JP4895984B2 - 塗布処理装置 - Google Patents
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Description
ここで、
r;半径位置
ω;回転角
ρ;密度(空気の場合;0.00119g/cm3)
μ;粘度(空気の場合;181μP)である。
ここで、
r;半径位置(cm)
ω;回転角(ラジアン)
ρ;密度(空気の場合;0.00119g/cm3)
μ;粘度(空気の場合;181μP)である。
ωmax=280000×181×10-6/0.00119/(rw)2 ・・・(2)
この発明の手法を用いることによって風きり跡が解消できるので、ωmaxは1.2〜2倍程度まで大きな値へ改善することが可能となる。ただし、排気口の場所は、従来の風きり跡が発生する半径位置rcに、対応した配置が必要である。その位置は、式(2)で得られたωmaxに対し、ここでA倍の改善を図るとして、まずはその時のrcを式(1)より計算する。
(rc)2=(rw)2/A
rc=rw/A1/2 ・・・(3)
つまり、ウエハ半径サイズのA-1/2倍の半径位置にて風きり跡が発生することになる。
e=rw−rc−15 ・・・(5)
さて、ここで300mmウエハ(ウエハ半径サイズrw=15cm)において、改善率Aを1.7倍とした時の計算を行う。
ωmax≒188.5(ラジアン)となる。これを回転数に換算すると、188.5÷2π×60≒1800(rpm)に当たる。1.7倍の改善率として、限界の回転数は3000rpmまで可能となる。
rc≒0.77×15=11.6(cm)
つまり、ウエハ中心より116mmの位置にてエクマン渦が発生する。これは、ウエハ外周より34mm内側の位置になる。
e=0.23×15−15≒2(cm)
以上の理由により、300mmウエハを回転数3000rpmで塗布処理する場合、内カップ23及び外カップ26の寸法をd=50mm、e=20mmとすることが好適である。
1 スピンチャック(基板保持台)
2 モータ(回転駆動機構)
3 塗布ノズル
4 ウエハ搬送アーム(基板搬送アーム)
10 処理容器
20 排気機構
21 内側フード部
22 内筒部
23 内カップ
24 外側フード部
25 外筒部
26 外カップ
27a 第1の内側排気通路
27b 第2の内側排気通路
28 外側排気通路
31 第1の排気ポンプ(第1の排気装置)
32 第2の排気ポンプ(第2の排気装置)
33 排気量調整弁
34 取付ブラケット
35 固定段部
36 ウエハ搬入出口(基板搬入出口)
37 シャッタ
38 ブラケット
39 昇降シリンダ
39a ピストンロッド
40 コントローラ(制御手段)
Claims (5)
- 処理容器内に配設され、基板の表面を上面にして保持する基板保持台と、上記基板保持台を鉛直軸回りに回転させる回転駆動機構と、上記基板保持台に保持された基板の表面に向かって塗布液を吐出するノズルと、上記基板保持台に保持された基板の周りを排気する排気機構と、を具備する塗布処理装置において、
上記排気機構は、上記基板保持台に保持された基板の回転に起因して基板表面を流れる気流の乱流及び遷移域より基板周縁側の上方の全周を覆う内側フード部及び上記基板保持台の側方を覆う内筒部を有する内カップと、上記基板表面を流れる気流の乱流及び遷移域の上方の全周を覆う外側フード部及び上記内カップの内筒部を覆う外筒部を有する外カップと、上記内カップに設けられた内側排気通路に連通する第1の排気装置と、上記外カップに設けられた外側排気通路に連通する第2の排気装置と、上記回転駆動機構、第1及び第2の排気装置の駆動を制御する制御手段と、を具備してなり、
上記制御手段からの制御信号に基づいて、上記ノズルから基板表面に塗布液が吐出された後、上記回転駆動機構により基板が回転した際に、上記第1及び第2の排気装置を駆動し、この際、上記外カップの外側排気通路の排気量を、内カップに設けられた内側排気通路の排気量より大きくして、上記乱流及び遷移域の気流を上方側へ排気する、ことを特徴とする塗布処理装置。 - 請求項1記載の塗布処理装置において、
上記外カップに設けられた外側排気通路に排気量調整弁を介設し、上記排気量調整弁の開度を上記制御手段からの制御信号に基づいて調整可能に形成してなる、ことを特徴とする塗布処理装置。 - 請求項1又は2に記載の塗布処理装置において、
上記内カップの内筒部及び外カップの外筒部に基板搬入出口を設けると共に、この基板搬入出口を閉塞するシャッタを開閉可能に形成してなる、ことを特徴とする塗布処理装置。 - 請求項1ないし3のいずれかに記載の塗布処理装置において、
上記内カップ及び外カップを一体に形成し、この一体型カップを処理容器の上部に対して着脱可能に形成してなる、ことを特徴とする塗布処理装置。 - 請求項1又は2に記載の塗布処理装置において、
上記内カップ及び外カップを基板保持台の上部において処理容器に対して昇降可能に形成すると共に、昇降機構によって昇降させる、ことを特徴とする塗布処理装置。
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