡인구의 직경이 예컨대 7 ㎜인 데 대하여, 노즐의 외경은 예컨대 3 ㎜ 정도이기 때문에, 육안으로는 조정이 완료된 것처럼 보여도, 실제로는 수 밀리미터 정도의 어긋남이 생기는 경우도 종종 있었다. 따라서, 작업원의 숙련도에 따라서는 항상 일정한 정밀도를 확보할 수 없어, 위치 조정이 부정확하게 되는 문제도 있다. 이 경우, 전술한 바와 같이 웨이퍼 중심부와 노즐의 위치가 어긋나는 것은 도포 불량 발생의 원인이 되어 버린다.
본 발명은 이러한 점을 감안하여 이루어진 것으로, 도포 처리 장치에 의해 기판에 대하여 도포 처리를 함에 있어서, 도포액을 공급하는 노즐의 위치 조정을 작업원의 숙련도에 상관없이 정확하고 신속하게 행하는 것을 목적으로 한다.
상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명은 회전 유지 부재에 의해 유지된 기판 위에 노즐로부터 도포액을 공급하고, 상기 회전 유지 부재를 회전시킴으로써 기판에 도포 처리를 하는 도포 처리 장치에 있어서, 상기 노즐의 위치를 조정하는 방법으로서, 상기 노즐을, 기판이 유지되어 있지 않은 상태의 상기 회전 유지 부재의 중심부 위쪽으로 이동시키고, 그 후, 상기 회전 유지 부재의 중심부 및 상기 노즐의 선단부를 촬상 수단에 의해 촬상하며, 촬상된 화상에 있어서, 상기 노즐의 선단부 중심의 수평 방향의 위치와 상기 회전 유지 부재의 중심부의 수평 방향의 위치가 일치하도록 상기 노즐의 위치를 조정하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 의하면, 촬상 수단에 의해 촬상된 화상에 있어서, 상기 노즐의 선단부 중심 위치와 상기 회전 유지 부재의 중심부의 위치가 일치하도록 노즐의 위치를 조정하기 때문에, 작업원의 숙련도에 상관없이 단시간에 센터링 작업을 실시할 수 있다. 또한, 촬상 수단에, 예컨대 고해상도의 CCD 카메라 등을 이용함으로써, 작업원의 육안 이상의 정밀도로 위치를 조정하는 것이 가능해진다.
조정된 노즐의 위치 정보를 기억하고, 그 후, 상기 회전 유지 부재에 기판을 유지하여 그 기판에 도포 처리를 하며, 그 후, 도포 처리 후의 기판을 상기 회전 유지 부재로부터 제거하고, 그 회전 유지 부재에 기판이 유지되어 있지 않은 상태에서 상기 노즐을 상기 회전 유지 부재의 중심부 위쪽으로 이동시키며, 그 후, 상기 노즐의 선단부 및 상기 회전 유지 부재의 중심부를 촬상 수단에 의해 촬상하고, 그 후, 촬상된 화상으로부터 구한 상기 노즐의 위치 정보와 기억된 노즐의 위치 정보를 비교하여, 양 위치 정보에 차가 있는 경우에는, 그 노즐의 위치가 상기 기억된 위치 정보와 일치하도록 상기 노즐을 이동시켜도 좋다.
상기 노즐의 선단부 및 상기 회전 유지 부재의 중심부의 촬상은 2대의 촬상 수단에 의해 이루어지고, 상기 2대의 촬상 수단에 의한 촬상은 서로의 촬상 방향이 평면에서 봤을 때 직교하는 방향에서 이루어져도 좋다.
상기 촬상 수단에 의해 촬상되는 상기 회전 유지 부재의 중심부는 상기 회전 유지 부재의 중심부에 형성되며 상기 기판을 흡착 유지하는 흡인구이고, 상기 촬상된 화상에 있어서, 상기 노즐의 선단부 중심의 수평 방향의 위치와 상기 흡인구의 중심부의 수평 방향의 위치가 일치하고, 상기 노즐의 선단부의 전방측 단부와, 상기 흡인구의 전방측 단부 사이의 거리가 정해진 값이 되도록 상기 노즐의 위치를 조정하여도 좋다.
다른 관점에 따른 본 발명에 의하면, 상기 노즐의 위치 조정 방법을 도포 처리 장치에 의해 실행시키기 위해, 그 도포 처리 장치를 제어하는 제어부의 컴퓨터 상에서 동작하는 프로그램이 제공된다.
또한 다른 관점에 따른 본 발명에 의하면, 상기 프로그램을 저장한 판독 가능한 컴퓨터 기억 매체가 제공된다.
또 다른 관점에 따른 본 발명은 회전 유지 부재에 의해 유지된 기판 위에 노즐로부터 도포액을 공급하고, 상기 회전 유지 부재를 회전시킴으로써 기판에 도포 처리를 하는 도포 처리 장치로서, 도포액을 기판 위에 공급하는 도포액 노즐과, 상기 노즐을 이동시키는 이동 기구와, 상기 노즐의 선단부 및 상기 회전 유지 부재의 중심부를 촬상하는 촬상 수단과, 상기 이동 기구와 상기 촬상 수단의 동작을 제어하는 제어부를 가지며, 상기 촬상 수단은, 서로의 촬상 방향이 평면에서 봤을 때 직교하는 방향에서 촬상하도록 2대 설치되고, 상기 제어부는 촬상된 화상에 있어서, 상기 노즐의 선단부 중심의 위치와 상기 회전 유지 부재의 중심부의 위치가 일치하도록 상기 노즐의 위치를 조정하는 제어를 수행하는 것을 특징으로 한다.
상기 제어부는 조정된 노즐의 위치 정보를 기억하고, 그 후, 상기 회전 유지 부재에 기판을 유지하여 그 기판에 도포 처리를 하며, 그 후, 도포 처리 후의 기판을 상기 회전 유지 부재로부터 제거하고, 그 회전 유지 부재에 기판이 유지되어 있지 않은 상태에서 상기 노즐을 상기 회전 유지 부재의 중심부 위쪽으로 이동시키며, 그 후, 상기 노즐의 선단부 및 상기 회전 유지 부재의 중심부를 촬상 수단에 의해 촬상하고, 그 후, 촬상된 화상으로부터 구한 상기 노즐의 위치 정보와 기억된 노즐의 위치 정보를 비교하여, 양 위치 정보에 차가 있는 경우에는, 그 노즐의 위치가 상기 기억된 위치 정보와 일치하도록 상기 노즐을 이동시키는 제어를 수행하여도 좋다.
또한, 다른 관점에 따른 본 발명은 회전 유지 부재에 의해 유지된 기판 위에 노즐로부터 도포액을 공급하고, 상기 회전 유지 부재를 회전시킴으로써 기판에 도포 처리를 하는 도포 처리 장치로서, 도포액을 기판 위에 공급하는 도포액 노즐과, 상기 노즐을 이동시키는 이동 기구와, 상기 노즐의 선단부와 상기 회전 유지 부재의 중심부에 형성되며 상기 기판을 흡착 유지하는 흡인구를 촬상하는 촬상 수단과, 상기 이동 기구와 상기 촬상 수단의 동작을 제어하는 제어부를 가지며, 상기 제어부는 촬상된 화상에 있어서, 상기 노즐의 선단부 중심의 수평 방향의 위치와 상기 흡인구의 중심부의 수평 방향의 위치가 일치하고, 상기 노즐의 선단부의 전방측 단부와, 상기 흡인구의 전방측 단부 사이의 거리가 정해진 값이 되도록 상기 노즐의 위치를 조정하는 제어를 수행하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 의하면, 도포 처리 장치에 의해 기판에 대하여 도포 처리를 함에 있어서, 도포액을 공급하는 노즐의 위치 조정을 작업원의 숙련도에 상관없이 정확하고 신속하게 행하는 것을 목적으로 한다.
도 1은 본 실시형태에 따른 도포 처리 장치의 구성의 개략을 도시하는 종단면도이다.
도 2는 본 실시형태에 따른 도포 처리 장치의 구성의 개략을 도시하는 횡단면도이다.
도 3은 도포액 노즐 및 스핀척 근방의 기기 구성의 개략을 도시하는 사시도이다.
도 4는 표시부에 표시된 화상을 도시하는 설명도이다.
도 5는 도포 처리의 주된 공정을 도시하는 흐름도이다.
도 6은 CCD 카메라를 컵에 고정한 경우에 그 컵 근방의 기기 구성의 개략을 도시하는 사시도이다.
도 7은 다른 실시형태에 따른 도포 처리 장치의 구성의 개략을 도시하는 종단면도이다.
도 8은 다른 실시형태에 따른 도포 처리 장치의 구성의 개략을 도시하는 횡단면도이다.
도 9는 표시부에 표시된 화상을 도시하는 설명도이다.
이하, 본 발명의 실시형태에 대해서 설명한다. 도 1은 본 실시형태에 따른 위치 조정 방법이 행해지는 도포 처리 장치(1)의 구성의 개략을 도시하는 종단면도이다. 도 2는 도포 처리 장치(1)의 구성의 개략을 도시하는 횡단면도이다.
도포 처리 장치(1)는 도 1에 도시하는 바와 같이, 처리 용기(10)를 갖고 있다. 처리 용기(10) 안의 중심부에는, 웨이퍼(W)를 유지하여 회전시키는 회전 유지 부재로서의 스핀척(20)이 설치되어 있다. 스핀척(20)은 수평인 상면을 가지며, 그 상면의 중심부에는, 예컨대 웨이퍼(W)를 흡인하는 흡인구(20a)가 형성되어 있다. 이 흡인구(20a)로부터의 흡인에 의해, 웨이퍼(W)를 스핀척(20) 위에 흡착 유지할 수 있다.
스핀척(20)은, 예컨대 모터 등을 구비한 척 구동 기구(21)를 가지며, 그 척 구동 기구(21)에 의해 정해진 속도로 회전할 수 있다. 또한, 척 구동 기구(21)에는, 실린더 등의 승강 구동원이 설치되어 있어, 스핀척(20)은 상하 이동 가능하게 된다.
스핀척(20)의 주위에는, 웨이퍼(W)로부터 비산 또는 낙하하는 액체를 받아내어, 회수하는 컵(22)이 설치되어 있다. 컵(22)의 하면에는, 회수한 액체를 배출하는 배출관(23)과, 컵(22) 안의 분위기를 배기하는 배기관(24)이 접속되어 있다.
도 2에 도시하는 바와 같이 컵(22)의 X 방향 부(負)방향(도 2의 하측 방향)측에는, Y 방향(도 2의 좌우 방향)을 따라 연신되는 레일(30)이 형성되어 있다. 레일(30)은, 예컨대 컵(22)의 Y 방향 부방향(도 2의 좌측 방향)측의 바깥쪽으로부터 Y 방향 정방향(도 2의 우측 방향)측의 바깥쪽까지 형성되어 있다. 레일(30)에는, 예컨대 2개의 아암(31, 32)이 부착되어 있다.
제1 아암(31)에는, 도 1 및 도 2에 도시하는 바와 같이 웨이퍼(W)에 도포액으로서의, 예컨대 레지스트액을 공급하는 도포액 노즐(33)이 지지되어 있다. 도포액 노즐(33)은 그 선단이 대략 원뿔 형상을 한 원통형으로 형성되어 있다.
제1 아암(31)은 도 2에 도시하는 노즐 구동부(34)에 의해, 레일(30) 위에서 이동 가능하다. 이것에 의해, 도포액 노즐(33)은 컵(22)의 Y 방향 정방향측의 바깥쪽에 설치된 대기부(35)로부터 컵(22) 안의 웨이퍼(W)의 중심부 위쪽까지 이동할 수 있고, 그 웨이퍼(W)의 표면 위에서 웨이퍼(W)의 직경 방향으로 더 이동할 수 있다. 또한, 제1 아암(31)은 노즐 구동부(34)에 의해 승강 가능하고, 도포액 노즐(33)의 높이를 조정할 수 있다. 노즐 구동부(34)에는 그 노즐 구동부(34)의 위치 정보를 검출하기 위한, 예컨대 로터리 인코더(도시 생략)가 내장되어 있다. 또한, 노즐 구동부(34)는 10 ㎛의 정밀도로 도포액 노즐(33)의 위치를 조정하는 것이 가능하다.
도포액 노즐(33)에는, 도 1에 도시하는 바와 같이, 도포액 공급원(36)에 연통하는 공급관(37)이 접속되어 있다. 도포액 공급원(36) 안에는, 도포액으로서의 레지스트액이 저류되어 있다. 공급관(37)에는, 도포액의 흐름을 제어하는 밸브나 유량 조절부 등을 포함하는 공급 기기군(38)이 설치되어 있다.
제2 아암(32)에는, 레지스트액의 용제, 예컨대 시너를 공급하는 용제 노즐(40)이 지지되어 있다. 제2 아암(32)은 도 2에 도시하는 노즐 구동부(41)에 의해 레일(30) 위에서 이동 가능하며, 용제 노즐(40)을, 컵(22)의 Y 방향 부방향측의 바깥쪽에 설치된 대기부(42)로부터 컵(22) 안의 웨이퍼(W)의 중심부 위쪽까지 이동시킬 수 있다. 또한, 노즐 구동부(41)에 의해, 제2 아암(32)은 승강 가능하고, 용제 노즐(40)의 높이를 조절할 수 있다.
용제 노즐(40)에는, 도 1에 도시하는 바와 같이 용제 공급원(43)에 연통하는 공급관(44)이 접속되어 있다. 용제 공급원(43) 안에는, 용제가 저류되어 있다. 공급관(44)에는, 용제의 흐름을 제어하는 밸브나 유량 조절부 등을 포함하는 공급 기기군(45)이 설치되어 있다. 또한, 이상의 구성에서는, 레지스트액을 공급하는 도포액 노즐(33)과 용제를 공급하는 용제 노즐(40)이 각각의 아암에 지지되어 있지만, 동일한 아암에 지지되어, 그 아암의 이동 제어에 따라, 도포액 노즐(33)과 용제 노즐(40)의 이동과 공급 타이밍을 제어하여도 좋다.
또한, 예컨대 도 2 및 도 3에 도시하는 바와 같이, 제1 아암(31)에는, 도포액 노즐(33)의 선단부를 광학적으로 촬상하기 위한 촬상 수단으로서의, 예컨대 2대의 CCD 카메라(50, 51)가 설치되어 있다. 이 CCD 카메라(50, 51)로는, 고해상도의 것이 이용된다. 해상도로서는, 예컨대 40 ㎛이다.
이 2대의 CCD 카메라(50, 51)는 각각의 촬상하는 방향이 대략 직교하는 방향에서 도포액 노즐(33)의 선단부를 촬상할 수 있도록, 서로의 촬상 방향이 평면에서 봤을 때 직교하도록 수평 방향의 배치가 조정되어 있다. 또한, CCD 카메라(50, 51)의 높이 방향의 위치는 스핀척(20)의 중심부의 흡인구(20a)를 도포액 노즐(33)과 동일한 시야의 범위 내에서 촬상할 수 있도록 배치가 조정되어 있다. CCD 카메라(50, 51)는 고정 부재(52)를 통해 제1 아암(31)에 고정되어 있다. 이와 같이, 도포액 노즐(33)과 CCD 카메라(50, 51)의 상대적인 위치 관계가 고정되어 있기때문에, CCD 카메라(50, 51)는 도포액 노즐(33)을 항상 동일한 위치에서 촬상할 수 있다. 이 때문에, CCD 카메라(50, 51)는 도포액 노즐(33)과 흡인구(20a)의 위치 관계를 정확히 파악할 수 있다. 또한, 도 1 및 도 3에서는, CCD 카메라(50, 51)를 도포액 노즐(33)의 선단부와 거의 동일한 높이로 배치하고, 촬상 방향이 수평 방향을 향한 상태를 도시하고 있지만, CCD 카메라(50, 51)의 배치나 촬상 방향의 상하 방향은 본 실시형태에 한정되는 것이 아니라, 촬상 대상이 되는 스핀척(20) 및 도포액 노즐(33) 양쪽 모두를 적절히 촬상할 수 있으면, 임의로 설정이 가능하다.
이와 같이, 2대의 CCD 카메라(50, 51)를 그 촬상 방향이 직교하도록 배치함으로써, 예컨대 CCD 카메라(50)로 도포액 노즐(33)의 좌우 방향의 위치를, CCD 카메라(51)로 도포액 노즐(33)의 안길이 방향의 위치를 검출할 수 있다. 이 때문에, 예컨대 2대의 CCD 카메라(50, 51)로 도포액 노즐(33)과 스핀척의 중심부에 대응하는 흡인구(20a)를 촬상하여, CCD 카메라(50)로 촬상한 화상과, CCD 카메라(51)로 촬상한 화상 양쪽 모두에 있어서, 도포액 노즐(33)의 수평 방향에서의 중심 위치와 흡인구(20a)의 수평 방향에서의 중심 위치가 일치하면, 도포액 노즐(33)의 선단부가 스핀척(20)의 중심부의 수직 위쪽에 위치해 있다고 판단할 수 있다. 또한, 도포액 노즐(33)의 수평 방향의 중심 위치와 흡인구(20a)의 수평 방향의 중심 위치가 일치한다는 것은 양자가 엄밀하게 일치하는 것을 의미하는 것이 아니라, 양자의 위치가 수평 방향에서 정해진 거리 이내에 있는 것을 의미한다. 또한, 이 경우, 정해진 거리로서는 예컨대 0.5 ㎜ 이내인 것이 바람직하다.
도포액 노즐(33)과 스핀척(20)은 CCD 카메라(50, 51)에 의한 촬상을 위해, 도시하지 않는 광원에 의해 조사된다. 광원으로서는, 레지스트액을 감광시키는 외란을 제거하기 위해, 적외광을 조사하는 LED 램프 등이 이용된다.
도포 처리 장치(1)에는, 전술한 스핀척(20)의 회전 동작과 상하 동작, 노즐 구동부(34)에 의한 도포액 노즐(33)의 이동 동작, 공급 기기군(38)에 의한 도포액 노즐(33)의 레지스트액의 공급 동작, 노즐 구동부(41)에 의한 용제 노즐(40)의 이동 동작, 공급 기기군(45)에 의한 용제 노즐(40)의 용제의 공급 동작 등의 구동계의 동작, 각 구동계의 위치 정보의 인식, 및 CCD 카메라(50, 51)에 의한 촬상 제어나 촬상된 화상을 분석하는 제어부(100)가 구비된다. 각 구동계의 위치 정보의 인식은, 예컨대 전술한 로터리 인코더로부터의 신호에 기초하여 이루어진다. 제어부(100)는, 예컨대 CPU나 메모리 등을 구비한 컴퓨터에 의해 구성되고, 예컨대 메모리에 기억된 프로그램을 실행함으로써, 도포 처리 장치(1)에서의 도포 처리를 실현할 수 있다. 또한, 도포 처리 장치(1)에서의 도포 처리를 실현하기 위한 각종 프로그램은, 예컨대 컴퓨터 판독 가능한 하드 디스크(HD), 플렉시블 디스크(FD), 콤팩트 디스크(CD), 마그넷 광디스크(MO), 메모리 카드 등의 기억 매체(H)에 기억되어 있는 것으로서, 그 기억 매체(H)로부터 제어부(100)에 인스톨된 것이 이용된다.
제어부(100)에는, CCD 카메라(50, 51)에 의해 촬상된 화상을 표시하는 표시부(101)와, 표시된 화상에 기초하여 작업원이 도포액 노즐(33)의 센터링 작업을 수행하기 위한 조작부(102)가 접속되어 있다. 표시부(101)에는, 예컨대 도 4에 도시하는 바와 같이, CCD 카메라(50)에 의해 촬상된 화상(50a)과, CCD 카메라(51)에 의해 촬상된 화상(51a)이 각각 표시된다. 또한, 조작부(102)에서는, 노즐 구동부(34)를 임의로 조작할 수 있다. 따라서, 전술한 바와 같이 화상(50a)과 화상(51a) 양쪽 모두에 있어서 도포액 노즐(33)의 선단부의 중심 위치와 스핀척(20)의 중심부 위치가 수평 방향에서 일치하도록 조작부(102)에 의해 노즐 구동부(34)를 조작함으로써, 도포액 노즐(33)의 센터링 작업을 수행할 수 있다. 도 4에 도시하는 경우를 예로 설명하면, CCD 카메라(51)에 의해 촬상된 화상(51a)에서는, 도포액 노즐(33)의 선단부의 중심 위치가 흡인구(20a)의 중심 위치로부터 우측으로 어긋나 있다. 이 경우, 도포액 노즐(33)의 중심 위치가 흡인구(20a)에 대하여, 도 2에 도시하는 Y 방향 부방향측으로 어긋나 있다고 판단할 수 있기 때문에, 조작부(102)에 의해 노즐 구동부(34)를 도 2의 Y방향 정방향측으로 이동시켜, 화상(51a)에서의 도포액 노즐(33)의 선단부의 중심 위치와 흡인구(20a)의 중심 위치를 일치시킴으로써, 도포액 노즐(33)과 스핀척(20)의 센터링이 이루어진다.
그리고, 센터링 작업이 완료되면, 센터링 작업이 완료되기 전에 제어부(100)에 기억되어 있던 도포액 노즐(33)의 위치 정보는 센터링 작업 완료 후의 도포액 노즐의 위치 정보에 재기록된다. 또한, 조작부(102)는 작업원에 의한 수동 조작만이 아니라, 예컨대 화상 인식 기능에 의해 촬상된 도포액 노즐(33)의 선단부와 스핀척(20)의 중심부의 위치를 인식하고, 인식된 위치에 기초하여 도포액 노즐(33)의 선단부가 스핀척(20)의 중심이 되는 위치와 일치하도록 노즐 구동부(34)를 자동으로 조작하도록 구성되어 있어도 좋다. 이러한 경우도, 도포액 노즐(33)의 위치 정보는 센터링 작업 후에 재기록된다.
또한, 도포액 노즐(33)의 중심 위치의 검출은, 예컨대 도포액 노즐(33)의 선단부 중, 화상(50a, 51a)에 표시된 좌우의 단부(33a, 33b)의 위치를 검출하여, 그 단부(33a, 33b)를 연결한 직선의 중간 위치를 도포액 노즐(33)의 중심 위치(33c)로서 인식함으로써 이루어진다. 이와 같이, 도포액 노즐(33)의 단부(33a, 33b)를 검출함으로써, 예컨대 도포액 노즐(33)이 기울어져 있는 경우라도, 그 도포액 노즐(33)의 선단부의 중심 위치(33c)를 정확하게 구할 수 있다.
다음에, 이상과 같이 구성된 도포 처리 장치(1)에서 이루어지는 도포 처리의 프로세스에 대해서 설명한다. 도 5는 이러한 도포 처리의 주된 공정의 예를 나타내는 흐름도이다.
도포 처리를 함에 있어서 웨이퍼(W)를 도포 처리 장치(1)에 반입하기 전에, 먼저 제1 아암(31)을, 제어부(100)에 기억되어 있는 도포액 노즐(33)의 위치 정보에 기초하여 이동시킨다(도 5의 공정 S1). 이어서, CCD 카메라(50, 51)에 의해 도포액 노즐(33)의 선단부와 스핀척(20)의 중심부인 흡인구(20a)를 각각 촬상한다(도 5의 공정 S2). 이어서, 예컨대 작업원이 표시부(101)에 표시된 화상(50a, 51a)을 확인하여, 도포액 노즐(33)의 중심 위치와 스핀척(20)의 중심 위치가 어긋나 있는 경우는, 조작부(102)에 의해 노즐 구동부(34)를 조작하여 센터링 작업을 수행한다(도 5의 공정 S3). 그리고, 센터링 작업이 완료되면, 제어부(100)에 기억되어 있는 도포액 노즐(33)의 위치 정보가 센터링 작업 후의 위치 정보로 갱신되고(도 5의 공정 S4), 센터링 작업 후의 위치 정보가 도포액 노즐(33)의 토출 위치인 것으로 인식된다.
도포액 노즐(33)의 센터링 작업이 완료되면, 도포액 노즐(33)이 대기부(35)로 이동하고, 이어서 웨이퍼(W)가 도포 처리 장치(1)의 처리 용기(10) 안으로 도시하지 않는 반송 기구에 의해 반입된다(도 5의 공정 S5). 도포 처리 장치(1)에 반입된 웨이퍼(W)는 스핀척(20)에 흡착 유지된다.
계속해서 제2 아암(32)에 의해 대기부(42)의 용제 노즐(40)이 웨이퍼(W)의 중심부 위쪽까지 이동하여, 용제가 웨이퍼(W)의 상면에 공급된다(도 5의 공정 S6). 그 후, 척 구동 기구(21)를 제어하여 스핀척(20)에 의해 웨이퍼(W)를 예컨대 500 rpm의 회전수로 회전시켜, 웨이퍼(W)의 중심부에 공급된 용제를 웨이퍼(W)의 외주부를 향해 확산시킨다(도 5의 공정 S7). 이것에 의해, 웨이퍼(W)의 표면이 용제로 젖은 상태가 된다. 그 후, 용제가 웨이퍼(W)의 표면 전체면으로 확산되면, 용제 노즐(40)이 웨이퍼(W)의 중심부 위쪽으로부터 대기부(42)로 후퇴한다.
이어서, 제1 아암(31)에 의해 대기부(35)의 도포액 노즐(33)을 웨이퍼(W)의 중심부 위쪽, 즉 전술한 공정 S4에서 갱신된 토출 위치까지 이동시킨다(도 5의 공정 S8). 그 후, 웨이퍼(W)를 예컨대 2000 rpm?3500 rpm, 본 실시형태에서는 3000 rpm의 회전수까지 가속하여 회전시킨다. 그리고, 이 웨이퍼(W)의 가속 회전중 및 3000 rpm의 회전수에서의 회전중에, 도포액 노즐(33)로부터 도포액으로서의 레지스트액을 연속하여 공급하고(도 5의 공정 S9), 도포액 노즐(33)로부터 공급된 레지스트를, 웨이퍼(W)의 회전에 의해 웨이퍼(W) 위에 확산시킨다.
그 후, 도포액 노즐(33)로부터의 레지스트액의 공급을 정지하고, 도포액 노즐(33)을 대기부(35)로 후퇴시킨다. 그와 함께, 웨이퍼(W)의 회전수를 예컨대 1000 rpm?1800 rpm, 본 실시형태에서는 1500 rpm까지 감속시켜, 웨이퍼(W) 표면의 전체면에 확산된 레지스트액을 건조시킨다(도 5의 공정 S10). 이것에 의해, 웨이퍼(W) 위에 레지스트막이 형성된다.
그 후, 웨이퍼(W)의 이면이 세정되고, 레지스트 도포 장치(1)에서의 웨이퍼(W)의 도포 처리가 종료된다. 도포 처리가 종료된 웨이퍼(W)는 반송 기구(도시 생략)에 의해 처리 용기(10)로부터 반출된다(도 5의 공정 S11).
웨이퍼(W)가 처리 용기(10)로부터 반출된 상태, 바꿔 말하면, 스핀척(20)의 상면으로부터 웨이퍼(W)가 제거되고, 스핀척(20)에 의해 웨이퍼(W)가 유지되어 있지 않은 상태가 되면, 도포액 노즐(33)은 제어부(100)에 기억되어 있는 위치 정보에 기초하여 토출 위치로 이동한다(도 5의 공정 S12). 이어서, CCD 카메라(50, 51)에 의해 도포액 노즐(33)의 선단부와 스핀척(20)의 흡인구(20a)가 다시 촬상되고, 촬상된 화상(50a, 51a)으로부터 구한 도포액 노즐(33)의 위치 정보와, 제어부(100)에 기억되어 있는 위치 정보가 비교된다(도 5의 공정 S13). 이 때, 비교한 위치 정보에 차가 생기면, 도포액 노즐(33)의 위치에 어떠한 원인에 의해 어긋남이 생긴 것으로 판단된다. 그리고, 어긋남이 생긴 경우에는, 조작부(102)에 의해 노즐 구동부(34)가 조작되어, 기억부(100)에 기억된 위치 정보에 기초하여 도포액 노즐(33)의 위치가 조정된다(도 5의 공정 S14). 위치 어긋남이 없다고 판단된 경우는, 공정 S14는 이루어지지 않는다. 또한, 공정 S13에서 비교된 위치 정보에 차가 있는 경우는, 노즐 구동부(34)의 조작 이외에, 예컨대 경보음 등을 발보하여 작업원에게 도포액 노즐(33)에 위치 어긋남이 생긴 것을 알리도록 하여도 좋다.
이와 같이, 웨이퍼(W)가 처리 용기(10)로부터 반송된 후에 도포액 노즐(33)의 위치 조정은 공정 S1 내지 S4에서 센터링 조정이 정밀도 좋게 행해진 경우라도, 도포액 노즐(33)을 이동시키는 노즐 구동부(34)의 기계적인 여유의 시간 경과에 따른 변화나, 도포액 노즐(33)이 예컨대 반송 기구(도시 생략)와 같은 다른 기기와 물리적으로 간섭한 것 등이 원인이 되어, 사후적으로 도포액 노즐(33)의 위치가 어긋나는 경우가 있기 때문이다. 그리고, 이러한 사후적인 도포액 노즐(33)의 위치 어긋남도 역시 도포 불량 발생의 원인이 된다.
그러나, 이러한 사후적인 도포액 노즐(33)의 위치 어긋남은 그것을 검출하는 수단이 없기 때문에, 위치 어긋남에 의한 도포 불량을 미연에 방지하는 것이 어렵다. 이 때문에, 도포 불량이 발생하여도, 예컨대 도포 처리 장치(1)에서 웨이퍼(W)의 처리가 완료된 후에 이루어지는 웨이퍼 검사 공정까지 이상을 발견할 수 없다. 이 경우, 이상이 발견될 때까지는 불량품 웨이퍼의 생산이 계속되고, 또한 이상이 발견되었다고 해도, 이상 발생의 원인 특정을 위해 도포 처리 장치(1)를 멈추고 조사해야 한다. 이 때문에, 그 동안은 웨이퍼(W) 처리를 할 수 없어, 생산성의 저하를 초래하게 된다. 이 때문에, 전술한 공정 S12?공정 S14에서 도포액 노즐(33)의 위치를 조정함으로써, 이러한 사후적인 도포액 노즐(33)의 위치 어긋남이 방지된다.
그 후, 새로운 웨이퍼(W)가 처리 용기(10) 안에 반입되고, 일련의 도포 처리가 반복하여 수행된다.
이상의 실시형태에 의하면, 2대의 CCD 카메라(50, 51)에 의해 촬상된 화상(50a, 51a)에 기초하여 도포액 노즐(33)의 위치를 조정하기 때문에, 작업원의 숙련도에 상관없이 단시간에 센터링 작업을 실시할 수 있다. 또한, 고해상도의 CCD 카메라(50, 51)로 촬상하기 때문에, 작업원의 육안 이상의 정밀도로 위치를 조정할 수 있다.
더 나아가서는, 웨이퍼(W)의 도포 처리 후로서 다음의 웨이퍼(W) 처리를 시작하기 전에 도포액 노즐(33)을 스핀척(20)의 중심부로 이동시켜, CCD 카메라(50, 51)로 촬상한다. 그리고, 도포액 노즐(33)의 위치와 센터링 작업에 의해 설정된 위치를 비교하여, 각각의 위치에 차가 생긴 경우는 도포액 노즐(33)을 센터링 작업에 의해 설정된 위치와 일치하도록 이동시키기 때문에, 도포액 노즐(33)의 위치 어긋남에 의한 도포 불량을 미연에 방지할 수 있고, 도포 처리 장치(1)를 정지시키지 않고 도포액 노즐(33)의 위치를 조정할 수 있다. 이 때문에, 도포 처리 장치(1)의 생산성이 향상된다.
또한, 일반적으로 웨이퍼(W)의 처리는 도포 처리 장치(1)나 현상 처리 장치와 같은 각종 처리 장치를 복수개 구비한 도포 처리 시스템에 의해 연속적으로 이루어지지만, 본 실시형태에 따른 도포 처리 장치(1)를 이용한 경우, 복수의 도포 처리 장치(1)에 있어서의 센터링 작업의 정밀도 사이에 차가 생기지 않기 때문에, 도포 처리 장치(1)에 의한 도포 처리의 품질에 변동이 생기는 것을 방지할 수 있다. 이 때문에, 도포 처리 시스템에 의한 웨이퍼(W)의 처리 품질을 향상시키고 균일화할 수 있다.
이상의 실시형태에서는, CCD 카메라(50, 51)에 의해 도포액 노즐(33)의 선단부를 촬상하기 때문에, 도포액 노즐(33)의 선단부로부터 목적 외의 위치에서 레지스트액이 적하하거나, 적하할 듯한 상태인 드리핑(dripping)이 발생하는 것을 검출할 수 있다.
또한, 이상의 실시형태에서는, 도포액 노즐(33)의 센터링 작업에 대해서 설명했지만, 본 실시형태와 같이 CCD 카메라(50, 51)를 설치하는 대상은 도포액 노즐(33)에 한정되지 않고, 예컨대 제2 아암에도 CCD 카메라(50, 51)를 설치함으로써, 용제 노즐(40)의 센터링 작업을 표시부(101)와 조작부(102)를 통해 수행하도록 하여도 좋다.
또한, 이상의 실시형태에서는, CCD 카메라(50, 51)가 고정 부재(52)를 통해 제1 아암(31)에 고정되어 있었지만, CCD 카메라(50, 51)의 고정 방법은 본 실시형태에 한정되는 것이 아니라, 예컨대 도 6에 도시하는 바와 같이, 예컨대 컵(22) 외부에 설치된 다른 고정 부재(53)를 통해 고정하여도 좋다. 또한, 도 6에서는, 예컨대 수직 방향으로 연신되는 막대 형상의 다른 고정 부재(53)에 의해 CCD 카메라(50, 51)를 고정한 양태를 묘화하고 있지만, 다른 고정 부재(53)의 형상은 CCD 카메라(50, 51)를 고정할 수 있으면 임의로 결정될 수 있다. 또한, 다른 고정 부재(53)와 CCD 카메라(50)의 배치는 그 다른 고정 부재(53)와 CCD 카메라(50, 51)가 아암(31, 32)이나 노즐(33, 40)과 간섭하지 않는 위치이면 임의로 설정될 수 있다. 이러한 경우, CCD 카메라(50, 51)와 흡인구(20a)의 상대적인 위치 관계가 고정되어 있기 때문에, CCD 카메라(50, 51)는 흡인구(20a)를 항상 동일한 위치에서 촬상할 수 있다. 이 때문에, CCD 카메라(50, 51)를 다른 고정 부재(53)에 고정한 경우에서도, 도포액 노즐(33)과 흡인구(20a)의 위치 관계를 정확히 파악할 수 있다.
이상의 실시형태에서는, 공정 S14에서의 도포액 노즐(33)의 위치 조정이 제어부(100)에 기억된 위치 정보에 기초하여 이루어졌지만, CCD 카메라(50, 51)에 의해 촬상된 화상(50a, 51a)에 기초하여, 예컨대 작업원이 조작부(102)를 통해 위치를 조정하도록 하여도 좋다. 예컨대, 노즐 구동부(34)의 기계적인 여유의 시간 경과에 따른 변화 등에 의해 도포액 노즐(33)에 위치 어긋남이 생긴 경우, 제어부(100)에 기억된 정보에 기초하여 노즐 구동부(34)를 제어하여도 도포액 노즐(33)의 중심 위치와 스핀척(20)의 중심 위치가 일치하지 않는 경우가 있다. 따라서, 이러한 경우에는, 작업원이 화상(50a, 51a)을 육안으로 확인하여 도포액 노즐(33)의 위치를 조정하는 것이 바람직하다.
이상의 실시형태에서는, CCD 카메라(50, 51)는 고정 부재(52)를 통해 제1 아암(31)에 고정되어, 제1 아암(31)과 함께 이동하도록 구성되어 있지만, 스핀척(20)의 중심부인 흡인구(20a)와 도포액 노즐(33)의 선단부를 동시에 촬상할 수 있으면 CCD 카메라(50, 51)의 배치는 본 실시형태에 한정되는 것이 아니라, 예컨대 처리 용기(10)의 천정에 고정되어 있어도 좋다. 이러한 경우도, 예컨대 전술한 공정 S1과 공정 S12에서 도포액 노즐(33)을 이동시키고, 천정에 고정된 CCD 카메라로 촬상함으로써, 표시부(101)와 조작부(102)에 의해 센터링 작업을 수행할 수 있다.
이상의 실시형태에서는, 1대의 스핀척(20)이 설치된 도포 처리 장치(1)를 예로서 설명했지만, 예컨대 도 7에 도시하는 바와 같이 처리 용기(110) 안에 복수의 스핀척(20)이 설치된 도포 처리 장치(120)에서, 아암(31)에 CCD 카메라(50, 51)를 설치하여도 좋다. 또한, 도 7에는 3개의 스핀척(20), 3개의 컵(22) 및 하나의 도포액 노즐(33)을 설치한 양태를 도시하고 있다. 이러한 경우도, 미리 각 스핀척(20)의 중심부와 도포액 노즐(33)의 선단부를 CCD 카메라(50, 51)로 촬상해서 센터링 작업을 수행하여, 각 스핀척(20)에 대응하는 도포액 노즐(33)의 위치 정보를 제어부(100)에 기억시킨다. 그리고, 도포 처리 장치(120)에 의해 도포 처리를 시작한 후에, 웨이퍼(W)가 스핀척(20)에 유지되어 있지 않은 타이밍에 도포액 노즐(33)을 그 스핀척(20)의 중심부로 이동시켜, CCD 카메라(50, 51)로 도포액 노즐(33)의 선단부와 스핀척(20)의 중심부를 촬상한다. 그리고, 촬상된 화상과 제어부(100)에 기억되어 있는 도포액 노즐(33)의 위치 정보에 기초하여, 각 스핀척(20)에 대한 도포액 노즐(33)의 위치를 조정함으로써, 스핀척(20)의 중심 위치와 도포액 노즐(33)의 중심 위치를 일치시킬 수 있다.
또한, 도포 처리 장치(120)에서도, 다른 고정 부재(53)를 이용하여 CCD 카메라를 고정하여도 좋다. 다른 고정 부재(53)를 이용하는 경우, 3개의 컵(22)에 대하여 각각 2대의 CCD 카메라(50, 51)를 서로의 촬상 방향이 직교하도록, 즉 총 6대의 CCD 카메라(50, 51)를 배치하여도 좋다. 또한, 3개의 컵(22)에 대하여 6대의 CCD 카메라(50, 51)를 배치하는 것이 아니라, 예컨대 도 8에 도시하는 바와 같이, 컵(22) 사이에는, 공용의 CCD 카메라(60)를 1대씩 배치하도록 하여도 좋다. 이 경우, 3개의 컵(22)에 대하여 4대의 CCD 카메라가 배치된다. 이러한 경우, CCD 카메라(60)를 고정하는 다른 고정 부재(53)를 수직축 둘레로 회전시키는 회동 기구(도시 생략)를 설치하여, CCD 카메라(60)를 회전 가능하게 구성함으로써, 4대의 CCD 카메라(50, 51, 60)에 의해 3개의 스핀척(20)의 중심부를 촬상할 수 있다. 구체적으로는, 예컨대 도 8에 도시하는 바와 같이, 2대의 CCD 카메라(60)로 그 CCD 카메라(60) 사이에 위치하는 컵(22)의 스핀척을 촬상한 후, 예컨대 CCD 카메라(50)와 인접하는 CCD 카메라(60)의 촬상 방향을 CCD 카메라(50)의 촬상 방향과 직교시키도록, CCD 카메라(60)를 수직축 둘레로 회전시킨다. 이것에 의해, CCD 카메라(50)와 CCD 카메라(60)를 이용하여, 그 CCD 카메라(50, 60) 사이에 위치하는 스핀척(20)의 중심부를 촬상할 수 있다.
이상의 실시형태에서는, CCD 카메라(50, 51)로 스핀척(20)의 중심부와 도포액 노즐(33)의 선단부를 촬상하는 타이밍으로서 웨이퍼(W)의 도포 처리 동안을 예로서 설명했지만, 도포액 노즐(33)의 선단부의 촬상은 스핀척(20)에 웨이퍼(W)가 유지되어 있지 않은 상태이면, 임의의 타이밍에 이루어지도록 하여도 좋다. 이러한 경우, 예컨대 웨이퍼(W)의 로트와 로트의 전환 타이밍에 1로트마다 이루어지도록 하여도 좋다.
또한, 이상의 실시형태에서는, CCD 카메라(50, 51)로 도포액 노즐(33)과 흡인구(20a)를 촬상한 후에 연속해서 도포액 노즐(33)의 위치를 조정했지만, 촬상과 위치 조정은 반드시 연속으로 이루어질 필요는 없고, 예컨대 촬상에 의해 검출한 도포액 노즐(33)의 위치 정보를 일단 제어부(100)에 기억시키고, 그 후 임의의 타이밍에 도포액 노즐(33)의 위치를 조정하도록 하여도 좋다.
이상의 실시형태에서는, 2대의 CCD 카메라(50, 51)를 그 촬상 방향이 평면에서 봤을 때 직교하도록 배치하여 촬상했지만, 예컨대 스핀척(20) 위에서 도포액 노즐(33)을 하강시키고, 그 도포액 노즐(33)의 선단부를 스핀척(20)의 상면에 근접시켜, 1대의 CCD 카메라에 의해 도포액 노즐(33)의 좌우 방향뿐만 아니라 안길이 방향의 위치를 검출하도록 하여도 좋다. 1대의 CCD 카메라에 의해 도포액 노즐(33)의 위치를 검출하는 경우, 도포액 노즐(33)의 선단부의 높이 방향의 위치가 스핀척(20)의 상면으로부터 예컨대 0.5 ㎜ 위쪽이 되도록 도포액 노즐(33)과 스핀척(20)의 흡인구(20a)를 근접시킨다. 이 때, CCD 카메라의 배치는 흡인구(20a)와 도포액 노즐(33)의 선단부가 시야 내에 들어오도록 조정된다.
그리고, 예컨대 1대의 CCD 카메라(50)로 도포액 노즐(33)의 센터링 작업을 수행할 때는, 먼저, 촬상된 화상(50a)에서의 도포액 노즐(33)의 중심 위치(33c)와 흡인구(20a)의 중심 위치를 일치시킴으로써, 기술한 바와 같이, 도포액 노즐(33)과 흡인구(20a)의 좌우 방향의 위치 조정이 이루어진다. 이어서, 도 9에 도시하는 바와 같이, 표시부(101)에 표시된 도포액 노즐(33)의 선단부 전방측 단부(33d)와, 흡인구(20a) 전방측 단부 사이의 거리(L)가 정해진 값이 되도록 노즐 구동부(34)를 조작하여, 도포액 노즐(33)의 안길이 방향의 위치가 조정된다. 여기서, 도포 노즐(33)과 CCD 카메라(50)의 위치 관계, 및 스핀척(20)의 상면으로부터의 도포액 노즐(33)의 선단부의 높이 방향의 위치는 미리 알려져 있고, 변동하지 않기 때문에, 도포액 노즐(33)의 중심 위치(33c)와 흡인구(20a)의 중심이 일치하는 경우에 전술한 거리(L)가 어떤 값이 될지 미리 구해 둘 수 있다. 따라서, 이 거리(L)를 미리 구해 둔 값과 일치시킴으로써, 1대의 CCD 카메라(50)에 의해 도포액 노즐(33)을 센터링할 수 있다. 이러한 경우, CCD 카메라 1대가 필요없게 되기 때문에, 설비 비용을 저감할 수 있다. 또한, 상기한 실시형태에서, 스핀척(20)의 상면으로부터 0.5 ㎜로 했던 도포액 노즐(33)의 선단부의 높이 방향의 위치는 임의로 설정될 수 있지만, 거리(L) 조정을 정밀도 좋게 하기 위해서는, 0.5 ㎜ 이하로 하는 것이 바람직하다.
이상, 첨부 도면을 참조하면서 본 발명의 적합한 실시형태에 대해서 설명했지만, 본 발명은 이러한 예에 한정되지 않는다. 당업자라면, 특허청구범위에 기재된 사상의 범주 내에서, 각종 변경예 또는 수정예에 상도할 수 있는 것은 명백하고, 이들에 대해서도 당연히 본 발명의 기술적 범위에 속하는 것으로 양해된다. 본 발명은 이 예에 한정되지 않고 여러 가지의 양태를 채용할 수 있다. 또한, 전술한 실시형태는 웨이퍼에 도포 처리를 하는 예였지만, 본 발명은 기판이 웨이퍼 이외의 FPD(플랫 패널 디스플레이), 포토마스크용의 마스크 레티클 등의 다른 기판인 경우에도 적용될 수 있다.
본 발명은 도포 처리 장치에 의해 기판에 대하여 도포 처리를 함에 있어서, 도포액을 공급하는 노즐의 위치를 조정할 때에 유용하다.
1: 도포 처리 장치 10: 처리 용기
20: 스핀척 20a: 흡인구
21: 척 구동 기구 22: 컵
23: 배출관 24: 배기관
30: 레일 31, 32: 아암
33: 도포액 노즐 34: 노즐 구동부
35: 대기부 36: 도포액 공급원
37: 공급관 38: 공급 기기군
40: 용제 노즐 41: 노즐 구동부
42: 대기부 43: 용제 공급원
44: 공급관 45: 공급 기기군
50, 51: CCD 카메라 52: 고정 부재
53: 다른 고정 부재 60: CCD 카메라
100: 제어부 101: 표시부
102: 조작부 110: 처리 용기
120: 도포 처리 장치

Claims (8)

  1. 회전 유지 부재에 의해 유지된 기판 위에 노즐로부터 도포액을 공급하고, 상기 회전 유지 부재를 회전시킴으로써 기판에 도포 처리를 하는 도포 처리 장치에서, 상기 노즐의 위치를 조정하는 방법에 있어서,
    상기 노즐을, 기판이 유지되어 있지 않은 상태의 상기 회전 유지 부재의 중심부 위쪽으로 이동시키고,
    그 후, 상기 회전 유지 부재의 중심부 및 상기 노즐의 선단부를 촬상 수단에 의해 촬상하며,
    촬상된 화상에 있어서, 상기 노즐의 선단부 중심의 수평 방향의 위치와 상기 회전 유지 부재의 중심부의 수평 방향의 위치가 일치하도록 상기 노즐의 위치를 조정하는 것을 특징으로 하는 노즐의 위치 조정 방법.
  2. 제1항에 있어서, 조정된 노즐의 위치 정보를 기억하고,
    그 후, 상기 회전 유지 부재에 기판을 유지하여 그 기판에 도포 처리를 하며,
    그 후, 도포 처리 후의 기판을 상기 회전 유지 부재로부터 제거하고, 그 회전 유지 부재에 기판이 유지되어 있지 않은 상태에서 상기 노즐을 상기 회전 유지 부재의 중심부 위쪽으로 이동시키며,
    그 후, 상기 노즐의 선단부 및 상기 회전 유지 부재의 중심부를 촬상 수단에 의해 촬상하고,
    그 후, 촬상된 화상으로부터 구한 상기 노즐의 위치 정보와 기억된 노즐의 위치 정보를 비교하여, 양 위치 정보에 차가 있는 경우에는, 그 노즐의 위치가 상기 기억된 노즐의 위치 정보와 일치하도록 상기 노즐을 이동시키는 것을 특징으로 하는 노즐의 위치 조정 방법.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 노즐의 선단부 및 상기 회전 유지 부재의 중심부의 촬상은 2대의 촬상 수단에 의해 이루어지고,
    상기 2대의 촬상 수단에 의한 촬상은 서로의 촬상 방향이 평면에서 봤을 때 직교하는 방향에서 이루어지는 것을 특징으로 하는 노즐의 위치 조정 방법.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 촬상 수단에 의해 촬상되는 상기 회전 유지 부재의 중심부는 상기 회전 유지 부재의 중심부에 형성되며 상기 기판을 흡착 유지하는 흡인구이고,
    상기 촬상된 화상에 있어서, 상기 노즐의 선단부 중심의 수평 방향의 위치와 상기 흡인구의 중심부의 수평 방향의 위치가 일치하며, 상기 노즐의 선단부의 전방측 단부와, 상기 흡인구의 전방측 단부 사이의 거리가 정해진 값이 되도록 상기 노즐의 위치를 조정하는 것을 특징으로 하는 노즐의 위치 조정 방법.
  5. 제1항 또는 제2항에 기재된 노즐의 위치 조정 방법을 도포 처리 장치에 의해 실행시키기 위해, 그 도포 처리 장치를 제어하는 제어부의 컴퓨터 상에서 동작하는 프로그램을 저장한 컴퓨터 판독 가능한 기억 매체.
  6. 회전 유지 부재에 의해 유지된 기판 위에 노즐로부터 도포액을 공급하고, 상기 회전 유지 부재를 회전시킴으로써 기판에 도포 처리를 하는 도포 처리 장치에 있어서,
    도포액을 기판 위에 공급하는 도포액 노즐과,
    상기 노즐을 이동시키는 이동 기구와,
    상기 노즐의 선단부 및 상기 회전 유지 부재의 중심부를 촬상하는 촬상 수단과,
    상기 이동 기구와 상기 촬상 수단의 동작을 제어하는 제어부
    를 가지며,
    상기 촬상 수단은 서로의 촬상 방향이 평면에서 봤을 때 직교하는 방향에서 촬상하도록 2대 설치되고,
    상기 제어부는 촬상된 화상에 있어서, 상기 노즐의 선단부 중심의 위치와 상기 회전 유지 부재의 중심부의 위치가 일치하도록 상기 노즐의 위치를 조정하는 제어를 수행하는 것을 특징으로 하는 도포 처리 장치.
  7. 제6항에 있어서, 상기 제어부는 조정된 노즐의 위치 정보를 기억하고,
    그 후, 상기 회전 유지 부재에 기판을 유지하여 그 기판에 도포 처리를 하며,
    그 후, 도포 처리 후의 기판을 상기 회전 유지 부재로부터 제거하고, 그 회전 유지 부재에 기판이 유지되어 있지 않은 상태에서 상기 노즐을 상기 회전 유지 부재의 중심부 위쪽으로 이동시키며,
    그 후, 상기 노즐의 선단부 및 상기 회전 유지 부재의 중심부를 촬상 수단에 의해 촬상하고,
    그 후, 촬상된 화상으로부터 구한 상기 노즐의 위치 정보와 기억된 노즐의 위치 정보를 비교하여, 양 위치 정보에 차가 있는 경우에는, 그 노즐의 위치가 상기 기억된 노즐의 위치 정보와 일치하도록 상기 노즐을 이동시키는 제어를 수행하는 것을 특징으로 하는 도포 처리 장치.
  8. 회전 유지 부재에 의해 유지된 기판 위에 노즐로부터 도포액을 공급하고, 상기 회전 유지 부재를 회전시킴으로써 기판에 도포 처리를 하는 도포 처리 장치에 있어서,
    도포액을 기판 위에 공급하는 도포액 노즐과,
    상기 노즐을 이동시키는 이동 기구와,
    상기 노즐의 선단부와 상기 회전 유지 부재의 중심부에 형성되며 상기 기판을 흡착 유지하는 흡인구를 촬상하는 촬상 수단과,
    상기 이동 기구와 상기 촬상 수단의 동작을 제어하는 제어부
    를 가지며,
    상기 제어부는 촬상된 화상에 있어서, 상기 노즐의 선단부 중심의 수평 방향의 위치와 상기 흡인구의 중심부의 수평 방향의 위치가 일치하고, 상기 노즐의 선단부의 전방측 단부와, 상기 흡인구의 전방측 단부 사이의 거리가 정해진 값이 되도록 상기 노즐의 위치를 조정하는 제어를 수행하는 것을 특징으로 하는 도포 처리 장치.
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