KR102254188B1 - 오염 방지 기능이 구비된 기판 건조 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 기판 건조 과정에서 발생하는 기류에 의한 기판 오염을 방지하는 오염 방지 기능이 구비된 기판 건조 장치에 관한 것이다.
본 발명은 챔버, 상기 챔버의 내부에 배치되어 회전 구동되는 스핀척(spin chuck), 상기 스핀척의 상면에 설치되어 처리 대상인 기판이 이탈되지 않도록 그립(grip)하여 지지하는 지지핀, 상단부가 상기 지지핀에 의해 지지되는 기판보다 높게 위치하도록 상기 챔버의 내부에 배치된 제1 컵(cup), 상단부가 상기 기판보다 낮고 상기 스핀척의 상면보다 높게 위치하도록 상기 제1 컵의 내부에 배치된 제2 컵 및 상단부가 상기 스핀척의 하면보다 낮게 위치하도록 상기 제2 컵의 내부에 배치된 제3 컵을 포함한다.
본 발명에 따르면, 기판 건조 과정에서 기판과 지지핀의 회전에 의해 발생하는 기류 성분을 외부로 배출하기 위한 경로와 스핀척의 회전에 의해 발생하는 기류 성분을 외부로 배출하기 위한 경로를 별도로 이중적으로 구성하여 기판 건조 과정에서 발생하는 기류에 의한 기판 오염을 효율적으로 방지할 수 있다.

Description

오염 방지 기능이 구비된 기판 건조 장치{SUBSTRATE DRYING APPARATUS EQUIPPED WITH CONTAMINATION PREVENTING FUNCTION}
본 발명은 오염 방지 기능이 구비된 기판 건조 장치에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 본 발명은 기판 건조 과정에서 기판과 지지핀의 회전에 의해 발생하는 기류 성분을 외부로 배출하기 위한 경로와 스핀척의 회전에 의해 발생하는 기류 성분을 외부로 배출하기 위한 경로를 별도로 이중적으로 구성하여 기판 건조 과정에서 발생하는 기류에 의한 기판 오염을 효율적으로 방지할 수 있는 오염 방지 기능이 구비된 기판 건조 장치에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 공정에서는 웨이퍼에 잔류하는 파티클(particle) 등을 포함하는 불순물을 제거하는 세정공정이 필수적으로 수행되고 있다.
이러한 세정공정의 예로, 암모니아, 과산화수소, 물을 1:1:5의 비율로 혼합하여 고온에서 파티클과 유기 오염물을 제거하기 위해 사용되는 SC1(standard clean 1) 세정, 염산, 과산화수소, 물을 1:1:5 의 비율로 혼합하여 고온에서 천이성 금속 오염물을 제거하기 위해 사용되는 SC2(standard clean 2) 세정, 황산과 과산화수소를 혼합, 고온에서 감광제나 계면활성제 같은 유기 오염물을 제거하기 위해 수행되는 피라나(piranha) 세정, 웨이퍼 표면의 자연산화막을 제거하고 동시에 자연 산화막 내의 금속 오염물을 제거하는 HF 세정 등이 있다.
이러한 세정공정 이후에는 웨이퍼를 건조시키는 과정이 진행되는데, 웨이퍼를 고속회전시켜 원심력으로 잔류액을 제거하는 스핀 드라이(spin dry), IPA(isopropyl alcohol) 증기를 웨이퍼 표면에 접촉시켜 웨이퍼 표면에 잔류하는 습기 등의 잔류액을 IPA로 치환하여 제거하는 IPA 증기 건조 등이 있다.
반도체 웨이퍼 표면의 효과적인 린스(rinse) 공정과 건조 공정은 습식 세정 공정 중 중요한 과정들이다. 린스 공정은 반도체 웨이퍼 세정 후 웨이퍼 표면에 화학액이 잔류하지 않도록 수세, 즉, 초순수로 세척하는 과정이다. 그리고 건조 공정은 반도체 웨이퍼 표면의 초순수, 미세 파티클 등을 포함하는 오염물을 제거하는 과정이다.
도 1은 종래의 기판 건조 방식을 설명하기 위한 도면이다.
도 1을 참조하면, 린스 공정이 수행된 이후 건조 공정을 수행하기 위한 챔버(100)에 구비된 스핀척(spin chuck, 200)에 기판(W)을 배치한 상태에서 구동부(600)가 스핀척(200)을 회전시키면 지지핀(300)을 매개로 스핀척(200)에 배치된 기판(W)이 고속 회전하게 된다.
기판(W), 지지핀(300), 스핀척(200)과 같은 회전 구조물의 고속 회전에 따른 원심력에 의해 기판(W)에 잔류하는 초순수, 미세 파티클 등을 포함하는 오염물이 기류 형태로 제1 컵(400)과 제2 컵(500) 사이에 존재하는 배출경로를 통해 외부로 배출된다.
한편, 이러한 건조 과정에서 고속 회전하는 구조물, 즉, 기판(W), 지지핀(300), 스핀척(200)에 의해 발생하는 기류는 제1 컵(400)과 제2 컵(500) 사이에 존재하는 배출경로를 통해 외부로 완전 배출되지 않고 와류 형태로 기판(W)으로 재유입되어 기판(W)을 오염시키는 문제점이 있다.
대한민국 공개특허공보 제10-2014-0108748호(공개일자: 2014년 09월 15일, 명칭: 명칭 세정 장치) 대한민국 공개특허공보 제10-2002-0022547호(공개일자: 2002년 03월 27일, 명칭: 챔버 내에 와류 발생을 방지하는 반도체 웨이퍼 클리닝장치)
본 발명의 기술적 과제는 기판 건조 과정에서 기판과 지지핀의 회전에 의해 발생하는 기류 성분을 외부로 배출하기 위한 경로와 스핀척의 회전에 의해 발생하는 기류 성분을 외부로 배출하기 위한 경로를 별도로 이중적으로 구성하여 기판 건조 과정에서 발생하는 기류에 의한 기판 오염을 효율적으로 방지하는 것이다.
이러한 기술적 과제를 해결하기 위한 본 발명은 기판 건조 과정에서 발생하는 기류에 의한 기판 오염을 방지하는 오염 방지 기능이 구비된 기판 건조 장치로서, 챔버, 상기 챔버의 내부에 배치되어 회전 구동되는 스핀척(spin chuck), 상기 스핀척의 상면에 설치되어 처리 대상인 기판이 이탈되지 않도록 그립(grip)하여 지지하는 지지핀, 상단부가 상기 지지핀에 의해 지지되는 기판보다 높게 위치하도록 상기 챔버의 내부에 배치된 제1 컵(cup), 상단부가 상기 기판보다 낮고 상기 스핀척의 상면보다 높게 위치하도록 상기 제1 컵의 내부에 배치된 제2 컵 및 상단부가 상기 스핀척의 하면보다 낮게 위치하도록 상기 제2 컵의 내부에 배치된 제3 컵을 포함한다.
본 발명에 따른 오염 방지 기능이 구비된 기판 건조 장치에 있어서, 상기 제1 컵의 상단부와 상기 제2 컵의 상단부 사이에 존재하는 제1 이격공간은 상기 기판 건조 과정에서 상기 기판과 상기 지지핀의 회전에 의해 발생하는 기류 성분을 외부로 배출하기 위한 경로를 제공하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 오염 방지 기능이 구비된 기판 건조 장치에 있어서, 상기 제2 컵의 상단부와 상기 제3 컵의 상단부 사이에 존재하는 제2 이격공간은 상기 기판 건조 과정에서 상기 스핀척의 회전에 의해 발생하는 기류 성분을 외부로 배출하기 위한 경로를 제공하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 오염 방지 기능이 구비된 기판 건조 장치에 있어서, 상기 제1 컵의 상단부와 상기 기판 간의 수직방향 이격거리는 1mm 이상 3mm 이하인 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 오염 방지 기능이 구비된 기판 건조 장치에 있어서, 상기 제2 컵의 상단부와 상기 스핀척의 상면 간의 수직방향 이격거리는 1mm 이상 3mm 이하인 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 오염 방지 기능이 구비된 기판 건조 장치에 있어서, 상기 제3 컵의 상단부와 상기 스핀척의 하면 간의 수직방향 이격거리는 1mm 이상 3mm 이하인 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따르면, 기판 건조 과정에서 기판과 지지핀의 회전에 의해 발생하는 기류 성분을 외부로 배출하기 위한 경로와 스핀척의 회전에 의해 발생하는 기류 성분을 외부로 배출하기 위한 경로를 별도로 이중적으로 구성하여 기판 건조 과정에서 발생하는 기류에 의한 기판 오염을 효율적으로 방지할 수 있는 효과가 있다.
도 1은 종래의 기판 건조 방식을 설명하기 위한 도면이고,
도 2는 본 발명의 일 실시 예에 따른 오염 방지 기능이 구비된 기판 건조 장치를 개념적으로 나타낸 도면이고,
도 3은 본 발명의 일 실시 예에 따른 오염 방지 기능이 구비된 기판 건조 장치에 있어서, 제1 컵의 상단부와 제2 컵의 상단부 사이에 존재하는 제1 이격공간 및 제2 컵의 상단부와 제3 컵의 상단부 사이에 존재하는 제2 이격공간을 통한 기류 배출 메카니즘을 예시적으로 설명하기 위한 도면이다.
본 명세서에 개시된 본 발명의 개념에 따른 실시 예들에 대해서 특정한 구조적 또는 기능적 설명은 단지 본 발명의 개념에 따른 실시 예들을 설명하기 위한 목적으로 예시된 것으로서, 본 발명의 개념에 따른 실시 예들은 다양한 형태들로 실시될 수 있으며 본 명세서에 설명된 실시 예들에 한정되지 않는다.
본 발명의 개념에 따른 실시 예들은 다양한 변경들을 가할 수 있고 여러 가지 형태들을 가질 수 있으므로 실시 예들을 도면에 예시하고 본 명세서에서 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명의 개념에 따른 실시 예들을 특정한 개시 형태들에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물, 또는 대체물을 포함한다.
제1 또는 제2 등의 용어는 다양한 구성 요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성 요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소로부터 구별하는 목적으로만, 예컨대 본 발명의 개념에 따른 권리 범위로부터 벗어나지 않은 채, 제1 구성 요소는 제2 구성 요소로 명명될 수 있고 유사하게 제2 구성 요소는 제1 구성 요소로도 명명될 수 있다.
어떤 구성 요소가 다른 구성 요소에 "연결되어" 있다거나 "접속되어" 있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성 요소에 직접 연결되어 있거나 접속되어 있을 수도 있지만, 중간에 다른 구성 요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떤 구성 요소가 다른 구성 요소에 "직접 연결되어" 있다거나 "직접 접속되어" 있다고 언급된 때에는 중간에 다른 구성 요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다. 구성 요소간의 관계를 설명하는 다른 표현들, 즉 "~사이에" 와 "바로 ~사이에" 또는 "~에 이웃하는"과 "~에 직접 이웃하는" 등도 마찬가지로 해석되어야 한다.
본 명세서에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시 예를 설명하기 위해 사용된 것으로서, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 명세서에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 본 명세서에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어는 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 나타낸다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의된 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥상 가지는 의미와 일치하는 의미를 갖는 것으로 해석되어야 하며, 본 명세서에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
이하에서는, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예를 상세히 설명한다.
도 2는 본 발명의 일 실시 예에 따른 오염 방지 기능이 구비된 기판 건조 장치(1)를 개념적으로 나타낸 도면이다.
도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시 예에 따른 오염 방지 기능이 구비된 기판 건조 장치(1)는 챔버(10), 스핀척(spin chuck, 20), 지지핀(30), 제1 컵(cup, 40), 제2 컵(50), 제3 컵(60) 및 구동부(70)를 포함하여 구성된다.
챔버(10)는 타 구성요소들을 수용하며 기판(W)을 건조하는 과정이 수행되는 공간을 제공한다.
스핀척(20)은 챔버(10)의 내부에 배치되어 구공부가 제공하는 회전 구동력에 의해 회전 구동되며, 이러한 스핀척(20)에는 기판(W)을 지지하는 지지핀(30)이 설치되어 있다.
지지핀(30)은 스핀척(20)의 상면(21)에 설치되어 있으며, 건조 처리 대상인 기판(W)이 고속 회전 과정에서 이탈되지 않도록 그립(grip)하여 지지하는 기능을 수행한다.
제1 컵(40)은 그 상단부(41)가 지지핀(30)에 의해 지지되는 기판(W)보다 높게 위치하도록 챔버(10)의 내부에 배치되어 있고, 제2 컵(50)은 그 상단부(51)가 기판(W)보다 낮고 스핀척(20)의 상면(21)보다 높게 위치하도록 제1 컵(40)의 내부에 배치되어 있으며, 제3 컵(60)은 그 상단부(61)가 스핀척(20)의 하면(22)보다 낮게 위치하도록 제2 컵(50)의 내부에 배치되어 있다.
이러한 제1 컵(40)의 상단부(41)와 제2 컵(50)의 상단부(51) 사이 및 제2 컵(50)의 상단부(51)와 제3 컵(60)의 상단부(61) 사이에는 이격공간들이 존재하여, 이 이격공간들을 통해 건조 과정에서 발생하는 기류가 외부로 배출된다.
구동부(70)는 스핀척(20)에 회전 구동력을 제공하는 구성요소이다.
이하에서는, 도 3을 추가로 참조하여 제1 컵(40), 제2 컵(50), 제3 컵(60)의 이러한 배치 구성의 이유 및 그에 따른 효과를 설명한다.
앞서 도 1을 참조하여 종래 기술의 문제점을 설명한 바 있지만, 린스 공정이 수행된 이후에 수행되는 건조 공정에서, 기판(W), 지지핀(300), 스핀척(200)과 같은 회전 구조물이 고속 회전하면, 그에 따른 원심력에 의해 기판(W)에 잔류하는 초순수, 미세 파티클 등을 포함하는 오염물이 기류 형태로 제1 컵(400)과 제2 컵(500) 사이에 존재하는 배출경로를 통해 외부로 배출된다.
그러나, 종래 기술에 따르면, 이러한 건조 과정에서 고속 회전하는 구조물, 즉, 기판(W), 지지핀(300), 스핀척(200)에 의해 발생하는 기류는 제1 컵(400)과 제2 컵(500) 사이에 존재하는 배출경로를 통해 외부로 완전 배출되지 않고 와류 형태로 기판(W)으로 재유입되어 기판(W)을 오염시키는 문제점이 있다.
종래 기술의 이러한 문제점은 다음과 같은 이유로 발생한다.
즉, 건조 공정에서 기류를 발생시키는 요소들로서 기판(W), 지지핀(300), 스핀척(200)이 있으며, 이들의 구조적인 형상에는 차이가 있으며, 이에 따라 이들이 발생시키는 기류 특성에도 차이가 있다.
종래 기술은 이러한 회전 구조물들의 구조적인 형상 차이에 기인하는 기류 특성의 차이를 고려하지 않고 하나의 배출 경로를 통해 기류를 배출하는 방식이기 때문에, 서로 다른 특성을 갖는 기류의 상호 작용에 의해 와류가 쉽게 발생하여 기판(W)으로 재유입되는 문제점이 있다.
또한, 종래 기술은, 하나의 배출경로를 이용해 기판(W), 지지핀(300), 스핀척(200)에 의해 발생하는 기류를 배출하는 방식이기 때문에, 배출경로의 시작 부분, 즉, 제1 컵(400)의 단부와 제2 컵(500)의 단부 사이의 이격공간 커지게 되고, 이에 따라 기류의 와류 성분도 쉽게 기판(W)으로 재유입되는 문제점이 있다.
본 발명의 일 실시 예는 종래의 이러한 문제를 해결하기 위한 것으로서, 도 3은 본 발명의 일 실시 예에 따른 오염 방지 기능이 구비된 기판 건조 장치(1)에 있어서, 제1 컵(40)의 상단부(41)와 제2 컵(50)의 상단부(51) 사이에 존재하는 제1 이격공간(R1) 및 제2 컵(50)의 상단부(51)와 제3 컵(60)의 상단부(61) 사이에 존재하는 제2 이격공간(R2)을 통한 기류 배출 메카니즘을 예시적으로 설명하기 위한 도면이다.
도 3을 추가로 참조하면, 제1 컵(40)의 상단부(41)와 제2 컵(50)의 상단부(51) 사이에 존재하는 제1 이격공간(R1)은 기판 건조 과정에서 기판(W)과 지지핀(30)의 회전에 의해 발생하는 기류 성분을 외부로 배출하기 위한 경로를 제공한다.
또한, 제2 컵(50)의 상단부(51)와 제3 컵(60)의 상단부(61) 사이에 존재하는 제2 이격공간(R2)은 기판 건조 과정에서 스핀척(20)의 회전에 의해 발생하는 기류 성분을 외부로 배출하기 위한 경로를 제공한다.
이와 같이, 본 발명의 일 실시 예는 기판 건조 과정에서 기판(W)과 지지핀(30)의 회전에 의해 발생하는 기류 성분을 외부로 배출하기 위한 경로와 스핀척(20)의 회전에 의해 발생하는 기류 성분을 외부로 배출하기 위한 경로를 별도로 이중적으로 구성하여 기판 건조 과정에서 발생하는 기류에 의한 기판(W) 오염을 효율적으로 방지할 수 있다.
보다 구체적으로, 본 발명의 일 실시 예에 따르면, 기판(W)과 지지핀(30)의 회전에 의해 발생하는 기류 성분을 제1 컵(40)의 상단부(41)와 제2 컵(50)의 상단부(51) 사이에 존재하는 제1 이격공간(R1)을 통해 외부로 배출하고, 이와는 별도로 스핀척(20)의 회전에 의해 발생하는 기류 성분은 제2 컵(50)의 상단부(51)와 제3 컵(60)의 상단부(61) 사이에 존재하는 제2 이격공간(R2)을 통해 외부로 배출함으로써, 기판(W)과 지지핀(30)의 회전에 의해 발생하는 기류와 스핀척(20)의 회전에 의해 발생하는 기류의 상호 작용에 의한 와류 발생을 차단하여 와류 성분이 기판(W)으로 재유입되는 문제를 방지할 수 있고, 배출경로의 시작 부분을 기류의 주요 발생 영역들, 즉, 기판(W)과 지지핀(30) 인근 영역에 제1 이격공간(R1)을 배치하고, 이와는 별도로 스핀척(20) 인근 영역에 제2 이격공간(R2)을 배치함으로써, 기류의 와류 성분이 기판(W)으로 재유입되는 문제를 방지할 수 있다.
예를 들어, 제1 컵(40)의 상단부(41)와 기판(W) 간의 수직방향 이격거리(D1)를 1mm 이상 3mm 이하로 설정하고, 제2 컵(50)의 상단부(51)와 스핀척(20)의 상면(21) 간의 수직방향 이격거리(D2)를 1mm 이상 3mm 이하로 설정함으로써, 기판(W)과 지지핀(30)의 고속 회전에 의해 발생하는 기류 성분의 기판(W)으로의 재유입을 방지할 수 있다.
또한, 예를 들어, 제2 컵(50)의 상단부(51)와 스핀척(20)의 상면(21) 간의 수직방향 이격거리(D2)를 1mm 이상 3mm 이하로 설정하고, 제3 컵(60)의 상단부(61)와 스핀척(20)의 하면(22) 간의 수직방향 이격거리(D3)를 1mm 이상 3mm 이하로 설정함으로써, 스핀척(20)의 고속 회전에 의해 발생하는 기류 성분의 기판(W)으로의 재유입을 방지할 수 있다.
이상에서 상세히 설명한 바와 같이 본 발명에 따르면, 기판 건조 과정에서 기판과 지지핀의 회전에 의해 발생하는 기류 성분을 외부로 배출하기 위한 경로와 스핀척의 회전에 의해 발생하는 기류 성분을 외부로 배출하기 위한 경로를 별도로 이중적으로 구성하여 기판 건조 과정에서 발생하는 기류에 의한 기판 오염을 효율적으로 방지할 수 있는 효과가 있다.
1: 기판 건조 장치
10: 챔버
20: 스핀척(spin chuck)
21: 스핀척의 상면
22: 스핀척의 하면
30: 지지핀
40: 제1 컵(cup)
41: 제1 컵의 상단부
50: 제2 컵
51: 제2 컵의 상단부
60: 제3 컵
61: 제3 컵의 상단부
70: 구동부
R1: 제1 이격공간
R2: 제2 이격공간
W: 기판

Claims (6)

  1. 기판과 지지핀의 회전에 의해 발생하는 기류 성분을 외부로 배출하기 위한 경로와 스핀척의 회전에 의해 발생하는 기류 성분을 외부로 배출하기 위한 경로를 별도로 이중적으로 구성하여 기판 건조 과정에서 발생하는 기류에 의한 기판 오염을 방지하는 기판 건조 장치로서,
    챔버;
    상기 챔버의 내부에 배치되어 회전 구동되는 스핀척(spin chuck);
    상기 스핀척의 상면에 설치되어 처리 대상인 기판이 이탈되지 않도록 그립(grip)하여 지지하는 지지핀;
    상단부가 상기 지지핀에 의해 지지되는 기판보다 높게 위치하도록 상기 챔버의 내부에 배치된 제1 컵(cup);
    상단부가 상기 기판보다 낮고 상기 스핀척의 상면보다 높게 위치하도록 상기 제1 컵의 내부에 배치된 제2 컵; 및
    상단부가 상기 스핀척의 하면보다 낮게 위치하도록 상기 제2 컵의 내부에 배치된 제3 컵을 포함하고,
    상기 제1 컵의 상단부와 상기 제2 컵의 상단부 사이에 존재하는 제1 이격공간은 상기 기판 건조 과정에서 상기 기판과 상기 지지핀의 회전에 의해 발생하는 기류 성분을 외부로 배출하기 위한 경로를 제공하고,
    상기 제2 컵의 상단부와 상기 제3 컵의 상단부 사이에 존재하는 제2 이격공간은 상기 기판 건조 과정에서 상기 스핀척의 회전에 의해 발생하는 기류 성분을 외부로 배출하기 위한 경로를 제공하는, 오염 방지 기능이 구비된 기판 건조 장치.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 제1항에 있어서,
    상기 제1 컵의 상단부와 상기 기판 간의 수직방향 이격거리는 1mm 이상 3mm 이하인 것을 특징으로 하는, 오염 방지 기능이 구비된 기판 건조 장치.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 제2 컵의 상단부와 상기 스핀척의 상면 간의 수직방향 이격거리는 1mm 이상 3mm 이하인 것을 특징으로 하는, 오염 방지 기능이 구비된 기판 건조 장치.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 제3 컵의 상단부와 상기 스핀척의 하면 간의 수직방향 이격거리는 1mm 이상 3mm 이하인 것을 특징으로 하는, 오염 방지 기능이 구비된 기판 건조 장치.
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