JPH08323302A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 カップに付着する物質を洗浄除去することが
できる基板処理装置を提供する。 【構成】 アーム５の他方端部５ｂに、洗浄用ノズル９
が回転軸１０まわりに回転自在に支持されるとともに、
この洗浄用ノズル９を回転駆動する駆動機構１１が設け
られる。洗浄用ノズル９はカップ６の内周面の半径より
も若干短く、アーム５と同様に、水平面内に伸びてい
る。そして、回転・昇降機構８によりアーム５の他方端
部５ｂがカップ６の中心ＣＰに位置決めされると、洗浄
用ノズル９の後端部９ａがカップ６の中心ＣＰとほぼ一
致するとともに、その先端部９ｂがカップ６の内周面６
ａと近接し、洗浄可能な状態となる。この洗浄可能状態
で、洗浄用ノズル９を回転軸１０まわりに回転しながら
洗浄液を洗浄用ノズル９の先端部９ｂからカップ６の内
周面６ａに向けて吐出して、カップ６の内周面全体が洗
浄される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、液晶用ガラス角型基
板、半導体ウエハ、カラーフィルタ用ガラス基板、フォ
トマスク用基板などの基板を回転させて、その基板の表
面に供給される処理液（例えば、現像液やレジスト液な
ど）の全部あるいは一部を振り切るとともに、その振り
切られた処理液をカップで受ける基板処理装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】例えば、液晶基板の現像工程において
は、角型のガラス基板表面に塗布されたレジスト膜を所
定のパターンに露光した後、その基板をスピンチャック
の上に載置し、現像液により現像する。そして現像処理
が完了すると、スピンチャックを回転駆動することで基
板を回転させて、その基板の表面に供給された現像液を
振り切るとともに、基板を取り囲むように配置されたカ
ップでその基板表面から振り切られる現像液を補集して
いる。

【０００３】こうしてカップに補集された現像液は、そ
の自重でカップ内周面に沿ってカップ底部に移動し、そ
のカップ底部に設けられた排液口を通って現像液タンク
に導かれ、回収される。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな構成では、カップ内周面に付着した現像液をすべて
現像液タンクに導くことは不可能であり、現実的に幾分
かの現像液はカップ内周面に付着して固化してしまう。
また、現像液には、現像処理により基板表面から除去さ
れたレジスト成分が含まれており、このレジスト成分に
ついても現像液と同様に、その一部がカップ内周面に付
着して固化してしまう。

【０００５】このようにして固化した物質は、パーティ
クルとなって基板に再付着して製品の歩留り低下を招く
といった問題や、排液口の近傍で固化して現像液タンク
への現像液の流出を妨げてしまうといった問題が生じ
る。

【０００６】また、このような問題は、現像処理のみな
らず、基板を回転させて、その基板の表面にレジスト液
などの塗布液を塗布し、基板を回転させることで塗布液
の一部（余剰の塗布液）を振り切る処理においても生じ
るものであり、水平保持された基板を回転させて、その
基板の表面に供給された処理液の全部あるいは一部を振
り切るとともに、基板を取り囲むように配置されたカッ
プで基板表面から振り切られる処理液を受ける基板処理
装置に共通する問題である。

【０００７】本発明は、上述のような問題に鑑みてなさ
れたものであり、カップに付着する物質を洗浄除去する
ことができる基板処理装置を提供することを目的とす
る。

【０００８】

【課題を解決するための手段】請求項１は、水平保持さ
れた基板を回転させて、その基板の表面に供給された処
理液の全部あるいは一部を振り切るとともに、基板を取
り囲むように配置されたカップで前記基板表面から振り
切られる処理液を受ける基板処理装置であって、上記目
的を達成するため、前記カップを洗浄するための洗浄液
を吐出する先端部を有し、前記先端部と反対側の後端部
を回転中心として回転自在な洗浄用ノズルと、前記カッ
プ内で前記洗浄用ノズルを回転駆動する駆動手段と、前
記カップ内の第１カップ洗浄位置と前記カップの外側の
退避位置との間で、前記洗浄用ノズルを移動させる移動
手段とを備え、前記洗浄用ノズルと前記駆動手段が前記
第１カップ洗浄位置に位置するとき、前記後端部が前記
カップの中心とほぼ一致するとともに、前記先端部が前
記カップの内面と近接し、この洗浄可能状態で前記洗浄
用ノズルが回転しながらその先端部から洗浄液が前記カ
ップに向けて吐出されるようにしている。

【０００９】請求項２は、前記移動手段を、前記第１カ
ップ洗浄位置および前記退避位置に加え、前記カップ内
で、しかも前記第１カップ洗浄位置の上方の第２カップ
洗浄位置との間でも、前記洗浄用ノズルを移動可能に構
成し、前記洗浄用ノズルを前記第２カップ洗浄位置と前
記第１カップ洗浄位置との間で移動させる間、連続的
に、前記洗浄用ノズルを回転しながらその先端部から洗
浄液を前記カップに向けて吐出している。

【００１０】請求項３は、前記移動手段を、上下方向に
移動自在で、しかも一方端部を回転中心として回転自在
なアームと、前記アームを上下方向に駆動する昇降手段
と、前記アームをその一方端部を中心として回転させる
回転手段と、で構成し、前記アームの他方端部に、前記
洗浄用ノズルの後端部を取り付けている。

【００１１】請求項４は、前記カップに接続され、前記
基板表面から振り切られる処理液としての現像液を回収
する回収手段と、前記回収手段に回収された現像液を前
記洗浄用ノズルに再度供給する循環利用手段とを、さら
に備えている。

【００１２】

【作用】請求項１では、移動手段により洗浄用ノズルが
第１カップ洗浄位置に移動されると、その洗浄用ノズル
の後端部がカップの中心とほぼ一致するとともに、その
先端部がカップの内面と近接し、洗浄可能となる。そし
て、この洗浄可能状態のままで、洗浄用ノズルが回転す
るとともに、その先端部から洗浄液がカップに向けて吐
出されてカップの内面に付着した処理液が洗浄液により
洗浄除去される。

【００１３】請求項２では、洗浄用ノズルは、第１カッ
プ洗浄位置および退避位置に加え、第２カップ洗浄位置
との間でも移動可能であり、洗浄用ノズルが第２カップ
洗浄位置と第１カップ洗浄位置との間で移動する間、連
続的に、洗浄用ノズルが回転しながらその先端部から洗
浄液をカップに向けて吐出されて洗浄される領域が請求
項１の場合よりも広がる。

【００１４】請求項３では、移動手段を構成するアーム
は、上下方向に移動自在で、しかもその一方端部を回転
中心として回転自在となっており、アームの上下（昇
降）動作および回転動作を組み合わせて、このアームの
他方端部に取り付けられた洗浄用ノズルを第１カップ洗
浄位置と退避位置との間で移動させる。

【００１５】請求項４では、基板表面から振り切られる
カップに補集された現像液（処理液）が回収手段により
回収された後、洗浄用ノズルに再度供給される。つま
り、現像液が循環利用される。

【００１６】

【実施例】図１は、この発明にかかる基板処理装置の一
実施例を示す図であり、図２は、図１の基板処理装置の
平面図である。この基板処理装置は、液晶基板の現像工
程において使用される現像装置であり、角型のガラス基
板表面に塗布されたレジスト膜を所定のパターンに露光
した後、この基板を現像装置に搬入し、現像液により現
像し、当該現像液を回収した後、リンス液により残存す
る現像液を洗い流す装置である。

【００１７】この基板処理装置（現像装置）では、図２
に示すように、２点鎖線で示す基板１はスピンチャック
２により水平面（図２の紙面）内で保持される。また、
この装置には、基板１の表面に現像液を供給する現像用
ノズル３が設けられており、現像用ノズル３から現像液
を吐出しながら、この現像用ノズル３をスピンチャック
２に保持された基板１の表面と平行に方向Ｘに往復移動
することで、基板１の表面に現像液が供給される。さら
に、この装置には、リンス用ノズル４がアーム５の側部
に取り付けられており、このリンス用ノズル４の先端部
から基板１に向けてリンス液が供給される。

【００１８】このアーム５は、図１に示すように、スピ
ンチャック２を回転させた際に基板１の表面から振り切
られた現像液やリンス液を補集するためのドーナツ状の
カップ６の上方位置で、水平面内に伸びており、その一
方端部５ａが回転軸７まわりに回転自在に支持されると
ともに、その他方端部５ｂにリンス用ノズル４（図２）
が取り付けられている。また、このアーム５の一方端部
５ａには、アーム５を回転軸７まわりに回転駆動すると
ともに、アーム５全体を上下方向Ｚに昇降する回転・昇
降機構８が連結されている。この回転・昇降機構８とし
ては、例えばエアーシリンダ（昇降手段）とモータ（回
転手段）を組み合わせて構成することができ、エアーシ
リンダによりアーム５を昇降させる一方、モータにより
エアーシリンダとアーム５とを一体的に回転させるよう
に構成すればよい。なお、その構成はこれに限定される
ものではない。

【００１９】図３は、アーム５の他方端部５ｂの拡大断
面図である。この他方端部５ｂには、同図に示すよう
に、洗浄用ノズル９が回転軸１０まわりに回転自在に支
持されるとともに、この洗浄用ノズル９を回転駆動する
駆動機構１１が設けられている。したがって、アーム５
を回転・昇降機構８により回転および昇降させること
で、洗浄用ノズル９および駆動機構１１を所定位置に移
動させることができる。つまり、この実施例では、アー
ム５と回転・昇降機構８とで洗浄用ノズル９および駆動
機構１１を一体的に移動させる移動手段が構成されてい
る。

【００２０】この洗浄用ノズル９はカップ６の内周面の
半径よりも若干短く、アーム５と同様に、水平面内に伸
びている。そして、回転・昇降機構８によりアーム５の
他方端部５ｂがカップ６の中心ＣＰに位置決めされる
（図１の実線位置、図３の位置）と、洗浄用ノズル９の
後端部９ａが取り付けられるパイプ１６（後述する）の
回転軸１０がカップ６の中心ＣＰとほぼ一致するととも
に、その先端部９ｂがカップ６の外周部の内面６ａと近
接し、洗浄可能な状態となる。この明細書では、このよ
うな状態となる位置を、特に「第１カップ洗浄位置」と
称する。

【００２１】駆動機構１１は、図３に示すように、駆動
源たるモータ１２と、２つのプーリ１３，１４と、タイ
ミングベルト１５とで構成されており、モータ１２を作
動させることでモータ１２の駆動力をプーリ１３、タイ
ミングベルト１５およびプーリ１４を介して洗浄用ノズ
ル９を支持するパイプ１６に伝達し、洗浄用ノズル９を
回転軸１０まわりに回転させる。尚、洗浄用ノズル９
は、パイプ１６，ロータリージョイント３５，配管３６
を介して図示しない洗浄液供給源に接続されている。

【００２２】このため、第１カップ洗浄位置に位置決め
した後、モータ１２を作動させて洗浄用ノズル９を回転
軸１０まわりに回転しながら純水などの洗浄液を洗浄用
ノズル９の先端部９ｂからカップ６の外周部の内面６ａ
に向けて吐出すると、カップ６の内周面全体を洗浄する
ことができる。尚、リンス用ノズル４は配管３７を介し
て図示しないリンス液供給源に接続される。図３中では
リンス用ノズル４はアーム５の向こう側に位置するた
め、破線で図示しており、後述する図５，図６では、こ
れらの図示は省略した。

【００２３】ところで、この基板処理装置では、カップ
６で補集された現像液を循環再利用するために、現像液
を回収する第１回収ユニット１７と、回収された現像液
を現像用ノズル３に供給して現像液を循環する循環利用
ユニット１８と、リンス液および洗浄液を回収ための第
２回収ユニット１９とをさらに備えている。図１に戻っ
て、これらの構成について説明する。

【００２４】カップ６の底部には、複数の排液口が設け
られ、さらに各排液口にエアー駆動の３方弁２０がそれ
ぞれ接続されている。これらの３方弁２０の排出側の一
方のポートには、第１回収ユニット１７が接続されると
ともに、他方のポートには、第２回収ユニット１９が接
続されている。

【００２５】この第１回収ユニット１７では、第１トラ
ップタンク２２が配管２１を介して３方弁２０の一方の
排出ポートに接続されるとともに、吸引用ポンプ２３に
接続されており、この吸引用ポンプ２３を動作させるこ
とで、第１トラップタンク２２の内圧は負圧に保たれ
る。このため、３方弁２０と連動して現像液の回収のた
めに吸引用ポンプ２３を作動させると、カップ６の底部
に溜まった現像液が、排液口、３方弁２０および配管２
１を介して第１トラップタンク２２に迅速に吸引回収さ
れ一時的に第１トラップタンク２２内に貯留される。こ
うして第１トラップタンク２２に貯留された現像液は、
現像液タンク２４に適宜回収される。

【００２６】こうして現像液を回収した現像液タンク２
４は循環利用ユニット１８を構成する循環用ポンプ２５
と接続されており、循環用ポンプ２５によって現像液タ
ンク２４内の現像液がフィルタ２６を介して現像用ノズ
ル３に圧送される。このように、この実施例では現像液
を循環再利用している。

【００２７】一方、第２回収ユニット１９は、第１回収
ユニット１７と同様に構成されており、リンス液および
洗浄液を回収可能となっている。すなわち、配管２７を
介して３方弁２０の他方のポートと第２トラップタンク
２８とが接続され、この第２トラップタンク２８に接続
された吸引用ポンプ２９を作動させて第２トラップタン
ク２８の内圧を負圧にすることで、カップ６の底部に溜
まったリンス液や洗浄液を一時的に第２トラップタンク
２８内に回収する。また、こうして第２トラップタンク
２８に貯留された現像液は、回収タンク３０に適宜回収
される。

【００２８】なお、この装置には、装置全体を制御する
制御部３１が設けられており、制御部３１からの指令を
受けて回転・昇降コントローラ３２が昇降機構８を制御
する。また、スピンチャック２を回転させるためのモー
タ（図示省略）、現像用ノズル３を駆動する駆動機構
（図示省略）や洗浄用ノズル９を回転させるモータ１２
などについても同様に制御される。さらに、吸引用ポン
プ２３，２９および循環用ポンプ２５についても、制御
部３１からの指令に応じて、それぞれ適当なタイミング
で作動・停止する。

【００２９】次に、上記のように構成された基板処理装
置の動作について説明する。図４は、図１の基板処理装
置の動作を示すフローチャートである。

【００３０】この基板処理装置では、まずステップＳ１
で通常の現像処理を行う。つまり、搬送ロボットにより
搬送されてきた基板１を受け取り、スピンチャック２上
に水平保持する。それに続いて、現像用ノズル３から現
像液を吐出しながら現像用ノズル３を方向Ｘに往復移動
させて基板１の表面に現像液を供給する。この基板１に
は現像処理前に露光処理を受けたレジスト膜が形成され
ており、当該現像液により不要レジストが溶解される。
そして、スピンチャック２を回転させて現像液および不
要レジストを基板１の表面から振り切り、カップ６を介
して第１回収ユニット１７で回収する。その後、回転・
昇降機構８によりアーム５を駆動して、その側部に取り
付けられたリンス用ノズル４をカップ６の中心ＣＰにほ
ぼ一致させ、そのリンス用ノズル４からリンス液を基板
１の表面に供給して残存する現像液を洗い流す。このリ
ンス時にも、スピンチャック２を回転させて基板１より
リンス液を振り切り、カップ６を介して第２回収ユニッ
ト１９に回収する。

【００３１】なお、リンス液を供給する時以外の間、ア
ーム５は図２の１点鎖線で示すようにカップ６の外側に
退避されている。この明細書では、この位置を「退避位
置」と称する。

【００３２】ステップＳ２で、所定枚数の基板１につい
て現像処理（ステップＳ１）を連続的に実行したことが
検出されると、以下のステップＳ３〜Ｓ１０を実行して
カップ６を洗浄する。

【００３３】ステップＳ３でアーム５を上昇させて、ア
ーム５および洗浄用ノズル９をカップ６の外側で、しか
もカップ６よりも高い位置（ホームポジション）に位置
させる。そして、アーム５を回転軸７まわりに回転させ
て、アーム５の他方端部５ｂをカップ６の中心ＣＰに移
動させる（ステップＳ４）。これにより、洗浄用ノズル
９の後端部９ａもカップ６の中心ＣＰとほぼ一致する
（図５）。

【００３４】これに続いて、ステップＳ５で、アーム５
を降下させて洗浄用ノズル９の先端部９ｂをカップ６の
内周面に近接させる。こうして、洗浄用ノズル９は第１
カップ洗浄位置（図３）に位置し、洗浄可能な状態とな
る。

【００３５】次に、ステップＳ６で、洗浄用ノズル９の
先端部９ｂからの洗浄液の吐出を開始すると同時に、駆
動機構１１を作動させて洗浄用ノズル９を回転軸１０ま
わりに回転させる。これにより、洗浄用ノズル９の先端
部９ｂからの洗浄液がカップ６の内周方向に連続的に供
給され、カップ６の外周部の内面６ａに付着した現像液
などが洗浄除去される。なお、この洗浄液によるカップ
洗浄を行っている間、洗浄液および洗い流された現像液
などは、第２回収ユニット１９に回収される。

【００３６】上記カップ洗浄開始（ステップＳ６）から
一定時間だけ経過し、カップ６の内面６ａが十分に洗浄
されると、洗浄液の吐出を停止させ、洗浄用ノズル９を
初期ポジション、つまりアーム５と平行となる位置まで
回転させた後、その初期ポジションで回転停止させる
（ステップＳ７）。

【００３７】そして、ステップＳ８でアーム５をカップ
６の上方位置まで上昇させた（図５）後、ステップＳ９
でアーム５を回転軸７まわりに逆回転させて、ホームポ
ジションまで移動させる。さらに、ステップＳ１０でア
ーム５を下降させて退避位置に戻す。

【００３８】これによりカップ洗浄処理が完了する。こ
の後、ステップＳ１に戻って、現像処理（ステップＳ
１）を続ける。

【００３９】以上のように、この実施例にかかる基板処
理装置によれば、洗浄用ノズル９を第１カップ洗浄位置
に位置させ、洗浄用ノズル９を回転軸１０まわりに回転
させるとともに、その先端部９ｂから洗浄液をカップ６
の内面に向けて吐出しているので、カップ６の内面に付
着した現像液などを洗浄液により良好に洗浄除去するこ
とができ、現像液やレジストなどの固化によるパーティ
クル発生および排液口の閉鎖などの問題を防止すること
ができ、良好に現像処理を行うことができる。

【００４０】特に、上記実施例のように現像液を循環再
利用する場合、カップ６の内面の汚染が著しく、上記問
題が顕著となるが、この実施例により効果的にこれらの
問題を解消することができる。なお、現像処理における
リンス液は通常は純水が使用され、またリンス液として
は、純水もしくは適当な溶剤が使用されるが、これらは
適宜適当なものを選択使用すればよい。

【００４１】なお、上記実施例では、アーム５と回転・
昇降機構８とで構成される移動手段により洗浄用ノズル
９および駆動機構１１を第１カップ洗浄位置と退避位置
との間で一体的に移動させているが、移動手段の構成は
これに限定されるものではなく、また退避位置も上記に
限定されるものではなく、例えばカップ６の上方位置を
退避位置としてもよい。

【００４２】また、退避位置から第１カップ洗浄位置
（図３）に移動させるまでに、カップ６内で、しかも第
１カップ洗浄位置よりも上方の第２カップ洗浄位置（図
６）に位置させた後、この段階で先端部９ｂからの洗浄
液の吐出および洗浄用ノズル９の回転を開始し、この状
態のままで第２カップ洗浄位置から第１カップ洗浄位置
に移動させるようにしてもよい。この場合、上記実施例
に比べてカップ６の洗浄範囲が広がるという効果が得ら
れる。また、上記実施例では、洗浄用ノズル９からカッ
プ６の外周部の内面６ａに向けて洗浄液を吐出していた
が、これに限らず、例えばカップ６の底部の内面６ｂに
向けて吐出してもよく、あるいは、洗浄用ノズル９を分
岐させるなどして、外周部の内面６ａと底部の内面６ｂ
との両方に向けて吐出する構成としてもよい。

【００４３】さらに、上記においては、現像液を循環再
利用する基板処理装置に本発明を適用する場合について
説明したが、本発明の適用対象はこれに限定されるもの
ではなく、現像液を循環使用しない基板処理装置にも適
用することができ、また現像液以外にレジスト液を処理
液とし、基板の表面にレジスト液を回転塗布する基板処
理装置にも適用することができることはいうまでもな
い。

【００４４】

【発明の効果】この発明によれば、洗浄用ノズルを第１
カップ洗浄位置に移動し、洗浄用ノズルを回転させると
ともに、その先端部から洗浄液をカップに向けて吐出す
るようにしているので、カップの内周面に付着した処理
液を洗浄液により洗浄除去することができる。

【００４５】特に、請求項２によれば、洗浄用ノズル
を、第１カップ洗浄位置および退避位置に加え、第２カ
ップ洗浄位置との間でも移動可能とし、洗浄用ノズルが
第２カップ洗浄位置と第１カップ洗浄位置との間で移動
する間、連続的に、洗浄用ノズルを回転させながらその
先端部から洗浄液をカップに向けて吐出されて洗浄する
ようにしているので、洗浄できる領域を請求項１の場合
よりも広げることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明にかかる基板処理装置の一実施例を示
す図である。

【図２】図１の基板処理装置の平面図である。

【図３】アームの他方端部の拡大断面図である。

【図４】図１の基板処理装置の動作を示すフローチャー
トである。

【図５】アームの他方端部の拡大断面図である。

【図６】アームの他方端部の拡大断面図である。

【符号の説明】

１ 基板 ５ アーム ５ａ （アームの）一方端部 ５ｂ （アームの）他方端部 ６ カップ ８ 回転・昇降機構 ９ 洗浄用ノズル ９ａ （洗浄用ノズルの）後端部 ９ｂ （洗浄用ノズルの）先端部 １１ 駆動機構 １７ 第１回収ユニット １８ 循環利用ユニット ＣＰ （カップの）中心

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/30 ５６９Ｃ

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 水平保持された基板を回転させて、その
   基板の表面に供給された処理液の全部あるいは一部を振
   り切るとともに、基板を取り囲むように配置されたカッ
   プで前記基板表面から振り切られる処理液を受ける基板
   処理装置において、 前記カップを洗浄するための洗浄液を吐出する先端部を
   有し、前記先端部と反対側の後端部を回転中心として回
   転自在な洗浄用ノズルと、 前記カップ内で前記洗浄用ノズルを回転駆動する駆動手
   段と、 前記カップ内の第１カップ洗浄位置と前記カップの外側
   の退避位置との間で、前記洗浄用ノズルを移動させる移
   動手段とを備え、 前記洗浄用ノズルと前記駆動手段が前記第１カップ洗浄
   位置に位置するとき、前記後端部が前記カップの中心と
   ほぼ一致するとともに、前記先端部が前記カップの内面
   と近接し、この洗浄可能状態で前記洗浄用ノズルが回転
   しながらその先端部から洗浄液が前記カップに向けて吐
   出されることを特徴とする基板処理装置。
2. 【請求項２】 前記移動手段は、前記第１カップ洗浄位
   置および前記退避位置に加え、前記カップ内で、しかも
   前記第１カップ洗浄位置の上方の第２カップ洗浄位置と
   の間でも、前記洗浄用ノズルを移動可能であり、しか
   も、 前記洗浄用ノズルを前記第２カップ洗浄位置と前記第１
   カップ洗浄位置との間で移動させる間、連続的に、前記
   洗浄用ノズルを回転しながらその先端部から洗浄液を前
   記カップに向けて吐出する請求項１記載の基板処理装
   置。
3. 【請求項３】 前記移動手段は、上下方向に移動自在
   で、しかも一方端部を回転中心として回転自在なアーム
   と、前記アームを上下方向に駆動する昇降手段と、前記
   アームをその一方端部を中心として回転させる回転手段
   と、を備えており、 前記アームの他方端部に、前記洗浄用ノズルの後端部が
   取り付けられた請求項１記載の基板処理装置。
4. 【請求項４】 前記処理液は現像液であり、しかも、 前記カップに接続され、前記基板表面から振り切られる
   現像液を回収する回収手段と、 前記回収手段に回収された現像液を前記洗浄用ノズルに
   再度供給する循環利用手段とを、さらに備えた請求項１
   記載の基板処理装置。