JP2015111731A - 基板処理方法、基板処理システム及び基板処理プログラムを記憶したコンピュータ読み取り可能な記憶媒体 - Google Patents
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Abstract
Description
5 基板
10 裏面処理装置
11 裏面周縁部処理装置
34 基板支持体
50 処理範囲
71 処理範囲
72 重畳処理範囲
Claims (11)
- 基板の裏面の除去対象物を除去する基板処理方法において、
基板の裏面を上面にして基板支持体で基板の外周端を支持し、基板の裏面の内周部から基板支持体の近傍までの所定の処理範囲で除去対象物を除去する裏面処理工程と、
基板の裏面を下面にして基板の裏面の内周部を吸着して保持し、基板の裏面の外周端から内周側の所定の処理範囲で除去対象物を除去する裏面周縁部処理工程と、
を有し、
前記裏面周縁部処理工程を行った後に前記基板の反転を行い、その後、前記裏面処理工程を行うことを特徴とする基板処理方法。 - 前記裏面処理工程を行った後にさらに前記基板の反転を行うことを特徴とする請求項1に記載の基板処理方法。
- 裏面処理工程での処理範囲と裏面周縁部処理工程での処理範囲とが重なる重畳処理範囲を設けたことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の基板処理方法。
- 前記裏面処理工程は、ブラシを基板の裏面に上方から当接させて前記除去対象物を除去することを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の基板処理方法。
- 裏面周縁部処理工程は、ブラシを基板の裏面に下方から当接させて前記除去対象物を除去することを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の基板処理方法。
- 基板の裏面の除去対象物を除去する基板処理システムにおいて、
基板の裏面を上面にして基板支持体で基板の外周端を支持し、基板の裏面の内周部から基板支持体の近傍までの所定の処理範囲で除去対象物を除去する裏面処理装置と、
基板の裏面を下面にして基板の裏面の内周部を吸着して保持し、基板の裏面の外周端から内周側の所定の処理範囲で除去対象物を除去する裏面周縁部処理装置と、
基板を反転させる基板反転装置と、
を有し、
前記裏面周縁部処理装置で基板の裏面を処理した後に、前記基板反転装置で基板の反転を行って、その後、前記裏面処理装置で基板の裏面を処理することを特徴とする基板処理システム。 - 前記裏面処理装置で基板の裏面を処理した後に、さらに前記基板反転装置で基板の反転を行うことを特徴とする請求項6に記載の基板処理システム。
- 裏面処理装置での処理範囲と裏面周縁部処理装置での処理範囲とが重なる重畳処理範囲を設けたことを特徴とする請求項6又は請求項7に記載の基板処理システム。
- 前記裏面処理装置は、ブラシを基板の裏面に上方から当接させて除去対象物を除去することを特徴とする請求項6〜8のいずれかに記載の基板処理システム。
- 前記裏面周縁部処理装置は、ブラシを基板の裏面に下方から当接させて除去対象物を除去することを特徴とする請求項6〜9のいずれかに記載の基板処理システム。
- 請求項1〜5のいずれかに記載の基板処理方法を実行するための基板処理プログラムを記憶したコンピュータ読み取り可能な記憶媒体。
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JP2009032889A (ja) * | 2007-07-26 | 2009-02-12 | Sokudo:Kk | 基板洗浄装置およびそれを備えた基板処理装置 |
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