JP6347752B2 - 基板液処理装置及び基板液処理方法 - Google Patents
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Description
2 基板処理システム
4 基板
13 基板回転保持部
14 処理液供給部
25 ベースプレート
26 カバー体
33 基板保持体
37 支持部分
43 排出口
Claims (5)
- 基板を保持して回転させる基板回転保持部と、
前記基板回転保持部で保持された基板に処理液を供給する処理液供給部と、
を有し、
前記基板回転保持部は、
前記基板の下方に間隔をあけて配置したベースプレートと、
前記ベースプレートに支持部分で支持され、前記基板の外周外方に配置したカバー体と、
前記ベースプレートとカバー体との間に形成され、前記基板の下方で生じた気流を排出するための排出口と、
を有し、
前記ベースプレートとカバー体との支持部分は、前記ベースプレートの上面よりも外方に張り出して前記カバー体と接続し、
前記ベースプレートとカバー体との支持部分の上端面を、前記ベースプレートの上面と同一面上に形成し、
前記カバー体は、前記ベースプレートの上面の上方を被覆する円環状の天井壁を形成し、
前記天井壁の下面と前記ベースプレートの上面との間に半径方向に関して上下に一定の間隔を有する水平流路を形成したことを特徴とする基板液処理装置。 - 前記カバー体は、前記天井壁の外周部に円環状の外周壁を形成し、
前記外周壁の内周面と前記ベースプレートの外周面との間に上下に間隔を有する傾斜流路が形成され、
前記処理液供給部は前記基板の下面に処理液を供給し、前記排出口は、前記水平流路と前記傾斜流路とを連通し、前記処理液供給部から供給した処理液を排出することを特徴とする請求項1に記載の基板液処理装置。 - 前記ベースプレートとカバー体との支持部分を、前記基板の外周に沿って間隔をあけて複数設けた前記基板を支持するための基板保持体の間に形成したことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の基板液処理装置。
- 前記ベースプレートとカバー体との支持部分と前記基板保持体とを、前記基板の外周に沿って等間隔に形成したことを特徴とする請求項3に記載の基板液処理装置。
- 基板回転保持部で基板を保持して回転し、処理液供給部から前記基板に処理液を供給して前記基板を処理液で液処理し、前記液処理を行っているときは、前記基板回転保持部に設けられた前記基板の下方に間隔をあけて配置したベースプレートと前記基板の外周外方に配置したカバー体とを支持部分で接続し、前記ベースプレートとカバー体との支持部分の上端面を、前記ベースプレートの上面と同一面上に形成し、前記カバー体は、前記ベースプレートの上面の上方を被覆する円環状の天井壁を形成し、前記天井壁の下面と前記ベースプレートの上面との間に半径方向に関して上下に一定の間隔を有する水平流路を形成しておき、前記ベースプレートと前記カバー体との間に形成された排出口から前記基板の下方で生じた気流を排出することを特徴とする基板液処理方法。
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