JP3573445B2 - 現像装置及び洗浄装置 - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば液晶カラーディスプレイにおけるカラーフィルタ用の基板を現像する現像装置及び洗浄装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
液晶カラーディスプレイにおけるカラーフィルタでは、ガラス基板上にR,G,Bの着色パターンを形成する必要がある。このような着色パターンは、例えばフォトリソグラフィ法によって形成される。その一例として、R,G,Bそれぞれについて感光性樹脂からなる着色樹脂が用いられ、塗布−露光−現像の処理工程をR,G,Bについて3回繰り返してパターンが形成される。
【0003】
ところで、上記の現像処理工程においては、感光性樹脂のうち未露光部分を現像液で除去してパターンを形成する、ネガタイプの現像処理が行われている。このようなネガタイプの現像処理では、濃度が極薄い現像液、例えばポジタイプであれば2.38%程度の濃度であるのに対して0.1%以下の濃度の現像液が使われている。そして、このように濃度が薄くなった場合、現像液が空気と反応して劣化する速度が非常に速くなる。従って、一度使われた現像液を回収して再利用するような場合、現像液の濃度調整のために原液が多量に必要になり、再利用するメリットがなくなる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
そこで、従来から例えば現像処理を行うエリア全体を不活性ガス、例えばN2ガスでパージすることが行われているが、上記のようなカラーフィルタ用の現像装置では、ほほ基板1枚分に相当する領域にシャワー状に現像液を噴霧しておき、この領域にガラス基板を通過させるトラック方式が使われているため、パージすべき領域が広く、N2ガスの使用量が非常に多くなる、という課題がある。
【0005】
本発明は上記のような課題を解決するためになされたもので、不活性ガスの使用量を抑えつつ現像液を有効に再利用することができる、ネガタイプの現像処理に好適な現像装置を提供することを目的としている。
【0006】
本発明の別の目的は、高圧洗浄時に基板のたわみを防止することができる洗浄装置を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】
かかる課題を解決するため、請求項1記載に係る本発明の現像装置は、基板表面に現像液を吐出するノズルと、前記ノズルを囲繞すると共に、前記ノズルより吐出された現像液を基板表面へ通過させるための開口部を有するカバーと、前記カバー内で前記ノズルから吐出される現像液をカバー内雰囲気から遮蔽するように不活性ガスを噴出する手段とを具備するものである。
【0008】
請求項2記載に係る本発明の現像装置は、基板裏面を保持しつつ基板を回転する保持回転手段と、前記保持回転手段により保持回転される基板表面に現像液を吐出するノズルが複数列設されたノズル集合体と、前記ノズル集合体を囲繞すると共に、前記各ノズルより吐出された現像液を基板表面へ通過させるための開口部を有するカバーと、前記カバー内で前記各ノズルから吐出される現像液をカバー内雰囲気から遮蔽するように不活性ガスを噴出する手段とを具備するものである。
【0009】
請求項3記載に係る本発明の現像装置は、請求項1または2記載の現像装置であって、前記ノズルが、基板表面にカーテン状に連続する流形を描くように現像液を吐出するスプレーノズルであることを特徴とするものである。
【0010】
請求項4記載に係る本発明の現像装置は、請求項1から請求項3のうちいずれか1項記載の現像装置であって、前記不活性ガスが、N2ガスであることを特徴とするものである。
【0011】
請求項5記載に係る本発明の現像装置は、請求項1から請求項4のうちいずれか1項記載の現像装置であって、前記現像液の濃度が、0.1%以下であることを特徴とするものである。
【0012】
請求項6記載に係る本発明の現像装置は、請求項1から請求項5のうちいずれか1項記載の現像装置であって、前記基板表面に対して吐出された現像液を回収して再び前記ノズルに供給する手段をさらに具備するものである。
【0013】
請求項1記載に係る本発明では、ノズルをカバーで囲繞すると共に、ノズルから吐出される現像液をカバー内雰囲気から遮蔽するように不活性ガスを噴出しているので、カバーによる囲繞によって、さらには不活性ガスによるいわゆる”エアーカーテン”によって現像液が空気から遮断される。従って、現像液は空気と反応するようなことはなくなり、しかも広域に亙り不活性ガスでパージする必要がなくなるので、不活性ガスの使用量を抑えつつ現像液を有効に再利用することができる。また、現像液が周囲に飛散するようなこともなくなり、現像液によるミストの発生も抑えることができる。
【0014】
請求項2記載に係る本発明では、ノズル集合体が複数列設されたノズルを有し、基板を回転させながら基板表面にこのノズル集合体より現像液を吐出するように構成されているので、現像液が吐出される領域が非常に狭くなる。従って、カバーにより囲繞すべき領域、さらには不活性ガスによるいわゆる”エアーカーテン”によって現像液を空気から遮断すべき領域が非常に狭くてよくなるので、不活性ガスの使用量をさらに減らすことができる。
【0015】
請求項3記載に係る本発明では、基板表面にカーテン状に連続する流形を描くように現像液を吐出するスプレーノズルを用いているので、シャワータイプのノズルを用いた場合と比較して現像液が空気に触れる機会及びミストが発生する機会をさらに減らすことができる。また、現像液によるより強い衝撃力を基板に対して与えることができるので、現像速度を速めかつ現像不良を極力減らすことができる。
【0016】
請求項4記載に係る本発明では、不活性ガスにN2ガスを用いたことにより、コスト削減を図ることができる。
【0017】
請求項5記載に係る本発明では、現像液の濃度を0.1%以下とすることにより、ネガタイプの現像処理に好適なものとすることができる。
【0018】
請求項6記載に係る本発明では、基板表面に対して吐出された現像液を回収して再びノズルに供給するように構成したので、現像液を有効に再利用することができる。
【0019】
請求項7記載に係る本発明の洗浄装置は、基板の裏面を保持しつつ、基板の表面に高圧の洗浄液を噴出して洗浄を行う洗浄装置であって、前記基板の裏面の非保持部を支持ピンにより支持するようにしたことを特徴とする。
【0020】
請求項8記載に係る本発明の洗浄装置は、基板の裏面を保持する、昇降可能な保持部材と、前記保持部材を昇降する昇降機構と、前記保持部材により第1の高さに保持された基板に対して所定の処理をする処理手段と、前記保持部材により第1の高さより低い第2の高さに保持された基板の表面に対して洗浄液を噴出する高圧洗浄手段と、前記保持部材により第2の高さに保持された基板の裏面の非保持部に当接するように配置された支持ピンとを具備する。
本発明による「洗浄」は、リンス等の用語も包含するものである。
【0021】
本発明の洗浄装置では、高圧洗浄時に、基板の裏面の非保持部を支持ピンにより支持するように構成したので、高圧洗浄時に基板のたわみを防止することができる。
【0022】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づき説明する。
図1は本発明の一実施形態に係る塗布・現像処理システムの斜視図である。
図1に示すように、この塗布・現像処理システム1の前方には、基板、例えばカラーフィルタ用のガラス基板Gを、塗布・現像処理システム1に対して搬出入するローダ・アンローダ部2が設けられている。このローダ・アンローダ部2には、ガラス基板Gを例えば25枚ずつ収納したカセットCを所定位置に整列させて載置させるカセット載置台3と、各カセットCから処理すべきガラス基板Gを取り出し、また塗布・現像処理システム1において処理の終了したガラス基板Gを各カセットCへ戻すローダ・アンローダ4が設けられている。図示のローダアンローダ4は、本体5の走行によってカセットCの配列方向に移動し、本体5に搭載された板片状のピンセット6によって各カセットCからガラス基板Gを取り出し、また各カセットCへガラス基板Gを戻すようになっている。また、ピンセット6の両側には、ガラス基板Gの四隅を保持して位置合わせを行う基板位置合わせ部材7が設けられている。
【0023】
塗布・現像処理システム1の中央部には、長手方向に配置された廊下状の搬送路10、11が第1の受け渡し部12を介して一直線上に設けられており、この搬送路10、11の両側には、ガラス基板Gに対する各処理を行うための各種処理装置が配置されている。
【0024】
図示の塗布・現像処理システム1にあっては、搬送路10の一側方に、ガラス基板Gをブラシ洗浄するすると共に、高圧ジェット水により洗浄を施すための洗浄装置16が並設されている。また、搬送路10を挟んで反対側に、二基の現像装置17が並設され、その隣りに二基の加熱装置18が積み重ねて設けられている。
【0025】
また、搬送路11の一側方に、冷却用のクーリング装置21が二個積み重ねて配置されている。また、これらクーリング装置21の隣には加熱装置22が二列に二個ずつ積み重ねて配置されている。また、搬送路11を挟んで反対側に、ガラス基板Gに感光性樹脂からなる着色樹脂を塗布することによってガラス基板Gの表面に感光性樹脂からなる着色樹脂膜を形成する塗布装置23が配置されている。図示はしないが、これら塗布装置23の側部には、第2の受け渡し部28を介し、ガラス基板G上に形成された感光性樹脂からなる着色樹脂膜に所定の微細パターンを露光するための露光装置等が設けられる。第2の受け渡し部28は、ガラス基板Gを搬入および搬出するための搬出入ピンセット29および受け渡し台30を備えている。
【0026】
以上の各処理装置15〜18および20〜23は、何れも搬送路10、11の両側において、ガラス基板Gの出入口を内側に向けて配設されている。第1の搬送装置25がローダ・アンローダ部2、各処理装置15〜18および第1の受け渡し部12との間でガラス基板Gを搬送するために搬送路10上を移動し、第2の搬送装置26が第1の受け渡し部12、第2の受け渡し部28および各処理装置20〜23との間でガラス基板Gを搬送するために搬送路26上を移動するようになっている。各搬送装置25、26は、それぞれ上下一対のアーム27、27を有しており、各処理装置15〜18および20〜23にアクセスするときは、一方のアーム27で各処理装置のチャンバから処理済みのガラス基板Gを搬出し、他方のアーム27で処理前のガラス基板Gをチャンバ内に搬入するように構成されている。
【0027】
図2は上記現像装置17の正面図、図3はその平面図である。
図2及び図3に示すように、現像装置17の中心部には、駆動モータ31によって回転可能でかつ上下動可能に構成されたスピンチャック32が設けられている。このスピンチャック32の上面は、真空吸着等によってガラス基板Gを水平状態に吸着保持するように構成されている。
【0028】
このスピンチャック32の下方には下容器33が配置されている。また、スピンチャック32の外周を囲うように外カップ34が配置され、下容器33と外カップ34の間には内カップ35が配置されている。
【0029】
外カップ34と内カップ35とは連結部材36により連結され、これら外カップ34及び内カップ35は制御部37の指令に基づき昇降シリンダ38により昇降されるようになっている。外カップ34及び内カップ35の上部はそれぞれ上に行くに従って狭くなるように内側に傾斜して設けられており、外カップ34の上端開口部の直径は内カップ35のそれよりも大きく、かつ、これらの上端開口部の直径はガラス基板Gを水平状態にしたままでカップ内に下降させて収容できる大きさに形成されている。
【0030】
下容器33は、中心部から外に向かって下方向に傾斜する傾斜部39と、その外周に配置された受け皿部40とを備える。傾斜部39には、ガラス基板Gの裏面を保持するための支持ピン41が複数、例えば4本配置されている。支持ピン41の先端の高さは、スピンチャック32に保持されたガラス基板Gが最も低い位置に下降されたときに、支持ピン41の先端がガラス基板Gの裏面に当接する位置とされている。また、受け皿部40の底面には筒状の起立壁42が設けられており、起立壁42は外カップ34と内カップ35との間に介在される。また、内カップ35の傾斜部は起立壁42を超えて起立壁42の外周に延在している。これにより、内カップ35の傾斜部を流れる流体は受け皿部40の起立壁42で仕切られた外側室43に流れ込むようになっている。
【0031】
下容器33の傾斜部39の裏面側には、カップ内を排気するための排気口44が設けられており、排気口44には排気ポンプ((図示を省略))が接続されている。受け皿部40の起立壁42で仕切られた内側室45の下部には排液口46が形成されており、外側室43の下部にドレイン口47が形成されている。そして、排液口46に回収管48を介して使用済み現像液を再生処理する再生処理機構49が接続されている。再生処理機構49は、気液分離する気液分離機構50と使用済み現像液中の不純物を除去する不純物除去機構51とで構成され、現像液収容タンク52に接続されている。ドレイン口47は図示しない回収タンクに接続されている。
【0032】
カップの上部一側方にはガラス基板G表面に対し現像液を吐出するための現像液吐出機構53が配置され、他側方にはガラス基板G表面に対して洗浄液を高圧で噴出するための高圧洗浄機構54及びガラス基板G表面に対しリンス液を供給するためのリンス液供給機構55が配置されている。また、カップの上部の手前及び背後には搬送用レール56、57が設けられている。現像液吐出機構53及び高圧洗浄機構54にはそれぞれ搬送用モータ58、59が取り付けられており、制御部37による制御の基で搬送モータ58、59の駆動により現像液吐出機構53及び高圧洗浄機構54が搬送用レール56、57に沿ってカップ内上部に搬送されるようになっている。
【0033】
現像液吐出機構53には、制御部37の制御の基、ポンプ62を介して現像液収容タンク52より現像液が供給される。現像液の濃度は、例えば0.05%前後の濃度とされている。現像液吐出機構53とポンプ62との間には、現像液を加温する加温装置63が介挿されている。加温装置63は、例えば雰囲気が23(°C)である場合には現像液を25〜27(°C)に加温する。これにより、現像速度を向上させることができる。また、現像液吐出機構53には、制御部37の制御の基、N2供給装置76より供給されるようになっている。また、高圧洗浄機構54には、制御部37の制御の基、ポンプ64を介して洗浄液タンク65より洗浄液が供給される。同様に、リンス液供給機構55にも、制御部37の制御の基、ポンプ66を介してリンス液タンク67よりリンス液が供給される。
【0034】
図4は上記現像液吐出機構53の下側からみた斜視図であり、図5はその説明図であり、(a)は正面図、(b)は平面的概念図である。
図2〜図5に示すように、上記現像液吐出機構53の中央には、水平方向に配置された保持棒68に複数、例えば5〜7個程度のスプレーノズル69が列設されて構成されるノズル集合体77が配置されている。また、ノズル集合体77は、カバー78により囲繞されている。カバー78には、各スプレーノズル69より吐出された現像液をガラス基板G表面へ通過させるための開口部79が設けられている。また、このカバー78内では、ノズル集合体77の両側にN2噴出体80が配置されている。N2噴出体80は、ノズル集合体77に平行する部材81の先端部に、ノズル集合体77と平行するように、N2供給装置76より供給されたN2ガスを噴出する噴出穴82を多数設けてなるものである。これにより、カバー78内でノズル集合体77から吐出される現像液が、N2ガスによってカバー内雰囲気から遮蔽されるようになっている。
【0035】
各スプレーノズル69は、図6に示すように、吐出口70から水平に吐出された現像液が対向面に設けられた傾斜壁面71に当り、下方向にカーテン状に連続する流形を描き、かつ、円錐状に広がるように現像液を吐出するものである。また、これらスプレーノズル69より吐出された現像液が隣接するスプレーノズル69間で相互に重なり、かつ、現像液が吐出される範囲が、一方がガラス基板Gのほぼ角部▲1▼に及び、他方がガラス基板Gの長辺のほぼ中央部▲2▼に及ぶように、スプレーノズル69、69間の間隔が設けられている。図5で▲3▼はN2噴出体80より噴出されるN2ガスの噴出範囲を示している。
【0036】
各スプレーノズル69は、1.5〜2.5(kg/cm・cm)、より好ましくは2.0(kg/cm・cm)の吐出圧で現像液を吐出する。例えば、スプレーノズルの吐出圧が0.8(kg/cm・cm)の時には30秒を経過してもガラス基板G全面の現像ができなかったものが、2.0(kg/cm・cm)とすることでこの時間内で全面現像が可能となった。また、各スプレーノズル69とガラス基板Gとの間隔hは、50〜100(mm)、より好ましくは75〜100(mm)の範囲にされている。このような設定により現像速度を速めることができる。さらに、現像時には、現像液吐出機構53はガラス基板Gのほぼ中央で静止し、スピンチャック32により保持されたガラス基板Gは200〜300(rpm)の速度で回転される。これにより、現像液によってガラス基板Gに対して十分な衝撃力を与えることができる。
【0037】
図7は上記高圧洗浄機構54の説明図であり、(a)は正面図、(b)は平面的概念図である。
図7に示すように、高圧洗浄機構54では、水平方向に配置された保持棒72に複数、例えば5〜7個程度の高圧洗浄ノズル73が取り付けられている。各高圧洗浄ノズル73は、円錐状に広がり、かつ、高圧洗浄ノズル73より吐出された洗浄液が隣接する高圧洗浄ノズル73間で相互に重なりるように洗浄液を吐出するものである。
【0038】
高圧スプレーノズル73からは例えば5(kg/cm・cm)の吐出圧で洗浄液が吐出される。これにより、現像後のガラス基板G上の残さ等を十分に除去することができる。洗浄時に、スピンチャック32によって保持されたガラス基板Gは静止状態にあり、高圧洗浄機構54はガラス基板Gの長手方向に走査される。これにより、高圧洗浄機構54を短い長さとすることができる。
【0039】
図8は上記リンス液供給機構55の説明図であり、(a)は正面図、(b)は平面的概念図である。
図8に示すように、リンス液供給機構55では、図示しない回動機構によりアーム74が回動されることで、アーム74の先端に取り付けられたリンス液供給ノズル75がスピンチャック32によって保持されたガラス基板Gのほぼセンタに位置するようになっている。リンス処理時に、スピンチャック32によって保持されたガラス基板Gは1000(rpm)程度で回転され、リンス液供給ノズル75はガラス基板Gのほぼセンタで静止状態にある。
【0040】
次に動作について説明する。
図9は現像装置17における処理フローを示している。
図10に示すように、現像装置17内に搬入され、スピンチャック32によって保持されたガラス基板Gは支持ピン41と当接しない位置まで下降され、外カップ34及び内カップ35は最も高い位置まで上昇され、現像液吐出機構53はガラス基板Gのほぼ中央まで搬送されて静止する。そして、スピンチャック32により保持されたガラス基板Gが回転され、現像液吐出機構53よりガラス基板Gに対して現像液が吐出される(ステップ901)。その際、N2噴出体80よりN2ガスが噴出され、吐出された現像液はこのN2ガスによって遮蔽される。なお、ガラス基板Gの外周より飛び散る現像液は内カップ35の内側に当り排液口46より回収され、再利用される。
【0041】
次に、図11に示すように、スピンチャック32によって保持されたガラス基板Gは支持ピン41と当接する位置まで下降され、外カップ34及び内カップ35は最も低い位置まで下降される。そして、スピンチャック32により保持されたガラス基板Gが静止状態とされ、高圧洗浄機構54がガラス基板Gの長手方向に走査され、かつ、高圧洗浄機構54よりガラス基板Gに対して洗浄液が吐出される(ステップ902)。なお、ガラス基板Gの外周より飛び散る洗浄液は内カップ35と外カップ34との間を通ってドレイン口47より廃棄される。また、高圧洗浄の際に、支持ピン41によってガラス基板Gを裏面より支持しているので、ガラス基板Gが変形するようなことはない。
【0042】
次に、図12に示すように、スピンチャック32によって保持されたガラス基板Gは支持ピン41と当接しない位置まで上昇され、外カップ34及び内カップ35は最も低い位置まで下降して状態とされ、リンス液供給機構55がガラス基板Gのほぼセンタに搬送される。そして、スピンチャック32により保持されたガラス基板Gが回転され、リンス液供給機構55よりガラス基板Gに対してリンス液が供給される(ステップ903)。なお、ガラス基板Gの外周より飛び散るリンス液は内カップ35と外カップ34との間を通ってドレイン口47より廃棄される。
【0043】
最後に、図12の状態からリンス液供給機構55がカップ外へ搬送され、スピンチャック32によって保持されたガラス基板Gが高速回転されて振り切り乾燥が行われる(ステップ904)。
【0044】
以上のように、この実施の形態によれば、ガラス基板Gを回転させながらガラス基板G表面にノズル集合体77より現像液を吐出するように構成することで、現像液が実質的に吐出される範囲を非常に狭くする一方で、ノズル集合体77をカバー78で囲繞すると共に、ノズル集合体77から吐出される現像液をカバー内雰囲気から遮蔽するようにN2噴出体80よりN2ガスを噴出することで、カバー78による囲繞によって、さらにはN2ガスによるいわゆる”エアーカーテン”によって現像液を空気から遮断している。従って、現像液は空気と反応するようなことはなくなり、しかもその遮蔽範囲は上記のように非常に狭くて良いので、N2ガスの使用量を抑えつつ現像液を有効に再利用することができる。また、現像液が周囲に飛散するようなこともなくなり、現像液によるミストの発生も抑えることができる。
【0045】
なお、本発明は上述した実施の形態には限定されない。
例えば、上記実施の形態では、不活性ガスとしてN2ガスを用いていたが、Arガス等の他の不活性ガスを用いることができる。
また、基板としてはカラーフィルタ用のガラス基板Gばかりでなく、他のLCD基板、その他現像が必要な基板についても本発明を当然適用できる。
【0046】
【発明の効果】
以上説明したように、請求項1記載に係る本発明によれば、カバーによる囲繞によって、さらには不活性ガスによるいわゆる”エアーカーテン”によって現像液が空気から遮断されるので、現像液は空気と反応するようなことはなくなり、特に濃度の薄い現像液に対して有効であり、しかも広域に亙り不活性ガスでパージする必要がなくなるので、不活性ガスの使用量を抑えつつ現像液を有効に再利用することができる。また、現像液が周囲に飛散するようなこともなくなり、現像液によるミストの発生も抑えることができる。
【0047】
請求項2記載に係る本発明によれば、現像液が吐出される領域が非常に狭くなるので、カバーにより囲繞すべき領域、さらには不活性ガスによるいわゆる”エアーカーテン”によって現像液を空気から遮断すべき領域が非常に狭くなり、不活性ガスの使用量をさらに減らすことができる。また、現像時に基板を回転することが可能なので、現像速度の向上と均一性を確保することもできる。
【0048】
請求項3記載に係る本発明によれば、シャワータイプのノズルを用いた場合と比較して現像液が空気に触れる機会及びミストが発生する機会をさらに減らすことができる。また、現像液によるより強い衝撃力を基板に対して与えることができるので、現像速度を速めかつ現像不良を極力減らすことができる。
【0049】
請求項4記載に係る本発明によれば、コスト削減を図ることができる。
【0050】
請求項5記載に係る本発明によれば、ネガタイプの現像処理に好適なものとすることができる。
【0051】
請求項6記載に係る本発明によれば、現像液を有効に再利用することができる。
【0052】
請求項7、8記載に係る本発明によれば、高圧洗浄(リンス)時に基板のたわみを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態に係る塗布・現像処理システムの斜視図である。
【図2】図1に示した現像装置の正面図である。
【図3】図1に示した現像装置の平面図である。
【図4】図2及び図3に示した現像液吐出機構の下側からみた斜視図である。
【図5】図2及び図3に示した現像液吐出機構の説明図である。
【図6】図5に示したスプレーノズルの断面図である。
【図7】図2及び図3に示した高圧洗浄機構の説明図である。
【図8】図2及び図3に示したリンス液供給機構の説明図である。
【図9】本実施形態での現像装置における処理フローである。
【図10】図9に示したステップ901に対応する現像装置の状態図である。
【図11】図9に示したステップ902に対応する現像装置の状態図である。
【図12】図9に示したステップ903に対応する現像装置の状態図である。
【符号の説明】
17 現像装置
31 駆動モータ
32 スピンチャック
53 現像液吐出機構
69 スプレーノズル
76 N2供給装置
77 ノズル集合体
78 カバー
79 開口部
80 N2噴出体
G ガラス基板G
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば液晶カラーディスプレイにおけるカラーフィルタ用の基板を現像する現像装置及び洗浄装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
液晶カラーディスプレイにおけるカラーフィルタでは、ガラス基板上にR,G,Bの着色パターンを形成する必要がある。このような着色パターンは、例えばフォトリソグラフィ法によって形成される。その一例として、R,G,Bそれぞれについて感光性樹脂からなる着色樹脂が用いられ、塗布−露光−現像の処理工程をR,G,Bについて3回繰り返してパターンが形成される。
【0003】
ところで、上記の現像処理工程においては、感光性樹脂のうち未露光部分を現像液で除去してパターンを形成する、ネガタイプの現像処理が行われている。このようなネガタイプの現像処理では、濃度が極薄い現像液、例えばポジタイプであれば2.38%程度の濃度であるのに対して0.1%以下の濃度の現像液が使われている。そして、このように濃度が薄くなった場合、現像液が空気と反応して劣化する速度が非常に速くなる。従って、一度使われた現像液を回収して再利用するような場合、現像液の濃度調整のために原液が多量に必要になり、再利用するメリットがなくなる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
そこで、従来から例えば現像処理を行うエリア全体を不活性ガス、例えばN2ガスでパージすることが行われているが、上記のようなカラーフィルタ用の現像装置では、ほほ基板1枚分に相当する領域にシャワー状に現像液を噴霧しておき、この領域にガラス基板を通過させるトラック方式が使われているため、パージすべき領域が広く、N2ガスの使用量が非常に多くなる、という課題がある。
【0005】
本発明は上記のような課題を解決するためになされたもので、不活性ガスの使用量を抑えつつ現像液を有効に再利用することができる、ネガタイプの現像処理に好適な現像装置を提供することを目的としている。
【0006】
本発明の別の目的は、高圧洗浄時に基板のたわみを防止することができる洗浄装置を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】
かかる課題を解決するため、請求項1記載に係る本発明の現像装置は、基板表面に現像液を吐出するノズルと、前記ノズルを囲繞すると共に、前記ノズルより吐出された現像液を基板表面へ通過させるための開口部を有するカバーと、前記カバー内で前記ノズルから吐出される現像液をカバー内雰囲気から遮蔽するように不活性ガスを噴出する手段とを具備するものである。
【0008】
請求項2記載に係る本発明の現像装置は、基板裏面を保持しつつ基板を回転する保持回転手段と、前記保持回転手段により保持回転される基板表面に現像液を吐出するノズルが複数列設されたノズル集合体と、前記ノズル集合体を囲繞すると共に、前記各ノズルより吐出された現像液を基板表面へ通過させるための開口部を有するカバーと、前記カバー内で前記各ノズルから吐出される現像液をカバー内雰囲気から遮蔽するように不活性ガスを噴出する手段とを具備するものである。
【0009】
請求項3記載に係る本発明の現像装置は、請求項1または2記載の現像装置であって、前記ノズルが、基板表面にカーテン状に連続する流形を描くように現像液を吐出するスプレーノズルであることを特徴とするものである。
【0010】
請求項4記載に係る本発明の現像装置は、請求項1から請求項3のうちいずれか1項記載の現像装置であって、前記不活性ガスが、N2ガスであることを特徴とするものである。
【0011】
請求項5記載に係る本発明の現像装置は、請求項1から請求項4のうちいずれか1項記載の現像装置であって、前記現像液の濃度が、0.1%以下であることを特徴とするものである。
【0012】
請求項6記載に係る本発明の現像装置は、請求項1から請求項5のうちいずれか1項記載の現像装置であって、前記基板表面に対して吐出された現像液を回収して再び前記ノズルに供給する手段をさらに具備するものである。
【0013】
請求項1記載に係る本発明では、ノズルをカバーで囲繞すると共に、ノズルから吐出される現像液をカバー内雰囲気から遮蔽するように不活性ガスを噴出しているので、カバーによる囲繞によって、さらには不活性ガスによるいわゆる”エアーカーテン”によって現像液が空気から遮断される。従って、現像液は空気と反応するようなことはなくなり、しかも広域に亙り不活性ガスでパージする必要がなくなるので、不活性ガスの使用量を抑えつつ現像液を有効に再利用することができる。また、現像液が周囲に飛散するようなこともなくなり、現像液によるミストの発生も抑えることができる。
【0014】
請求項2記載に係る本発明では、ノズル集合体が複数列設されたノズルを有し、基板を回転させながら基板表面にこのノズル集合体より現像液を吐出するように構成されているので、現像液が吐出される領域が非常に狭くなる。従って、カバーにより囲繞すべき領域、さらには不活性ガスによるいわゆる”エアーカーテン”によって現像液を空気から遮断すべき領域が非常に狭くてよくなるので、不活性ガスの使用量をさらに減らすことができる。
【0015】
請求項3記載に係る本発明では、基板表面にカーテン状に連続する流形を描くように現像液を吐出するスプレーノズルを用いているので、シャワータイプのノズルを用いた場合と比較して現像液が空気に触れる機会及びミストが発生する機会をさらに減らすことができる。また、現像液によるより強い衝撃力を基板に対して与えることができるので、現像速度を速めかつ現像不良を極力減らすことができる。
【0016】
請求項4記載に係る本発明では、不活性ガスにN2ガスを用いたことにより、コスト削減を図ることができる。
【0017】
請求項5記載に係る本発明では、現像液の濃度を0.1%以下とすることにより、ネガタイプの現像処理に好適なものとすることができる。
【0018】
請求項6記載に係る本発明では、基板表面に対して吐出された現像液を回収して再びノズルに供給するように構成したので、現像液を有効に再利用することができる。
【0019】
請求項7記載に係る本発明の洗浄装置は、基板の裏面を保持しつつ、基板の表面に高圧の洗浄液を噴出して洗浄を行う洗浄装置であって、前記基板の裏面の非保持部を支持ピンにより支持するようにしたことを特徴とする。
【0020】
請求項8記載に係る本発明の洗浄装置は、基板の裏面を保持する、昇降可能な保持部材と、前記保持部材を昇降する昇降機構と、前記保持部材により第1の高さに保持された基板に対して所定の処理をする処理手段と、前記保持部材により第1の高さより低い第2の高さに保持された基板の表面に対して洗浄液を噴出する高圧洗浄手段と、前記保持部材により第2の高さに保持された基板の裏面の非保持部に当接するように配置された支持ピンとを具備する。
本発明による「洗浄」は、リンス等の用語も包含するものである。
【0021】
本発明の洗浄装置では、高圧洗浄時に、基板の裏面の非保持部を支持ピンにより支持するように構成したので、高圧洗浄時に基板のたわみを防止することができる。
【0022】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づき説明する。
図1は本発明の一実施形態に係る塗布・現像処理システムの斜視図である。
図1に示すように、この塗布・現像処理システム1の前方には、基板、例えばカラーフィルタ用のガラス基板Gを、塗布・現像処理システム1に対して搬出入するローダ・アンローダ部2が設けられている。このローダ・アンローダ部2には、ガラス基板Gを例えば25枚ずつ収納したカセットCを所定位置に整列させて載置させるカセット載置台3と、各カセットCから処理すべきガラス基板Gを取り出し、また塗布・現像処理システム1において処理の終了したガラス基板Gを各カセットCへ戻すローダ・アンローダ4が設けられている。図示のローダアンローダ4は、本体5の走行によってカセットCの配列方向に移動し、本体5に搭載された板片状のピンセット6によって各カセットCからガラス基板Gを取り出し、また各カセットCへガラス基板Gを戻すようになっている。また、ピンセット6の両側には、ガラス基板Gの四隅を保持して位置合わせを行う基板位置合わせ部材7が設けられている。
【0023】
塗布・現像処理システム1の中央部には、長手方向に配置された廊下状の搬送路10、11が第1の受け渡し部12を介して一直線上に設けられており、この搬送路10、11の両側には、ガラス基板Gに対する各処理を行うための各種処理装置が配置されている。
【0024】
図示の塗布・現像処理システム1にあっては、搬送路10の一側方に、ガラス基板Gをブラシ洗浄するすると共に、高圧ジェット水により洗浄を施すための洗浄装置16が並設されている。また、搬送路10を挟んで反対側に、二基の現像装置17が並設され、その隣りに二基の加熱装置18が積み重ねて設けられている。
【0025】
また、搬送路11の一側方に、冷却用のクーリング装置21が二個積み重ねて配置されている。また、これらクーリング装置21の隣には加熱装置22が二列に二個ずつ積み重ねて配置されている。また、搬送路11を挟んで反対側に、ガラス基板Gに感光性樹脂からなる着色樹脂を塗布することによってガラス基板Gの表面に感光性樹脂からなる着色樹脂膜を形成する塗布装置23が配置されている。図示はしないが、これら塗布装置23の側部には、第2の受け渡し部28を介し、ガラス基板G上に形成された感光性樹脂からなる着色樹脂膜に所定の微細パターンを露光するための露光装置等が設けられる。第2の受け渡し部28は、ガラス基板Gを搬入および搬出するための搬出入ピンセット29および受け渡し台30を備えている。
【0026】
以上の各処理装置15〜18および20〜23は、何れも搬送路10、11の両側において、ガラス基板Gの出入口を内側に向けて配設されている。第1の搬送装置25がローダ・アンローダ部2、各処理装置15〜18および第1の受け渡し部12との間でガラス基板Gを搬送するために搬送路10上を移動し、第2の搬送装置26が第1の受け渡し部12、第2の受け渡し部28および各処理装置20〜23との間でガラス基板Gを搬送するために搬送路26上を移動するようになっている。各搬送装置25、26は、それぞれ上下一対のアーム27、27を有しており、各処理装置15〜18および20〜23にアクセスするときは、一方のアーム27で各処理装置のチャンバから処理済みのガラス基板Gを搬出し、他方のアーム27で処理前のガラス基板Gをチャンバ内に搬入するように構成されている。
【0027】
図2は上記現像装置17の正面図、図3はその平面図である。
図2及び図3に示すように、現像装置17の中心部には、駆動モータ31によって回転可能でかつ上下動可能に構成されたスピンチャック32が設けられている。このスピンチャック32の上面は、真空吸着等によってガラス基板Gを水平状態に吸着保持するように構成されている。
【0028】
このスピンチャック32の下方には下容器33が配置されている。また、スピンチャック32の外周を囲うように外カップ34が配置され、下容器33と外カップ34の間には内カップ35が配置されている。
【0029】
外カップ34と内カップ35とは連結部材36により連結され、これら外カップ34及び内カップ35は制御部37の指令に基づき昇降シリンダ38により昇降されるようになっている。外カップ34及び内カップ35の上部はそれぞれ上に行くに従って狭くなるように内側に傾斜して設けられており、外カップ34の上端開口部の直径は内カップ35のそれよりも大きく、かつ、これらの上端開口部の直径はガラス基板Gを水平状態にしたままでカップ内に下降させて収容できる大きさに形成されている。
【0030】
下容器33は、中心部から外に向かって下方向に傾斜する傾斜部39と、その外周に配置された受け皿部40とを備える。傾斜部39には、ガラス基板Gの裏面を保持するための支持ピン41が複数、例えば4本配置されている。支持ピン41の先端の高さは、スピンチャック32に保持されたガラス基板Gが最も低い位置に下降されたときに、支持ピン41の先端がガラス基板Gの裏面に当接する位置とされている。また、受け皿部40の底面には筒状の起立壁42が設けられており、起立壁42は外カップ34と内カップ35との間に介在される。また、内カップ35の傾斜部は起立壁42を超えて起立壁42の外周に延在している。これにより、内カップ35の傾斜部を流れる流体は受け皿部40の起立壁42で仕切られた外側室43に流れ込むようになっている。
【0031】
下容器33の傾斜部39の裏面側には、カップ内を排気するための排気口44が設けられており、排気口44には排気ポンプ((図示を省略))が接続されている。受け皿部40の起立壁42で仕切られた内側室45の下部には排液口46が形成されており、外側室43の下部にドレイン口47が形成されている。そして、排液口46に回収管48を介して使用済み現像液を再生処理する再生処理機構49が接続されている。再生処理機構49は、気液分離する気液分離機構50と使用済み現像液中の不純物を除去する不純物除去機構51とで構成され、現像液収容タンク52に接続されている。ドレイン口47は図示しない回収タンクに接続されている。
【0032】
カップの上部一側方にはガラス基板G表面に対し現像液を吐出するための現像液吐出機構53が配置され、他側方にはガラス基板G表面に対して洗浄液を高圧で噴出するための高圧洗浄機構54及びガラス基板G表面に対しリンス液を供給するためのリンス液供給機構55が配置されている。また、カップの上部の手前及び背後には搬送用レール56、57が設けられている。現像液吐出機構53及び高圧洗浄機構54にはそれぞれ搬送用モータ58、59が取り付けられており、制御部37による制御の基で搬送モータ58、59の駆動により現像液吐出機構53及び高圧洗浄機構54が搬送用レール56、57に沿ってカップ内上部に搬送されるようになっている。
【0033】
現像液吐出機構53には、制御部37の制御の基、ポンプ62を介して現像液収容タンク52より現像液が供給される。現像液の濃度は、例えば0.05%前後の濃度とされている。現像液吐出機構53とポンプ62との間には、現像液を加温する加温装置63が介挿されている。加温装置63は、例えば雰囲気が23(°C)である場合には現像液を25〜27(°C)に加温する。これにより、現像速度を向上させることができる。また、現像液吐出機構53には、制御部37の制御の基、N2供給装置76より供給されるようになっている。また、高圧洗浄機構54には、制御部37の制御の基、ポンプ64を介して洗浄液タンク65より洗浄液が供給される。同様に、リンス液供給機構55にも、制御部37の制御の基、ポンプ66を介してリンス液タンク67よりリンス液が供給される。
【0034】
図4は上記現像液吐出機構53の下側からみた斜視図であり、図5はその説明図であり、(a)は正面図、(b)は平面的概念図である。
図2〜図5に示すように、上記現像液吐出機構53の中央には、水平方向に配置された保持棒68に複数、例えば5〜7個程度のスプレーノズル69が列設されて構成されるノズル集合体77が配置されている。また、ノズル集合体77は、カバー78により囲繞されている。カバー78には、各スプレーノズル69より吐出された現像液をガラス基板G表面へ通過させるための開口部79が設けられている。また、このカバー78内では、ノズル集合体77の両側にN2噴出体80が配置されている。N2噴出体80は、ノズル集合体77に平行する部材81の先端部に、ノズル集合体77と平行するように、N2供給装置76より供給されたN2ガスを噴出する噴出穴82を多数設けてなるものである。これにより、カバー78内でノズル集合体77から吐出される現像液が、N2ガスによってカバー内雰囲気から遮蔽されるようになっている。
【0035】
各スプレーノズル69は、図6に示すように、吐出口70から水平に吐出された現像液が対向面に設けられた傾斜壁面71に当り、下方向にカーテン状に連続する流形を描き、かつ、円錐状に広がるように現像液を吐出するものである。また、これらスプレーノズル69より吐出された現像液が隣接するスプレーノズル69間で相互に重なり、かつ、現像液が吐出される範囲が、一方がガラス基板Gのほぼ角部▲1▼に及び、他方がガラス基板Gの長辺のほぼ中央部▲2▼に及ぶように、スプレーノズル69、69間の間隔が設けられている。図5で▲3▼はN2噴出体80より噴出されるN2ガスの噴出範囲を示している。
【0036】
各スプレーノズル69は、1.5〜2.5(kg/cm・cm)、より好ましくは2.0(kg/cm・cm)の吐出圧で現像液を吐出する。例えば、スプレーノズルの吐出圧が0.8(kg/cm・cm)の時には30秒を経過してもガラス基板G全面の現像ができなかったものが、2.0(kg/cm・cm)とすることでこの時間内で全面現像が可能となった。また、各スプレーノズル69とガラス基板Gとの間隔hは、50〜100(mm)、より好ましくは75〜100(mm)の範囲にされている。このような設定により現像速度を速めることができる。さらに、現像時には、現像液吐出機構53はガラス基板Gのほぼ中央で静止し、スピンチャック32により保持されたガラス基板Gは200〜300(rpm)の速度で回転される。これにより、現像液によってガラス基板Gに対して十分な衝撃力を与えることができる。
【0037】
図7は上記高圧洗浄機構54の説明図であり、(a)は正面図、(b)は平面的概念図である。
図7に示すように、高圧洗浄機構54では、水平方向に配置された保持棒72に複数、例えば5〜7個程度の高圧洗浄ノズル73が取り付けられている。各高圧洗浄ノズル73は、円錐状に広がり、かつ、高圧洗浄ノズル73より吐出された洗浄液が隣接する高圧洗浄ノズル73間で相互に重なりるように洗浄液を吐出するものである。
【0038】
高圧スプレーノズル73からは例えば5(kg/cm・cm)の吐出圧で洗浄液が吐出される。これにより、現像後のガラス基板G上の残さ等を十分に除去することができる。洗浄時に、スピンチャック32によって保持されたガラス基板Gは静止状態にあり、高圧洗浄機構54はガラス基板Gの長手方向に走査される。これにより、高圧洗浄機構54を短い長さとすることができる。
【0039】
図8は上記リンス液供給機構55の説明図であり、(a)は正面図、(b)は平面的概念図である。
図8に示すように、リンス液供給機構55では、図示しない回動機構によりアーム74が回動されることで、アーム74の先端に取り付けられたリンス液供給ノズル75がスピンチャック32によって保持されたガラス基板Gのほぼセンタに位置するようになっている。リンス処理時に、スピンチャック32によって保持されたガラス基板Gは1000(rpm)程度で回転され、リンス液供給ノズル75はガラス基板Gのほぼセンタで静止状態にある。
【0040】
次に動作について説明する。
図9は現像装置17における処理フローを示している。
図10に示すように、現像装置17内に搬入され、スピンチャック32によって保持されたガラス基板Gは支持ピン41と当接しない位置まで下降され、外カップ34及び内カップ35は最も高い位置まで上昇され、現像液吐出機構53はガラス基板Gのほぼ中央まで搬送されて静止する。そして、スピンチャック32により保持されたガラス基板Gが回転され、現像液吐出機構53よりガラス基板Gに対して現像液が吐出される(ステップ901)。その際、N2噴出体80よりN2ガスが噴出され、吐出された現像液はこのN2ガスによって遮蔽される。なお、ガラス基板Gの外周より飛び散る現像液は内カップ35の内側に当り排液口46より回収され、再利用される。
【0041】
次に、図11に示すように、スピンチャック32によって保持されたガラス基板Gは支持ピン41と当接する位置まで下降され、外カップ34及び内カップ35は最も低い位置まで下降される。そして、スピンチャック32により保持されたガラス基板Gが静止状態とされ、高圧洗浄機構54がガラス基板Gの長手方向に走査され、かつ、高圧洗浄機構54よりガラス基板Gに対して洗浄液が吐出される(ステップ902)。なお、ガラス基板Gの外周より飛び散る洗浄液は内カップ35と外カップ34との間を通ってドレイン口47より廃棄される。また、高圧洗浄の際に、支持ピン41によってガラス基板Gを裏面より支持しているので、ガラス基板Gが変形するようなことはない。
【0042】
次に、図12に示すように、スピンチャック32によって保持されたガラス基板Gは支持ピン41と当接しない位置まで上昇され、外カップ34及び内カップ35は最も低い位置まで下降して状態とされ、リンス液供給機構55がガラス基板Gのほぼセンタに搬送される。そして、スピンチャック32により保持されたガラス基板Gが回転され、リンス液供給機構55よりガラス基板Gに対してリンス液が供給される(ステップ903)。なお、ガラス基板Gの外周より飛び散るリンス液は内カップ35と外カップ34との間を通ってドレイン口47より廃棄される。
【0043】
最後に、図12の状態からリンス液供給機構55がカップ外へ搬送され、スピンチャック32によって保持されたガラス基板Gが高速回転されて振り切り乾燥が行われる(ステップ904)。
【0044】
以上のように、この実施の形態によれば、ガラス基板Gを回転させながらガラス基板G表面にノズル集合体77より現像液を吐出するように構成することで、現像液が実質的に吐出される範囲を非常に狭くする一方で、ノズル集合体77をカバー78で囲繞すると共に、ノズル集合体77から吐出される現像液をカバー内雰囲気から遮蔽するようにN2噴出体80よりN2ガスを噴出することで、カバー78による囲繞によって、さらにはN2ガスによるいわゆる”エアーカーテン”によって現像液を空気から遮断している。従って、現像液は空気と反応するようなことはなくなり、しかもその遮蔽範囲は上記のように非常に狭くて良いので、N2ガスの使用量を抑えつつ現像液を有効に再利用することができる。また、現像液が周囲に飛散するようなこともなくなり、現像液によるミストの発生も抑えることができる。
【0045】
なお、本発明は上述した実施の形態には限定されない。
例えば、上記実施の形態では、不活性ガスとしてN2ガスを用いていたが、Arガス等の他の不活性ガスを用いることができる。
また、基板としてはカラーフィルタ用のガラス基板Gばかりでなく、他のLCD基板、その他現像が必要な基板についても本発明を当然適用できる。
【0046】
【発明の効果】
以上説明したように、請求項1記載に係る本発明によれば、カバーによる囲繞によって、さらには不活性ガスによるいわゆる”エアーカーテン”によって現像液が空気から遮断されるので、現像液は空気と反応するようなことはなくなり、特に濃度の薄い現像液に対して有効であり、しかも広域に亙り不活性ガスでパージする必要がなくなるので、不活性ガスの使用量を抑えつつ現像液を有効に再利用することができる。また、現像液が周囲に飛散するようなこともなくなり、現像液によるミストの発生も抑えることができる。
【0047】
請求項2記載に係る本発明によれば、現像液が吐出される領域が非常に狭くなるので、カバーにより囲繞すべき領域、さらには不活性ガスによるいわゆる”エアーカーテン”によって現像液を空気から遮断すべき領域が非常に狭くなり、不活性ガスの使用量をさらに減らすことができる。また、現像時に基板を回転することが可能なので、現像速度の向上と均一性を確保することもできる。
【0048】
請求項3記載に係る本発明によれば、シャワータイプのノズルを用いた場合と比較して現像液が空気に触れる機会及びミストが発生する機会をさらに減らすことができる。また、現像液によるより強い衝撃力を基板に対して与えることができるので、現像速度を速めかつ現像不良を極力減らすことができる。
【0049】
請求項4記載に係る本発明によれば、コスト削減を図ることができる。
【0050】
請求項5記載に係る本発明によれば、ネガタイプの現像処理に好適なものとすることができる。
【0051】
請求項6記載に係る本発明によれば、現像液を有効に再利用することができる。
【0052】
請求項7、8記載に係る本発明によれば、高圧洗浄(リンス)時に基板のたわみを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態に係る塗布・現像処理システムの斜視図である。
【図2】図1に示した現像装置の正面図である。
【図3】図1に示した現像装置の平面図である。
【図4】図2及び図3に示した現像液吐出機構の下側からみた斜視図である。
【図5】図2及び図3に示した現像液吐出機構の説明図である。
【図6】図5に示したスプレーノズルの断面図である。
【図7】図2及び図3に示した高圧洗浄機構の説明図である。
【図8】図2及び図3に示したリンス液供給機構の説明図である。
【図9】本実施形態での現像装置における処理フローである。
【図10】図9に示したステップ901に対応する現像装置の状態図である。
【図11】図9に示したステップ902に対応する現像装置の状態図である。
【図12】図9に示したステップ903に対応する現像装置の状態図である。
【符号の説明】
17 現像装置
31 駆動モータ
32 スピンチャック
53 現像液吐出機構
69 スプレーノズル
76 N2供給装置
77 ノズル集合体
78 カバー
79 開口部
80 N2噴出体
G ガラス基板G
Claims (16)
- 基板裏面を保持しつつ基板を回転する保持回転手段と、
前記保持回転手段により保持回転される基板表面にネガ型現像液を吐出するノズルが複数列設されたノズル集合体と、
前記ノズル集合体を囲繞すると共に、前記各ノズルより吐出されたネガ型現像液を基板表面へ通過させるための開口部を有するカバーと、
前記カバー内で前記各ノズルから吐出される現像液をカバー内雰囲気から遮蔽するように不活性ガスを噴出する手段と
前記基板表面に対して吐出されたネガ型現像液を回収して再び前記ノズルに供給する手段と
を具備し、
前記保持回転手段は、基板の裏面を保持する、昇降可能な保持部材を有し、
前記保持部材を昇降する昇降機構と、
前記保持部材により第1の高さに保持された基板に対して所定の処理をする処理手段と、
前記保持部材により第1の高さより低い第2の高さに保持された基板の表面に対して洗浄液を噴出する高圧洗浄手段と、
前記保持部材により第2の高さに保持された基板の裏面の非保持部に当接するように配置された支持ピンと
を具備することを特徴とする現像装置。 - 基板裏面を保持しつつ基板を回転する保持回転手段と、
前記保持回転手段により保持回転される基板表面にネガ型現像液を吐出するノズルが複数列設されたノズル集合体と、
前記ノズル集合体を囲繞すると共に、前記各ノズルより吐出されたネガ型現像液を基板表面へ通過させるための開口部を有するカバーと、
前記カバー内で前記各ノズルから吐出される現像液をカバー内雰囲気から遮蔽するように不活性ガスを噴出する手段と、
前記基板表面に対して吐出されたネガ型現像液を回収して再び前記ノズルに供給する手段と
を具備し、
前記不活性ガスを噴出する手段は、
前記ノズル集合体の両側であって、前記複数のノズルが列設される方向にほぼ直行する方向に配列された不活性ガス噴出体を有し、
前記不活性ガス噴出体は、
前記複数のノズルが列設される方向に複数配列され、前記不活性ガスを噴出する噴出穴を有することを特徴とする現像装置。 - 請求項2に記載の現像装置であって、
前記保持回転手段は、基板の裏面を保持する、昇降可能な保持部材を有し、
前記保持部材を昇降する昇降機構と、
前記保持部材により第1の高さに保持された基板に対して所定の処理をする処理手段と、
前記保持部材により第1の高さより低い第2の高さに保持された基板の表面に対して洗浄液を噴出する高圧洗浄手段と、
前記保持部材により第2の高さに保持された基板の裏面の非保持部に当接するように配置された支持ピンと
をさらに具備することを特徴とする現像装置。 - 矩形基板裏面を保持しつつ基板を回転する保持回転手段と、
前記保持回転手段により保持回転される基板表面に現像液を吐出するノズルが複数列設され、前記複数のノズルより現像液が吐出される範囲の一方が回転される基板のほぼ角部に及び、他方が回転される基板の長辺のほぼ中央部に及ぶノズル集合体と、
前記ノズル集合体を囲繞すると共に、前記各ノズルより吐出された現像液を基板表面へ通過させるための開口部を有するカバーと、
前記カバー内で前記各ノズルから吐出される現像液をカバー内雰囲気から遮蔽するように不活性ガスを噴出する手段と
を具備することを特徴とする現像装置。 - 請求項4に記載の現像装置であって、
前記保持回転手段は、基板の裏面を保持する、昇降可能な保持部材を有し、
前記保持部材を昇降する昇降機構と、
前記保持部材により第1の高さに保持された基板に対して所定の処理をする処理手段と、
前記保持部材により第1の高さより低い第2の高さに保持された基板の表面に対して洗浄液を噴出する高圧洗浄手段と、
前記保持部材により第2の高さに保持された基板の裏面の非保持部に当接するように配置された支持ピンと
をさらに具備することを特徴とする現像装置。 - 請求項4または5に記載の現像装置であって、
前記不活性ガスを噴出する手段は、
前記ノズル集合体の両側であって、前記複数のノズルが列設される方向にほぼ直行する方向に配列された不活性ガス噴出体を有し、
前記不活性ガス噴出体は、
前記複数のノズルが列設される方向に複数配列され、前記不活性ガスを噴出する噴出穴を有することを特徴とする現像装置。 - 請求項4から請求項6のうちいずれか1項に記載の現像装置であって、
前記基板表面に対して吐出された現像液を回収して再び前記ノズルに供給する手段をさらに具備することを特徴とする現像装置。 - 請求項1から請求項7のうちいずれか1項に記載の現像装置であって、
前記ノズルが、基板表面にカーテン状に連続する流形を描くように現像液を吐出するスプレーノズルであることを特徴とする現像装置。 - 請求項1から請求項7のうちいずれか1項に記載の現像装置であって、
前記不活性ガスが、N2ガスであることを特徴とする現像装置。 - 請求項1から請求項7のうちいずれか1項に記載の現像装置であって、
前記現像液の濃度が、0.1%以下であることを特徴とする現像装置。 - 矩形基板を回転させながらノズルから現像液を基板表面に吐出することで基板に形成された膜を現像する現像方法であって、
前記ノズルが複数列設されたノズル集合体から、一方が回転される基板のほぼ角部に及び、他方が回転される基板の長辺のほぼ中央部に及ぶ範囲に現像液を吐出させ、かつ、前記ノズル集合体を囲繞すると共に前記各ノズルより吐出された現像液を基板表面へ通過させるための開口部を有するカバー内に不活性ガスを噴出させて、前記各ノズルから吐出される現像液を不活性ガスによってカバー内雰囲気から遮蔽させながら現像液を供給することを特徴とする現像方法。 - 請求項11に記載の現像方法であって、
前記基板表面に現像液を供給するときは、基板を保持しつつ基板を回転する保持回転手段で保持しながら現像液を供給して現像処理を行い、
前記基板表面に現像液を供給した後、前記基板の裏面における前記保持回転手段の非保持部を支持ピンにより支持しながら、前記基板の表面に高圧の洗浄液を噴出して洗浄処理を行うことを特徴とする現像方法。 - 請求項12に記載の現像方法であって、
前記支持ピンで支持された前記基板を静止させた状態で、前記基板の短手方向を覆うように、かつ、前記基板の長手方向に走査するように、洗浄液を連続的に供給して洗浄処理を行うことを特徴とする現像方法。 - 請求項13に記載の現像方法であって、
前記現像処理を行うときと前記洗浄処理を行うときとで前記矩形基板の側方に面する容器が異なることを特徴とする現像方法。 - 請求項13または請求項14に記載の現像方法であって、
前記高圧の洗浄液を噴出した後、前記回転される基板の表面に対しリンス液を供給することを特徴とする現像方法。 - 請求項11から請求項15のうちいずれか1項に記載の現像方法であって、
前記基板に対して現像液を供給する工程における現像液の供給はカーテン状に供給されることを特徴とする現像方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22953098A JP3573445B2 (ja) | 1998-07-31 | 1998-07-31 | 現像装置及び洗浄装置 |
TW088111991A TW417153B (en) | 1998-07-17 | 1999-07-15 | Method and apparatus of developing |
KR1019990028915A KR100646060B1 (ko) | 1998-07-17 | 1999-07-16 | 현상방법 및 현상장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22953098A JP3573445B2 (ja) | 1998-07-31 | 1998-07-31 | 現像装置及び洗浄装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000058426A JP2000058426A (ja) | 2000-02-25 |
JP3573445B2 true JP3573445B2 (ja) | 2004-10-06 |
Family
ID=16893621
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP22953098A Expired - Lifetime JP3573445B2 (ja) | 1998-07-17 | 1998-07-31 | 現像装置及び洗浄装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3573445B2 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007157930A (ja) * | 2005-12-02 | 2007-06-21 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | ウェーハ洗浄装置 |
JP5451662B2 (ja) * | 2011-02-15 | 2014-03-26 | 東京エレクトロン株式会社 | 液処理装置及び液処理方法 |
JP5474855B2 (ja) * | 2011-03-15 | 2014-04-16 | 東京エレクトロン株式会社 | 液処理装置、液処理方法及びその液処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体 |
JP5643688B2 (ja) * | 2011-03-15 | 2014-12-17 | 東京エレクトロン株式会社 | 液処理装置、液処理方法及びその液処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体 |
JP5693438B2 (ja) * | 2011-12-16 | 2015-04-01 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、基板処理方法および記憶媒体 |
JP6173174B2 (ja) * | 2013-11-11 | 2017-08-02 | 株式会社ディスコ | 切削装置 |
JP6778548B2 (ja) * | 2016-08-24 | 2020-11-04 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置及び基板処理方法 |
CN109579351A (zh) * | 2018-11-19 | 2019-04-05 | 中国人民解放军战略支援部队航天工程大学 | 基于超声速引射器的大流量液氧过冷方法 |
CN111586991B (zh) * | 2020-05-27 | 2021-08-20 | 生益电子股份有限公司 | 一种线路板显影加工系统及方法 |
-
1998
- 1998-07-31 JP JP22953098A patent/JP3573445B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2000058426A (ja) | 2000-02-25 |
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