JP6027640B2 - 基板処理システム - Google Patents
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Description
5 基板
10 裏面処理装置
11 裏面周縁部処理装置
34 基板支持体
50 処理範囲
71 処理範囲
72 重畳処理範囲
Claims (5)
- 基板の裏面の除去対象物を除去する基板処理システムにおいて、
基板の裏面を上面にして基板支持体で基板の外周端を支持し、基板の裏面の内周部から基板支持体の近傍までの所定の処理範囲で除去対象物を除去する裏面処理装置と、
基板の裏面を下面にして基板の裏面の内周部を吸着して保持し、基板の裏面の外周端から内周側の所定の処理範囲で除去対象物を除去する裏面周縁部処理装置と、
基板を反転させる基板反転装置と、
基板の搬送を行う基板搬送装置と、
を有し、
少なくとも前記裏面処理装置と前記裏面周縁部処理装置は、同じ処理室内において1つの前記基板搬送装置によって基板を搬入及び搬出できるように個別に設けられており、前記裏面処理装置と前記裏面周縁部処理装置とが並ぶ向きが、前記裏面処理装置と前記基板反転装置とが並ぶ向きとは平面視で直交しており、
前記裏面周縁部処理装置で基板の裏面を処理した後に、前記基板反転装置で基板の反転を行って、その後、前記裏面処理装置で基板の裏面を処理することを特徴とする基板処理システム。 - 前記裏面処理装置で基板の裏面を処理した後に、さらに前記基板反転装置で基板の反転を行うことを特徴とする請求項1に記載の基板処理システム。
- 裏面処理装置での処理範囲と裏面周縁部処理装置での処理範囲とが重なる重畳処理範囲を設けたことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の基板処理システム。
- 前記裏面処理装置は、ブラシを基板の裏面に上方から当接させて除去対象物を除去することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の基板処理システム。
- 前記裏面周縁部処理装置は、ブラシを基板の裏面に下方から当接させて除去対象物を除去することを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の基板処理システム。
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JP4999487B2 (ja) * | 2007-02-15 | 2012-08-15 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
JP5039468B2 (ja) * | 2007-07-26 | 2012-10-03 | 株式会社Sokudo | 基板洗浄装置およびそれを備えた基板処理装置 |
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2015
- 2015-02-25 JP JP2015034976A patent/JP6027640B2/ja active Active
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KR100858940B1 (ko) * | 2002-07-31 | 2008-09-17 | 주식회사 포스코 | 윤활장치에서의 냉각수와 오일 누설 판별 검출장치 |
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