JP2015050213A - 基板処理システム及び基板処理方法並びに基板処理プログラムを記憶したコンピュータ読み取り可能な記憶媒体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明では、基板を処理液で処理する基板処理システム及び基板処理方法並びに基板処理プログラムにおいて、回転プレートに設けた基板支持部で前記基板の外周端縁を支持した状態で、前記基板を回転させながら処理液吐出ノズルから前記基板に向けて処理液を吐出させて前記基板の洗浄処理を行わせ、前記基板支持部で前記基板を支持しない状態で、前記処理液吐出ノズルを前記基板支持部の上方に移動させるとともに、前記処理液吐出ノズルから前記基板支持部に向けて前記基板の洗浄処理とは異なる条件で処理液を吐出させて前記基板支持部の洗浄処理を行わせることにした。
【選択図】図7
Description
1 基板処理システム
30 基板保持機構
40 処理流体供給部
50 回収カップ
34 回転プレート
35 基板支持部
46 処理液吐出ノズル
Claims (13)
- 基板を処理液で処理する基板処理システムにおいて、
回転プレートに設けた基板支持部で前記基板の外周端縁を保持しながら前記基板を回転させる基板保持機構と、
処理液吐出ノズルから前記基板に向けて処理液を供給する処理流体供給部と、
前記処理液吐出ノズルを前記基板に沿って移動させるノズル移動機構と、
前記処理流体供給部から供給された処理液を前記基板の外周外方で回収する回収カップと、
前記基板保持機構と処理流体供給部とノズル移動機構を制御する制御装置と、
を備え、
前記制御装置は、
前記基板支持部で前記基板を支持した状態で、前記基板保持機構によって前記回転プレートを回転させながら前記処理流体供給部によって前記処理液吐出ノズルから回転する前記基板に向けて処理液を吐出させて前記基板の洗浄処理を行わせ、
前記基板支持部で前記基板を支持しない状態で、前記ノズル移動機構によって前記処理液吐出ノズルを前記基板支持部の上方に移動させるとともに、前記処理流体供給部によって前記処理液吐出ノズルから前記基板支持部に向けて前記基板の洗浄処理とは異なる条件で処理液を吐出させて前記基板支持部の洗浄処理を行わせることを特徴とする基板処理システム。 - 前記制御装置は、
前記基板の洗浄処理時に、前記基板保持機構によって前記回転プレートを第1の回転速度で回転させ、
前記基板支持部の洗浄処理時に、前記基板保持機構によって前記回転プレートを前記第1の回転速度よりも低速の第2の回転速度で回転又は停止させることを特徴とする請求項1に記載の基板処理システム。 - 前記制御装置は、
前記基板支持部で前記基板を支持しない状態で、前記基板保持機構によって前記回転プレートを前記第2の回転速度よりも低速の第3の回転速度で回転させながら又は停止して前記処理流体供給部によって前記処理液吐出ノズルから処理液を吐出させて前記回転プレートの上面に処理液を貯留させ、その後、前記処理液吐出ノズルからの処理液の吐出を停止させ、前記基板保持機構によって前記回転プレートを回転させて前記回転プレートの上面に貯留した処理液を前記回収カップの内周面に向けて吹付けて前記回収カップの洗浄処理を行わせることを特徴とする請求項2に記載の基板処理システム。 - 前記制御装置は、前記基板保持機構によって前記回転プレートを前記第1の回転速度よりも高速の第4の回転速度で回転させて前記回転プレートの上面に貯留した処理液を前記回収カップの内周面に向けて吹付けて前記回収カップの洗浄処理を行わせることを特徴とする請求項3に記載の基板処理システム。
- 前記制御装置は、
前記基板支持部の洗浄処理時に、前記処理流体供給部によって前記処理液吐出ノズルから第1の処理液流量の処理液を吐出させ、
前記回収カップの洗浄処理時に、前記処理流体供給部によって前記処理液吐出ノズルから第1の処理液流量よりも多量の第2の処理液流量の処理液を吐出させることを特徴とする請求項4に記載の基板処理システム。 - 前記処理流体供給部は、前記処理液吐出ノズルとして2流体ノズルを用いて処理液と不活性ガスとの混合流体を吐出可能としたことを特徴とする請求項1〜請求項5のいずれかに記載の基板処理システム。
- 前記制御装置は、
前記基板支持部の洗浄処理時に、前記処理流体供給部によって前記処理液吐出ノズルから処理液だけを吐出させることを特徴とする請求項6に記載の基板処理システム。 - 前記制御装置は、
前記基板支持部の洗浄処理時に、前記処理流体供給部によって前記処理液吐出ノズルから、前記基板の洗浄処理よりも少ない量の不活性ガスを含む混合流体を吐出させることを特徴とする請求項6に記載の基板処理システム。 - 前記制御装置は、
前記基板支持部の洗浄処理後に、前記処理流体供給部によって前記処理液吐出ノズルから不活性ガスだけを吐出させることを特徴とする請求項6〜請求項8に記載の基板処理システム。 - 前記制御装置は、
前記回収カップの洗浄処理時に、前記基板保持機構によって前記回転プレートの回転方向を逆転させながら繰返し前記回収カップの洗浄を行わせることを特徴とする請求項3〜請求項9のいずれかに記載の基板処理システム。 - 前記制御装置は、
前記回収カップの洗浄処理時に、前記ノズル移動機構によって前記処理液吐出ノズルを前記基板支持部よりも前記回転プレートの内周側に移動させてから、前記処理流体供給部によって前記処理液吐出ノズルから前記回転プレートの上面に向けて処理液を吐出させることを特徴とする請求項3〜請求項10のいずれかに記載の基板処理システム。 - 基板を処理液で処理する基板処理方法において、
回転プレートに設けた基板支持部で前記基板の外周端縁を支持した状態で、前記基板を回転させながら処理液吐出ノズルから前記基板に向けて処理液を吐出させて前記基板の洗浄処理を行わせ、
前記基板支持部で前記基板を支持しない状態で、前記処理液吐出ノズルを前記基板支持部の上方に移動させるとともに、前記処理液吐出ノズルから前記基板支持部に向けて前記基板の洗浄処理とは異なる条件で処理液を吐出させて前記基板支持部の洗浄処理を行わせることを特徴とする基板処理方法。 - 基板処理システムに処理液で基板を処理させる基板処理プログラムを記憶したコンピュータ読み取り可能な記憶媒体において、
回転プレートに設けた基板支持部で前記基板の外周端縁を支持した状態で、前記基板を回転させながら処理液吐出ノズルから前記基板に向けて処理液を吐出させて前記基板の洗浄処理を行わせ、
前記基板支持部で前記基板を支持しない状態で、前記処理液吐出ノズルを前記基板支持部の上方に移動させるとともに、前記処理液吐出ノズルから前記基板支持部に向けて前記基板の洗浄処理とは異なる条件で処理液を吐出させて前記基板支持部の洗浄処理を行わせることを特徴とする基板処理プログラムを記憶したコンピュータ読み取り可能な記憶媒体。
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017069261A (ja) * | 2015-09-28 | 2017-04-06 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置 |
KR20180084640A (ko) * | 2017-01-17 | 2018-07-25 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판 처리 장치, 기판 처리 방법 및 컴퓨터 판독 가능한 기록 매체 |
CN108335996A (zh) * | 2017-01-17 | 2018-07-27 | 东京毅力科创株式会社 | 基板处理装置、基板处理方法以及存储介质 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09232276A (ja) * | 1996-02-27 | 1997-09-05 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置および方法 |
JPH105668A (ja) * | 1996-06-28 | 1998-01-13 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 回転式基板処理装置 |
JPH10199852A (ja) * | 1997-01-13 | 1998-07-31 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 回転式基板処理装置 |
JP2000153210A (ja) * | 1998-11-19 | 2000-06-06 | Hitachi Ltd | 回転基板処理装置 |
JP2000185264A (ja) * | 1998-12-22 | 2000-07-04 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
JP2004172558A (ja) * | 2002-11-22 | 2004-06-17 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
WO2006082780A1 (ja) * | 2005-02-07 | 2006-08-10 | Ebara Corporation | 基板処理方法、基板処理装置及び制御プログラム |
JP2008153521A (ja) * | 2006-12-19 | 2008-07-03 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 回収カップ洗浄方法および基板処理装置 |
-
2013
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Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09232276A (ja) * | 1996-02-27 | 1997-09-05 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置および方法 |
JPH105668A (ja) * | 1996-06-28 | 1998-01-13 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 回転式基板処理装置 |
JPH10199852A (ja) * | 1997-01-13 | 1998-07-31 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 回転式基板処理装置 |
JP2000153210A (ja) * | 1998-11-19 | 2000-06-06 | Hitachi Ltd | 回転基板処理装置 |
JP2000185264A (ja) * | 1998-12-22 | 2000-07-04 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
JP2004172558A (ja) * | 2002-11-22 | 2004-06-17 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
WO2006082780A1 (ja) * | 2005-02-07 | 2006-08-10 | Ebara Corporation | 基板処理方法、基板処理装置及び制御プログラム |
JP2008153521A (ja) * | 2006-12-19 | 2008-07-03 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 回収カップ洗浄方法および基板処理装置 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017069261A (ja) * | 2015-09-28 | 2017-04-06 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置 |
KR20180084640A (ko) * | 2017-01-17 | 2018-07-25 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판 처리 장치, 기판 처리 방법 및 컴퓨터 판독 가능한 기록 매체 |
JP2018117006A (ja) * | 2017-01-17 | 2018-07-26 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、基板処理方法及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
CN108335996A (zh) * | 2017-01-17 | 2018-07-27 | 东京毅力科创株式会社 | 基板处理装置、基板处理方法以及存储介质 |
US11024519B2 (en) | 2017-01-17 | 2021-06-01 | Tokyo Electron Limited | Substrate processing apparatus, substrate processing method and computer readable recording medium |
TWI757403B (zh) * | 2017-01-17 | 2022-03-11 | 日商東京威力科創股份有限公司 | 基板處理裝置、基板處理方法及電腦可讀取之記錄媒體 |
KR102465644B1 (ko) * | 2017-01-17 | 2022-11-09 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판 처리 장치, 기판 처리 방법 및 컴퓨터 판독 가능한 기록 매체 |
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