JP6522797B2 - ダイピックアップ装置 - Google Patents
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Description
以下、本発明の実施形態を、図面に基づいて詳細に説明する。本発明に係るダイピックアップ装置は、例えばダイボンダ、ダイシングされたダイをテープに収容するテーピング装置、或いは前記ダイを基板に実装する部品実装装置などの各種装置に適用することができる。ここでは、当該ダイピックアップ装置が、部品実装装置に適用される例について説明する。
記憶部17に記憶される各種データの一つとして、ウェハマップがある。図4(A)は、典型的なウェハWの上面視の平面図、図4(B)は、そのウェハWについてのウェハマップWMの一例を示す図である。図4(A)に示すように、ウェハWにはダイシングによって独立化された複数のベアチップCが存在する。ベアチップCは、ウェハシート上においてXY方向にマトリクス配列された状態にある。これらベアチップCの各々は、XY座標系に基づくアドレスによって位置が管理される。
上記の不具合の解消のため、本実施形態では、ベアチップCのピックアップ作業に先立って、ウェハWが固有に備える形状的特徴部を抽出する。そして、この形状的特徴部から導出される基準位置と、リファレンスマークRmとの位置関係から、リファレンスマークRmの位置異常を検出する。位置異常が検出された場合には、マップズレが生じた状態でのピックアップを防止するために、例えばアラームを発報させる。
第2実施形態では、ノッチNやオリエンテーションフラットOFに依存せずに、基準位置Pを設定する例を示す。図12は、リファレンスマークRmの位置異常検知の第2実施形態を説明するための図である。図12に示すように、一般にウェハWは円形の形状を有する。第2実施形態では、ウェハの周縁の円弧形状自体を、形状的特徴部と扱う。このためウェハWは、ノッチN、オリエンテーションフラットOF、或いは他の結晶軸方向を示す他の表示部を有するいずれのウェハであっても良い。
続いて、図14のフローチャートに基づいて、部品実装装置100の動作を説明する。図略の入力装置から制御部12に部品実装開始の指示が与えられると、制御部12はウェハWの搬入作業を実行させる(ステップS1)。具体的には制御部12は、軸制御部13を制御して駆動モータ53を動作させ、ウェハ保持テーブル5をウェハ収納部10の近傍のウェハ受け取り位置へ移動させる。ウェハ収納部10の所定のウェハWがウェハ保持テーブル5に載置されると、制御部12は、そのウェハ保持テーブル5を部品取出作業位置へ向けて移動させる。
Claims (7)
- 複数のダイにダイシングされたウェハであって、任意のダイにリファレンス位置を示すマークが付与されたウェハの画像を撮影する撮像装置と、
前記ウェハ上の既知の基準位置と、前記ウェハの前記マークとの位置関係である設定位置関係を予め記憶する記憶部と、
撮影された前記ウェハの画像を画像処理して、前記マークと前記ウェハの形状的特徴部とを抽出し、前記形状的特徴部に基づいて前記基準位置を導出する抽出処理部と、
前記ウェハの画像から特定される前記基準位置と前記マークとの実測位置関係と、前記記憶部が記憶する前記設定位置関係とを比較することにより、前記マークの位置異常を検出する異常検知部と、
を備えるダイピックアップ装置。 - 請求項1に記載のダイピックアップ装置において、
前記形状的特徴部は、前記ウェハの結晶軸方向を示すノッチである、ダイピックアップ装置。 - 請求項1に記載のダイピックアップ装置において、
前記形状的特徴部は、前記ウェハの結晶軸方向を示すオリエンテーションフラットである、ダイピックアップ装置。 - 請求項1に記載のダイピックアップ装置において、
前記ウェハが円形の形状を有し、
前記形状的特徴部は、前記ウェハの周縁の円弧形状である、ダイピックアップ装置。 - 請求項4に記載のダイピックアップ装置において、
前記基準位置は、前記円弧形状から導出される前記ウェハの中心位置である、ダイピックアップ装置。 - 請求項1〜5のいずれか1項に記載のダイピックアップ装置において、
前記ウェハが搭載される保持テーブルと、
前記保持テーブルに搭載された前記ウェハの、所定の基準線に対するズレを示す回転角を求め、前記ズレが存在している場合に回転角補正データを生成する処理を行う補正部と、をさらに備え、
前記補正部の処理により、前記基準位置が校正される、ダイピックアップ装置。 - 請求項1〜5のいずれか1項に記載のダイピックアップ装置において、
前記ダイをピックアップするヘッドと、
前記ヘッドの動作を制御するピックアップ制御部と、をさらに備え、
前記記憶部には、前記ウェハが備えるダイの各々の評価を示すウェハマップがさらに記憶され、
前記ピックアップ制御部は、前記マークが付与されたダイを基準として、前記ヘッドに最初にピックアップさせるダイを決定する、ダイピックアップ装置。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/JP2016/052549 WO2017130361A1 (ja) | 2016-01-28 | 2016-01-28 | ダイピックアップ装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2017130361A1 JPWO2017130361A1 (ja) | 2018-07-19 |
JP6522797B2 true JP6522797B2 (ja) | 2019-05-29 |
Family
ID=59397619
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017563481A Active JP6522797B2 (ja) | 2016-01-28 | 2016-01-28 | ダイピックアップ装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6522797B2 (ja) |
KR (1) | KR102056656B1 (ja) |
CN (1) | CN108352308B (ja) |
WO (1) | WO2017130361A1 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7195051B2 (ja) * | 2018-02-20 | 2022-12-23 | ワイエイシイガーター株式会社 | 剥離装置 |
CN109449096B (zh) * | 2018-11-08 | 2021-12-03 | 科为升视觉技术(苏州)有限公司 | 识别检测晶元芯片的方法 |
KR102629290B1 (ko) * | 2018-12-13 | 2024-01-29 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치 제조 방법 |
JP7022097B2 (ja) | 2019-03-29 | 2022-02-17 | ファナック株式会社 | 搬送装置及び受渡システム |
CN110390325B (zh) * | 2019-07-30 | 2021-07-02 | 深圳市静尚云科技有限公司 | 一种网络集中式ocr识别系统及方法 |
JP7285162B2 (ja) * | 2019-08-05 | 2023-06-01 | ファスフォードテクノロジ株式会社 | ダイボンディング装置および半導体装置の製造方法 |
WO2023228322A1 (ja) * | 2022-05-25 | 2023-11-30 | ヤマハ発動機株式会社 | ダイピックアップ方法および装置 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0312937A (ja) * | 1989-06-12 | 1991-01-21 | Nec Corp | ペレットの位置合せ方法 |
JP2000232138A (ja) * | 1999-02-09 | 2000-08-22 | Hitachi Ltd | 半導体装置とそのマーク形成装置,その欠陥検査装置 |
JP2006112933A (ja) * | 2004-10-15 | 2006-04-27 | Hitachi High-Tech Electronics Engineering Co Ltd | アライメントマーク検査方法およびプログラム |
JP4946668B2 (ja) * | 2007-07-02 | 2012-06-06 | 日本電気株式会社 | 基板位置検出装置及び基板位置検出方法 |
JP5059518B2 (ja) * | 2007-08-10 | 2012-10-24 | Juki株式会社 | 電子部品実装方法及び装置 |
JP5036789B2 (ja) * | 2009-11-12 | 2012-09-26 | キヤノン株式会社 | 露光装置、位置検出方法、及びデバイス製造方法 |
KR101183101B1 (ko) | 2011-05-06 | 2012-09-21 | 주식회사 프로텍 | 플립칩용 다이 본딩 방법 |
JP5941715B2 (ja) * | 2012-03-19 | 2016-06-29 | ファスフォードテクノロジ株式会社 | ダイピックアップ装置及びダイピックアップ方法 |
TWI545663B (zh) | 2014-05-07 | 2016-08-11 | 新川股份有限公司 | 接合裝置以及接合方法 |
-
2016
- 2016-01-28 WO PCT/JP2016/052549 patent/WO2017130361A1/ja active Application Filing
- 2016-01-28 JP JP2017563481A patent/JP6522797B2/ja active Active
- 2016-01-28 CN CN201680062745.8A patent/CN108352308B/zh active Active
- 2016-01-28 KR KR1020187013994A patent/KR102056656B1/ko active IP Right Grant
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR102056656B1 (ko) | 2019-12-17 |
CN108352308A (zh) | 2018-07-31 |
KR20180071320A (ko) | 2018-06-27 |
JPWO2017130361A1 (ja) | 2018-07-19 |
WO2017130361A1 (ja) | 2017-08-03 |
CN108352308B (zh) | 2022-05-10 |
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A621 | Written request for application examination |
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