JP6312615B2 - 基板処理装置及び基板処理方法 - Google Patents
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Description
9 基板
19 チャンバー
34 第1排気口
39 整流体
42 給気部
43 第1給気部
44 第2給気部
49,50 第2排気口
46,51,52 気流
Claims (9)
- 基板を囲むチャンバーと、
前記チャンバーの内部に上方から下方へ向けて流れる気流を形成する給気部と、
前記チャンバーから前記気流を排出する排気口と、
前記チャンバーの内側に設けられ、上方から下方へ向けて傾斜させた整流体と、
前記整流体に洗浄液を供給する洗浄液供給部と、
を有することを特徴とする基板処理装置。 - 前記整流体を、前記基板の外周端縁よりも外方に設けたことを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記整流体を、樋状に形成したことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の基板処理装置。
- 前記整流体を、螺旋状に形成したことを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれかに記載の基板処理装置。
- 前記チャンバーを、円筒状に形成したことを特徴とする請求項4に記載の基板処理装置。
- 前記排気口は、前記基板の上方において垂直状に流れる気流を排出する第1排気口と、前記整流体に沿って基板の外方を上方から下方に向けて傾斜状に流れる気流を排出する第2排気口とを有することを特徴とする請求項1〜請求項5のいずれかに記載の基板処理装置。
- 前記給気部は、前記基板の上方において垂直状に流れる気流を形成する第1給気部と、前記整流体に沿って基板の外方を上方から下方に向けて傾斜状に流れる気流を形成する第2給気部とを有することを特徴とする請求項1〜請求項6のいずれかに記載の基板処理装置。
- 前記基板の外周外方に配置したカップを前記チャンバーの内部に有することを特徴とする請求項1〜請求項7のいずれかに記載の基板処理装置。
- 基板を囲むチャンバーの内部に上方から下方へ向けて流れる気流を形成するとともに、前記チャンバーの内側に上方から下方へ向けて傾斜状に形成した整流体に沿って流れる気流を形成して基板を処理し、基板の処理前又は処理後に前記整流体を洗浄液で洗浄することを特徴とする基板処理方法。
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