JP6101228B2 - 基板処理装置及び基板処理方法 - Google Patents
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Description
40 処理流体供給部
303 吐出口
304 処理液供給管
305 ノズルアーム
306 気体供給管
Claims (10)
- 基板に対して処理液を吐出する吐出口と、
前記吐出口に対して処理液を供給する処理液供給管と、
前記処理液供給管に接続された気体供給管と、
前記処理液供給管に設けられた処理液を供給するための処理液供給バルブと、
前記気体供給管に設けられた気体を供給するための気体供給バルブと、
を備え、
前記処理液供給管に処理液が残留している状態で前記処理液供給バルブを閉じるとともに前記気体供給バルブを開いて前記気体供給管から前記処理液供給管へ気体を注入することにより前記処理液の中に気体領域を形成させ、前記気体供給バルブを閉じるとともに前記処理液供給バルブを開いて前記形成された気体領域を処理液とともに前記吐出口へと移動させ、前記吐出口から前記移動された気体領域を排出させ、
前記気体領域は、前記処理液供給管の中空断面を埋める大きさの気泡であることを特徴とする基板処理装置。 - 前記気体領域が前記吐出口から排出された後、前記気体供給バルブを開いたまま前記気体供給管側に処理液を引き込み、前記気体供給管の前記気体供給バルブよりも下流側の領域を前記処理液で満たすことを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記吐出口が処理液を吐出する位置に前記基板が無いときに、前記吐出口から前記移動された気体領域の排出を行うことを特徴とする請求項1又は2に記載の基板処理装置。
- 基板に対して処理液を吐出する吐出口と、
前記吐出口に対して処理液を供給する処理液供給管と、
前記処理液供給管に接続された気体供給管と、
前記処理液供給管に設けられた処理液を供給するための処理液供給バルブと、
前記気体供給管に設けられた気体を供給するための気体供給バルブと、
を備え、
前記処理液供給管に処理液が残留している状態で前記処理液供給バルブを閉じるとともに前記気体供給バルブを開いて前記気体供給管から前記処理液供給管へ気体を注入することにより前記処理液の中に気体領域を形成させ、前記気体供給バルブを閉じるとともに前記処理液供給バルブを開いて前記形成された気体領域を処理液とともに前記吐出口へと移動させ、前記吐出口から前記移動された気体領域を排出させ、
前記吐出口が処理液を吐出する位置に前記基板が無いときに、前記吐出口から前記移動された気体領域の排出を行うことを特徴とする基板処理装置。 - 所定枚数の前記基板が処理されるごとに、前記吐出口から前記移動された気体領域の排出を行うことを特徴とする請求項4に記載の基板処理装置。
- 前記基板の処理を開始する前に、前記吐出口から前記移動された気体領域の排出を行うことを特徴とする請求項4又は5に記載の基板処理装置。
- 前記基板の加熱を行うヒーターをさらに有し、前記ヒーターの稼動状況に応じて、前記吐出口から前記移動された気体領域の排出を行うことを特徴とする請求項4〜6のいずれかに記載の基板処理装置。
- 前記基板の加熱を行うヒーターをさらに有し、前記処理液供給管に前記気体供給管が接続する位置は、前記ヒーターによる加熱処理の影響を受けない位置であることを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の基板処理装置。
- 基板に対して処理液を吐出する吐出口と、前記吐出口に対して処理液を供給する処理液供給管と、前記処理液供給管に接続された気体供給管と、を用いて基板を処理する基板処理方法であって、
前記処理液供給管に処理液が残留している状態で前記気体供給管から前記処理液供給管へ気体を注入することにより前記処理液の中に気体領域を形成する形成工程と、
前記形成工程において形成された気体領域を処理液とともに前記吐出口へと移動させ、前記吐出口から前記移動された気体領域を排出する排出工程と、
前記排出工程において前記気体領域が排出された後に、前記吐出口から処理液を吐出させて前記基板を処理する基板処理工程と、
を備え、
前記気体領域は、前記処理液供給管の中空断面を埋める大きさの気泡であることを特徴とする基板処理方法。 - 基板に対して処理液を吐出する吐出口と、前記吐出口に対して処理液を供給する処理液供給管と、前記処理液供給管に接続された気体供給管と、を用いて基板を処理する基板処理方法であって、
前記処理液供給管に処理液が残留している状態で前記気体供給管から前記処理液供給管へ気体を注入することにより前記処理液の中に気体領域を形成する形成工程と、
前記形成工程において形成された気体領域を処理液とともに前記吐出口へと移動させ、前記吐出口から前記移動された気体領域を排出する排出工程と、
前記排出工程において前記気体領域が排出された後に、前記吐出口から処理液を吐出させて前記基板を処理する基板処理工程と、
を備え、
前記吐出口が処理液を吐出する位置に前記基板が無いときに、前記吐出口から前記移動された気体領域の排出を行うことを特徴とする基板処理方法。
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