JP5693438B2 - 基板処理装置、基板処理方法および記憶媒体 - Google Patents

Description

本発明は、水平に保持された基板を回転させながら薬液により基板の液処理を行う基板処理装置および基板処理方法に関する。また本発明は、基板処理装置に基板処理方法を実行させるためのコンピュータプログラムを格納した記憶媒体に関する。

半導体装置の製造工程には、基板を鉛直軸周りに回転自在に保持し、基板を回転させながらその被処理面に種々の薬液を供給する枚葉式の液処理工程が含まれる。このような薬液を用いた液処理においては、処理目的に応じて異なる薬液が適宜使い分けられる。

例えば特許文献１において、第１薬液を基板の周縁部に向けて吐出する第１薬液吐出口と、第２薬液を基板の周縁部に向けて吐出する第２薬液吐出口と、を含むノズルを備えた基板処理装置が提案されている。第１薬液および第２薬液としては、例えば、硫酸、酢酸、硝酸、塩酸、フッ酸、アンモニア水、過酸化水素水、リン酸、有機酸（たとえばクエン酸、蓚酸など）、有機アルカリ（たとえば、ＴＭＡＨ：テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドなど）、界面活性剤、腐食防止剤のうちの少なくとも１つを含む液が例示されている。

また特許文献１において、ノズルは、ノズルに供給された第１薬液が第１薬液流路を通って第１薬液供給口に供給され、かつ、ノズルに供給された第２薬液が第２薬液流路を通って第２薬液供給口に供給されるよう構成されている。このようにノズルを構成することにより、ノズルの内部において第１薬液と第２薬液とが混ざり合うことが防がれている。

特開２０１１−１３５０１４号公報

ノズルから吐出された第１薬液および第２薬液は、所定の速度で基板に衝突する。この場合、基板に衝突した薬液が基板から跳ね返り、跳ね返った薬液がノズルに付着することがある。また、衝突によるエネルギーに起因して、基板上に既に存在していた薬液が跳ね上がることも考えられる。ここで、上述の特許文献１の場合のように１つのノズルに第１薬液吐出口および第２薬液吐出口が設けられている場合、基板から跳ね返ったり跳ね上がったりした第１薬液が第２薬液吐出口に付着し、または、基板から跳ね返ったり跳ね上がったりした第２薬液が第１薬液吐出口に付着し、これによって第１薬液と第２薬液とが混ざり合ってしまうことが考えられる。このように異なる種類の薬液が混ざり合うと、化学反応によって異物やガスが発生し、これによって基板が汚染されてしまうことが考えられる。

本発明は、このような課題を効果的に解決し得る基板処理装置、基板処理方法および記憶媒体を提供することを目的とする。

本発明は、水平に保持された基板を回転させながら薬液により基板の周縁部の液処理を行う基板処理装置であって、基板を水平に保持する基板保持部と、前記基板保持部を回転させる回転駆動部と、基板の周縁部上の第１薬液到達領域に向けて第１薬液を吐出する第１薬液ノズルと、基板の周縁部上の第２薬液到達領域に向けて第２薬液を吐出する第２薬液ノズルと、を備え、前記回転駆動部は、前記第１薬液ノズルが第１薬液を吐出する際、前記基板保持部を第１回転方向に回転させ、かつ、前記第２薬液ノズルが第２薬液を吐出する際、前記基板保持部を、第１回転方向とは逆の第２回転方向に回転させることを特徴とする基板処理装置である。

本発明は、水平に保持された基板を回転させながら薬液により基板の周縁部の液処理を行う基板処理方法であって、基板を水平に保持する基板保持部を第１回転方向に回転させることと、基板保持部が第１回転方向に回転している際、基板の周縁部上の第１薬液到達領域に向けて第１薬液ノズルによって第１薬液を吐出することと、基板保持部を、第１回転方向とは逆の第２回転方向に回転させることと、基板保持部が第２回転方向に回転している際、基板の周縁部上の第２薬液到達領域に向けて第２薬液ノズルによって第２薬液を吐出することと、を備えたことを特徴とする基板処理方法である。

本発明は、基板処理装置に基板処理方法を実行させるためのコンピュータプログラムを格納した記憶媒体において、前記基板処理方法は、基板を水平に保持する基板保持部を第１回転方向に回転させることと、基板保持部が第１回転方向に回転している際、基板の周縁部上の第１薬液到達領域に向けて第１薬液ノズルによって第１薬液を吐出することと、基板保持部を、第１回転方向とは逆の第２回転方向に回転させることと、基板保持部が第２回転方向に回転している際、基板の周縁部上の第２薬液到達領域に向けて第２薬液ノズルによって第２薬液を吐出することと、を備えた方法からなっていることを特徴とする記憶媒体である。

本発明によれば、基板から跳ね返ったり跳ね上がったりした第１薬液が第２薬液ノズルに付着することを防ぐことができ、同様に、基板から跳ね返ったり跳ね上がったりした第２薬液が第１薬液ノズルに付着することを防ぐことができる。これによって、第１薬液と第２薬液とが混ざり合うことを防ぐことができ、このことにより、基板周辺の雰囲気を清浄に保つことができる。

図１は、本発明の実施の形態における基板処理装置を備えた基板処理システムの概略構成を示す平面図。 図２は、基板処理装置の概略構成を示す平面図。 図３は、図２に示す基板処理装置をIII−III方向から見た縦断面図。 図４は、図２に示す基板処理装置をIV−IV方向から見た縦断面図。 図５は、図２に示す基板処理装置をＶ−Ｖ方向から見た縦断面図。 図６は、ノズル駆動部によって支持された薬液ノズルおよびリンスノズルを斜め下方から見た場合を示す図。 図７（ａ）は、外方位置にある薬液ノズルを示す図、図７（ｂ）は、処理位置にある薬液ノズルを示す図、図７（ｃ）は、リンス処理位置にあるリンスノズルを示す図、図７（ｄ）は、待機位置にある薬液ノズルを示す図。 図８は、カップ体に形成された薬液吐出口、リンス処理液吐出口および洗浄液吐出口を示す図。 図９は、傾斜するよう形成されたカップ体の液受け空間の液受け底面の作用を概略的に示す図。 図１０（ａ）〜（ｆ）は、本発明の実施の形態にける液処理方法を示す図。 図１１（ａ）〜（ｆ）は、本発明の実施の形態の変形例による液処理方法を示す図。 図１２（ａ）〜（ｄ）は、リンスノズルの変形例を示す図。

以下、図１乃至図１０を参照して、本発明の実施の形態について説明する。ここでは、円形の基板である半導体ウエハ（以下、単に「ウエハ」と記す）Ｗの液処理を行う基板処理装置１について説明する。

本実施の形態による基板処理装置１によって処理されるウエハＷには、例えばＳｉＮからなる膜が形成されており、この膜は、ウエハＷの上面からウエハＷの側端部を介してウエハＷの下面側の周縁部に跨るように形成されている。ここで基板処理装置１は、少なくとも２種類の異なる薬液をウエハＷに対して供給することにより、ウエハＷに形成されている膜のうちウエハＷの周縁部に位置する膜を除去するよう構成さている。はじめに図１を参照し、このような基板処理装置１を含む基板処理システム１００について説明する。

なおウエハＷの上面または下面とは、ウエハＷが後述の基板保持部２１によって水平に保持されているときに上または下を向いている面である。またウエハＷの周縁部とは、ウエハＷの側端部近傍の領域であって、半導体装置のパターンが形成されない領域のことである。

基板処理システム
図１は、基板処理システム１００の概略構成を示す平面図である。図１に示すように、基板処理システム１００は、複数のウエハＷを収容するウエハキャリアＣが設けられ、ウエハＷの搬入・搬出を行う搬入出ステーション１０Ａと、ウエハＷの液処理を行うための処理ステーション１０Ｂと、を備えている。搬入出ステーション１０Ａ及び処理ステーション１０Ｂは、隣接して設けられている。

（搬入出ステーション）
搬入出ステーション１０Ａは、キャリア載置部１０１、搬送部１０２、受け渡し部１０３及び筐体１０４を有している。キャリア載置部１０１には、複数のウエハＷを水平状態で収容するウエハキャリアＣが載置されている。搬送部１０２において、ウエハＷの搬送が行われ、受け渡し部１０３において、ウエハＷの受け渡しが行われる。搬送部１０２および受け渡し部１０３は筐体１０４に収容されている。

搬送部１０２は、搬送機構１０５を有している。搬送機構１０５は、ウエハＷを保持するウエハ保持アーム１０６と、ウエハ保持アーム１０６を前後に移動させる機構と、を有している。また搬送機構１０５は、図示はしないが、ウエハキャリアＣが配列されたＸ方向に延びる水平ガイド１０７に沿ってウエハ保持アーム１０６を移動させる機構と、垂直方向に設けられた垂直ガイドに沿ってウエハ保持アーム１０６を移動させる機構と、水平面内でウエハ保持アーム１０６を回転させる機構と、をさらに有している。搬送機構１０５により、ウエハキャリアＣと受け渡し部１０３との間でウエハＷが搬送される。

受け渡し部１０３は、ウエハＷが載置される載置部を複数備えた受け渡し棚２００を有している。受け渡し部１０３は、この受け渡し棚２００を介して処理ステーション１０Ｂとの間でウエハＷの受け渡しを行うよう構成されている。

（処理ステーション）
処理ステーション１０Ｂは、筐体２０１と、筐体２０１内に収容された複数の基板処理装置１と、搬送室２０２と、搬送室２０２内に設けられた搬送機構２０３と、を備えている。複数の基板処理装置１の下方には、各基板処理装置１に液やガスを供給するための機構が収容されていてもよい。

搬送機構２０３は、ウエハＷを保持するウエハ保持アーム２０４と、ウエハ保持アーム２０４を前後に移動させる機構と、を有している。また搬送機構２０３は、図示はしないが、搬送室２０２に設けられた水平ガイド２０５に沿ってウエハ保持アーム２０４をＹ方向に移動させる機構と、垂直方向に設けられた垂直ガイドに沿ってウエハ保持アーム２０４を移動させる機構と、水平面内でウエハ保持アーム２０４を回転させる機構（図示せず）と、をさらに有している。搬送機構２０３により、各基板処理装置１に対するウエハＷの搬入出が実施される。

基板処理装置
次に図２乃至図９を参照して、基板処理装置１について説明する。

はじめに、基板処理装置１の各構成要素のうちウエハＷの上面に対する液処理を行うための構成要素について説明する。図２に示すように、基板処理装置１は、ウエハＷの上面に向けて第１薬液を吐出する第１薬液ノズル７３と、ウエハＷの上面に向けて第２薬液を吐出する第２薬液ノズル８３と、第１薬液ノズル７３および第２薬液ノズル８３の近傍にそれぞれ設けられ、ウエハＷの上面に向けてリンス処理液を吐出する第１リンスノズル７６および第２リンスノズル８６と、を備えている。

また図２に示すように、基板処理装置１は、ウエハＷを側方から覆うよう設けられたカップ体３をさらに備えている。カップ体３は、ウエハＷから飛散した薬液を受け止めるよう構成されたカバー部４５と、ウエハＷから飛散した薬液をカップ体３内の後述する液受け空間に導くフランジ部４４と、を有している。また図２においては、カップ体３内の後述する液受け空間に形成され、薬液を外部に排出するための排液口３８と、液の流れを促進するためのキャリア液を液受け空間に供給するキャリア液供給口３５ｂと、がそれぞれ点線で示されている。

第１薬液および第２薬液としては、互いに異なる薬液が用いられる。例えば第１薬液としては、アンモニア、過酸化水素および純水の混合溶液（ＳＣ−１液）などのアルカリ性の薬液が用いられ、また第２薬液としては、フッ化水素酸および純水の混合溶液（ＨＦ液）などの酸性の溶液が用いられる。またリンス処理液としては、ウエハＷ上に残っている薬液を洗い流すことができる液が用いられ、例えば純水（ＤＩＷ）が用いられる。

ところで、異なる種類の薬液が混ざり合うと、化学反応によって異物やガスが発生することが考えられる。例えば、アルカリ性の薬液と酸性の薬液とが混ざり合うと、化学反応によって塩が生成され、この塩によってウエハＷや基板処理装置１内の雰囲気が汚染されることが考えられる。本実施の形態においては、このような異なる種類の薬液同士が混ざり合うことを防ぐことができるよう、上述の第１薬液ノズル７３および第２薬液ノズル８３が構成されている。以下、各薬液ノズル７３，８３の構成の概略について説明する。

まず、各薬液ノズル７３，８３および各リンスノズル７６，８６から吐出される液の到達点および方向について説明する。図２において、後述する第１処理位置にある第１薬液ノズル７３から吐出された第１薬液が到達するウエハＷの上面上の領域（以下、第１薬液到達領域と称する）が、符号７４ａが付された実線で示されており、第１リンスノズル７６から吐出されたリンス処理液が到達するウエハＷの上面上の領域（以下、第１リンス液到達領域と称する）が、符号７７ａが付された実線で示されている。同様に、後述する第２処理位置にある第２薬液ノズル８３から吐出された第２薬液が到達するウエハＷの上面上の領域（以下、第２薬液到達領域と称する）が、符号８４ａが付された実線で示されており、第２リンスノズル８６から吐出されたリンス処理液が到達するウエハＷの上面上の領域（以下、第２リンス液到達領域と称する）が、符号８７ａが付された実線で示されている。

本実施の形態において、ウエハＷの中心点Ｗ_ｃと、上述の第１薬液到達領域７４ａの中心点７４ｃおよび第２薬液到達領域８４ａの中心点８４ｃとを結ぶことにより形成される薬液ノズル間中心角φ_１は、第１薬液到達領域７４ａを基準として図２に示す第１回転方向Ｒ_１に沿って薬液ノズル間中心角φ_１を見た場合に１８０度よりも大きくなっている。好ましくは、当該薬液ノズル間中心角φ_１は２４０度以上となっており、例えば図２に示す例においては薬液ノズル間中心角φ_１が約３００度となっている。このような薬液ノズル間中心角φ_１に関する条件が満たされるよう第１薬液ノズル７３および第２薬液ノズル８３を構成することにより、後述するように、一方の薬液ノズルから吐出される薬液が他方の薬液ノズルに付着することを防ぐことができ、これによって、異なる種類の薬液が混ざり合うことを防ぐことができる。

後述するように、第１薬液ノズル７３および第１リンスノズル７６からの液は、ウエハＷが第１回転方向Ｒ_１に回転している間に吐出される。また、第２薬液ノズル８３および第２リンスノズル８６からの液は、ウエハＷが第２回転方向Ｒ_２に回転している間に吐出される。ここで好ましくは、第１薬液ノズル７３および第１リンスノズル７６は、吐出される第１薬液およびリンス処理液の吐出方向が第１回転方向Ｒ_１に傾斜するように形成されている。ここで「吐出方向が第１回転方向Ｒ_１に傾斜する」とは、第１薬液およびリンス処理液の吐出方向を示すベクトル（図２において第１薬液ノズル７３および第１リンスノズル７６から出ている矢印）がウエハＷの第１回転方向Ｒ_１の成分を有していることを意味している。同様に、第２薬液ノズル８３および第２リンスノズル８６は、吐出される第２薬液およびリンス処理液の吐出方向が第２回転方向Ｒ_２に傾斜するように形成されている。このように薬液やリンス処理液などの液の吐出方向にウエハＷの回転方向と同一の成分を持たせることにより、ウエハＷの上面に到達した液の速度と、ウエハＷの回転速度との差を小さくすることができる。これによって、各ノズル７３，７６，８３，８６から吐出された液がウエハＷの上面に到達することによって生じる衝突エネルギーを小さくすることができる。このことにより、ウエハＷの上面に到達した液が跳ね返ったり、ウエハＷの上面上に存在していた液が跳ね上がったりし、これによって各ノズル７３，７６，８３，８６において異なる種類の薬液が混ざり合ってしまうことを防ぐことができる。また、液の跳ね返りを防ぐことにより、吐出した液を無駄にすることなく吐出した液の多くをウエハＷの処理に有効に利用することができる。

好ましくは、図２に示すように、第１リンスノズル７６は、第１回転方向Ｒ_１に関して第１薬液ノズル７３の上流側に配置されている。これによって、第１薬液ノズル７３から吐出される第１薬液が第１リンスノズル７６に付着することを防ぐことができる。同様に、第２リンスノズル８６は、第２回転方向Ｒ_２に関して第２薬液ノズル８３の上流側に配置されている。これによって、第２薬液ノズル８３から吐出される第２薬液が第２リンスノズル８６に付着することを防ぐことができる。このように第１リンスノズル７６および第２リンスノズル８６を配置することにより、リンスノズル７６，８６上において第１薬液と第２薬液とが混ざり合ってしまうことをより確実に防ぐことができる。

また好ましくは、第１リンス液到達領域７７ａは、第１薬液到達領域７４ａよりもウエハＷの中心側に位置している。すなわち、リンス処理液は、第１薬液よりもウエハＷの中心側に供給される。これによって、ウエハＷの上面のうち第１薬液が流れた領域をリンス処理液によって確実に洗浄することができる。同様に、好ましくは、第２リンス液到達領域８７ａは、第２薬液到達領域８４ａよりもウエハＷの中心側に位置している。

次に、基板処理装置１の各構成要素のうちウエハＷの下面に対する液処理を行うための構成要素について説明する。図２に示すように、基板処理装置１は、ウエハＷの下面に向けて第１薬液を吐出する第１薬液吐出口９０と、ウエハＷの下面に向けて第２薬液を吐出する第２薬液吐出口９５と、をさらに備えている。第１薬液吐出口９０および第２薬液吐出口９５から吐出される第１薬液および第２薬液としては、上述の第１薬液ノズル７３および第２薬液ノズル８３から吐出される第１薬液および第２薬液と同一のものが用いられる。なお後述するように、ウエハＷの下面に向けてリンス処理液を吐出するリンス処理液吐出口などのさらなる吐出口が基板処理装置１に含まれていてもよい。

次に、各薬液吐出口９０，９５から吐出される液の到達点および方向について説明する。図２において、第１薬液吐出口９０から吐出された第１薬液が到達するウエハＷの下面上の領域（以下、第３薬液到達領域と称する）が、符号９１ａが付された点線で示されており、第２薬液吐出口９５から吐出された第２薬液が到達するウエハＷの下面上の領域（以下、第４薬液到達領域と称する）が、符号９６ａが付された点線で示されている。

ここで、ウエハＷの中心点Ｗ_ｃと、上述の第３薬液到達領域９１ａの中心点９１ｃおよび第４薬液到達領域９６ａの中心点９６ｃとを結ぶことにより形成される薬液吐出口間中心角φ_２は、第３薬液到達領域９１ａを基準として図２に示す第１回転方向Ｒ_１に沿って薬液吐出口間中心角φ_２を見た場合に１８０度よりも大きくなっている。好ましくは、当該薬液吐出口間中心角φ_２は２４０度以上となっており、例えば図２に示す例においては薬液吐出口間中心角φ_２が約２６０度となっている。このような薬液吐出口間中心角φ_２に関する条件が満たされるよう第１薬液吐出口９０および第２薬液吐出口９５を構成することにより、後述するように、一方の薬液吐出口から吐出された薬液が他方の薬液吐出口に付着することを防ぐことができ、これによって、異なる種類の薬液が混ざり合うことを防ぐことができる。

後述するように、第１薬液吐出口９０からの第１薬液は、第１薬液ノズル７３からの第１薬液と同時に、ウエハＷが第１回転方向Ｒ_１に回転している間に吐出される。また、第２薬液吐出口９５からの第２薬液は、第２薬液ノズル８３からの第２薬液と同時に、ウエハＷが第２回転方向Ｒ_２に回転している間に吐出される。ここで好ましくは、第１薬液吐出口９０は、吐出される第１薬液の吐出方向が第１回転方向Ｒ_１に傾斜するように形成されている。同様に、第２薬液吐出口９５は、吐出される第２薬液の吐出方向が第２回転方向Ｒ_２に傾斜するように形成されている。これによって、上述の薬液ノズル７３，８３の場合と同様に、各薬液吐出口９０，９５から吐出された薬液がウエハＷの下面に到達することによって生じる衝突エネルギーを小さくすることができる。このことにより、ウエハＷの下面に到達した液が大きく飛散することを防ぐことができる。

ところで、各薬液吐出口９０，９５からウエハＷの下面に到達した薬液は、ウエハＷが回転している間にウエハＷの上面側に回りこむことがある。この場合、仮にウエハＷの上面上に回り込んだ薬液が存在している領域に向けて、ウエハＷの上側にある薬液ノズル７３，８３からの薬液が吐出されると、薬液吐出口９０，９５から吐出された薬液と薬液ノズル７３，８３から吐出された薬液とが衝突してミストが発生することがある。ここで本実施の形態によれば、図２に示すように、第１薬液吐出口９０は、第１回転方向Ｒ_１に関して第３薬液到達領域９１ａがウエハＷの上面上の第１薬液到達領域７４ａの下流側に配置されるよう、構成されている。このため、第１回転方向Ｒ_１に沿って見た場合の、第３薬液到達領域９１ａから第１薬液到達領域７４ａまでの距離が長くなっている。従って、第１薬液吐出口９０から吐出されてウエハＷの下面に到達した第１薬液は、ウエハＷが回転することによって第１薬液到達領域７４ａまで運ばれるよりも前に、遠心力によってウエハＷから振り切られる。これによって、第１薬液吐出口９０から供給された第１薬液が第１薬液到達領域７４ａ内に存在することを防ぐことができる。このことにより、第１薬液吐出口９０から供給された第１薬液と第１薬液ノズル７３から供給された第１薬液とがウエハＷの上面側において衝突することを防ぐことができ、これによって、第１薬液のミストの発生を防ぐことができる。同様に、第２薬液吐出口９５は、第２回転方向Ｒ_２に関して第４薬液到達領域９６ａがウエハＷの上面上の第２薬液到達領域８４ａの下流側に配置されるよう、構成されている。このことにより、第２薬液吐出口９５から供給された第２薬液と第２薬液ノズル８３から供給された第２薬液とがウエハＷの上面側において衝突することを防ぐことができ、これによって、第２薬液のミストの発生を防ぐことができる。

第１薬液吐出口９０の具体的な配置は特には限られないが、好ましくは、ウエハＷの中心点Ｗ_ｃと、第３薬液到達領域９１ａの中心点９１ｃおよび第１薬液到達領域７４ａの中心点７４ｃとを結ぶことにより形成される中心角φ_３が１０度以上となるよう、第１薬液吐出口９０が構成される。同様に、好ましくは、ウエハＷの中心点Ｗ_ｃと、第４薬液到達領域９６ａの中心点９６ｃおよび第２薬液到達領域８４ａの中心点８４ｃとを結ぶことにより形成される中心角φ_４が１０度以上となるよう、第２薬液吐出口９５が構成される。

上述の到達点や方向を満たす薬液およびリンス処理液の吐出を可能とするための、基板処理装置１の具体的な構造について、図３乃至図５を参照して以下に説明する。図３は、図２に示す基板処理装置１をIII−III方向から見た縦断面図であり、図４は、図２に示す基板処理装置をIV−IV方向から見た縦断面図であり、図５は、図２に示す基板処理装置１をＶ−Ｖ方向から見た縦断面図である。なお図３においては、説明の便宜上、基板処理装置１をIII−III方向から見た縦断面図に第１薬液ノズル７３、第１リンスノズル７６および第１薬液吐出口９０のいずれもが描かれている。同様に図４においては、説明の便宜上、基板処理装置１をIV−IV方向から見た縦断面図に第２薬液ノズル８３、第２リンスノズル８６および第２薬液吐出口９５のいずれもが描かれている。

図３乃至図５に示すように、基板処理装置１は、ウエハＷを水平に保持する基板保持部２１と、基板保持部２１の下側に接続され、基板保持部２１を回転させる回転駆動部２４と、ウエハＷを側方から覆うよう設けられた上述のカップ体３と、ウエハＷの上面と空間を介して対向するよう設けられたカバー部材５と、を備えている。以下、各構成要素について順に説明する。

（基板保持部および回転駆動部）
基板保持部２１は、ウエハＷの周縁部に接触することなくウエハＷを水平に保持するよう構成されており、例えば、ウエハＷの下面の中央部を吸着保持するバキュームチャックとして構成されている。回転駆動部２４は、基板保持部２１を支持する回転駆動軸２２と、回転駆動軸２２を回転させるモーター２３と、を含んでいる。回転駆動軸２２を回転させることによって、基板保持部２１に保持されたウエハＷを鉛直方向軸周りに回転させることができる。なお回転駆動部２４の回転駆動軸２２は、第１回転方向Ｒ_１および第１回転方向Ｒ_１とは逆の第２回転方向Ｒ_２のいずれにも回転可能であるよう構成されている。

（カップ体）
カップ体３はリング状の部材であり、基板保持部２１およびウエハＷの側端部を側方から取り囲むとともに、ウエハＷが挿入され得る開口部４６を有するよう構成されている。はじめにカップ体３の内部構造について説明する。図３乃至図５に示すように、カップ体３の内部には、上方に向かって開口され、円周方向に沿って延びる溝部３３が形成されている。溝部３３は、液処理の間に発生する気体やウエハＷ周辺に送り込まれる気体を外部に排出するための流路となるリング状の排気空間３４と、排気空間３４と連通する排気口３７と、液処理の間にウエハＷから飛散する薬液やリンス処理液などの液を受けて外部に排出するための流路となるリング状の液受け空間３５と、液受け空間３５と連通する排液口３８と、を含んでいる。排気空間３４と液受け空間３５とは、溝部３３に形成された壁３６によって区画されている。壁３６は、気体流中に分散されている液体成分が、液受け空間３５で当該気体流から分離されるように構成されている。さらに、図２および図５に示すように、カップ体３には、排液口３８への液の流れを促進するためのキャリア液を液受け空間３５に供給するキャリア液供給口３５ｂが形成されている。

排気空間３４に流入した気体は、排気口３７を介して外部に排出される。また液受け空間３５によって受けられた液は、排液口３８から排液機構３８ｓを介して外部に排出される。排気口３７および排液口３８は、図５に示すように互いに近接するようカップ体３の同一の側に配置されている。なお、排気口３７と排液口３８は異なる側に配置されていてもよい。さらに、排液機構３８ｓは、排出される液の種類に応じて異なる経路で排出されるように構成されていてもよい。例えば図５に示すように、排液機構３８ｓは、第１切替バルブ３８ａと、第１切替バルブ３８ａに接続された第１排液管３８ｃと、第２切替バルブ３８ｂと、第２切替バルブ３８ｂに接続された第２排液管３８ｄと、を含んでいてもよい。この場合、液受け空間３５内に存在している液の種類に応じて切替バルブ３８ａ，３８ｂのいずれか一方を開くことにより、異なる液を異なる経路で排出することができる。例えば、第１薬液を排出するときには第１切替バルブ３８ａを開けて第１排液管３８ｃに第１薬液を排出し、第２薬液を排出するときには第２切替バルブ３８ｂを開けて第２排液管３８ｄに第２薬液を排出する。液の種類に応じてさらに細かく排出経路を分けるため、３つ以上の切替バルブおよび排液管が設けられていてもよい。

次にカップ体３の外形について説明する。ここで、カップ体３のうち溝部３３よりも内側に位置する部分を内周部３１と定義し、カップ体３のうち溝部３３よりも外側に位置する部分を外周部３２と定義する。図３乃至図５に示すように、カップ体３は、内周部３１の上端部から外方へ延びるフランジ部４４と、外周部３２の上端部から内方へフランジ部４４の上方において延びるカバー部４５と、を有している。このうちフランジ部４４は、ウエハＷから飛散した液やウエハＷ周辺からの気体流をカップ体３の内部に導くよう構成されている。またカバー部４５は、回転するウエハＷから飛散した液をその内面で受け止め、カップ体３の内部に導くよう構成されている。

また、カップ体３を昇降させるための昇降機構４７がカップ体３に取り付けられている。

（カバー部材）
カバー部材５は、液処理時にカップ体３の開口部４６を上方から覆うよう構成されており、例えば円板形状に構成されている。カバー部材５には、カバー部材５を昇降させる昇降機構４８が取り付けられている。これによって、カバー部材５をカップ体３に対して近接させ、若しくはカバー部材５をカップ体３から遠ざけることができる。図３乃至図５においては、ウエハＷの液処理時におけるカバー部材５の位置が示されている。

次に、ウエハＷに対して液や気体を吐出するノズルおよび吐出口の構造について説明する。

はじめに、ウエハＷに対して上方から処理を施すための、上述の薬液ノズル７３，８３およびリンスノズル７６，８６などの構成要素の構造について説明する。図３に示すように、第１薬液ノズル７３および第１リンスノズル７６は共に、第１ノズル駆動部７０によって支持されている。第１ノズル駆動部７０は、第１薬液ノズル７３および第１リンスノズル７６を一体として移動させることができる。第１薬液ノズル７３には、第１薬液ノズル７３にＳＣ−１液などの第１薬液を供給する第１薬液供給部７５が供給管７５ａを介して接続されており、第１リンスノズル７６には、第１リンスノズル７６にＤＩＷなどのリンス処理液を供給するリンス処理液供給部７８が供給管７８ａを介して接続されている。同様に、図４に示すように、第２薬液ノズル８３および第２リンスノズル８６は共に、第２ノズル駆動部８０によって支持されている。第２ノズル駆動部８０は、第２薬液ノズル８３および第２リンスノズル８６を一体として移動させることができる。第２薬液ノズル８３には、第２薬液ノズル８３にＨＦ液などの第２薬液を供給する第２薬液供給部８５が供給管８５ａを介して接続されており、第２リンスノズル８６には、第２リンスノズル８６にＤＩＷなどのリンス処理液を供給するリンス処理液供給部８８が供給管８８ａを介して接続されている。各ノズル駆動部７０，８０は、後述するようにカバー部材５に取り付けられている。

（ノズル駆動部）
図６を参照して、ノズル駆動部７０，８０について詳細に説明する。図６は、第１ノズル駆動部７０によって支持された第１薬液ノズル７３および第１リンスノズル７６を斜め下方から見た場合を示す図である。

図６に示すように、第１ノズル駆動部７０は、第１薬液ノズル７３および第１リンスノズル７６を支持する第１ノズルヘッド７２と、第１ノズルヘッド７２に接続され、その軸方向に移動可能に構成されたヘッド支持シャフト７１と、を有している。同様に、図示はしないが、第２ノズル駆動部８０は、第２薬液ノズル８３および第２リンスノズル８６を支持する第２ノズルヘッドと、第２ノズルヘッドに接続され、その軸方向に移動可能に構成されたヘッド支持シャフトと、を有している。各ノズル駆動部７０，８０のヘッド支持シャフトは、その軸方向がウエハＷの半径方向に略平行するよう配置されている。このようなノズル駆動部７０，８０を用いることにより、状況に応じて各薬液ノズル７３，８３およびリンスノズル７６，８６をウエハＷ上の所望の位置に配置させることができる。

以下、図７（ａ）（ｂ）（ｃ）（ｄ）を参照して、各薬液ノズル７３，８３およびリンスノズル７６，８６がとり得る、ウエハＷの半径方向における位置について説明する。なお第１薬液ノズル７３および第１リンスノズル７６と第２薬液ノズル８３および第２リンスノズル８６とがとり得る半径方向位置は略同一であるので、ここでは第１薬液ノズル７３および第１リンスノズル７６についてのみ説明する。図７（ａ）（ｂ）（ｃ）（ｄ）において第１薬液ノズル７３および第１リンスノズル７６から吐出される第１薬液およびリンス処理液の液流がそれぞれ符号７４ｂおよび７７ｂによって表されている。

図７（ａ）は、後述する第１処理位置よりも外側の位置であって、第１薬液ノズル７３から吐出される第１薬液がウエハＷに到達しない位置（以下、第１外方位置と称する）にある第１薬液ノズル７３を示している。なお図７（ａ）およびそれ以降の図において、第１外方位置にある第１薬液ノズル７３が符号７３（１）によって表されている。同様に他の構成要素についても、後に示す括弧付きの符号（１）は、その構成要素が外方位置にあることを意味している。

第１外方位置においては、例えば、液流７４ｂを安定させるためのいわゆるダミーディスペンスを、ウエハＷの周縁部に向けて第１薬液を吐出する前に実施することができる。図７（ａ）においては、第１外方位置にある第１薬液ノズル７３から吐出される第１薬液の液流７４ｂが、ウエハＷの周縁部よりも外側に向かう様子が示されている。

図７（ｂ）は、ウエハＷの周縁部に向けて第１薬液を吐出するために第１薬液ノズル７３が配置される位置（以下、第１処理位置と称する）を示している。なお図７（ｂ）およびそれ以降の図において、第１処理位置にある第１薬液ノズル７３が符号７３（２）によって表されている。同様に他の構成要素についても、後に示す括弧付きの符号（２）は、その構成要素が処理位置にあることを意味している。薬液ノズル７３が第１処理位置にあるとき、薬液ノズル７３から吐出された第１薬液の液流７４ｂが、ウエハＷの周縁部に到達する。ウエハＷの周縁部に到達した第１薬液は、図７（ｂ）において符号７４で示すように、ウエハＷの回転に起因して発生する遠心力によって、ウエハＷの上面において周縁側に広がっていく。

図７（ｃ）は、ウエハＷの周縁部に向けてリンス処理液を吐出するために第１リンスノズル７６が配置される位置（リンス処理位置）を示している。第１リンスノズル７６がリンス処理位置にあるとき、第１リンスノズル７６から吐出されたリンス処理液が、ウエハＷの周縁部に到達する。このとき、ウエハＷ上におけるリンス処理液の到達領域は、薬液ノズル７３から吐出されてウエハＷ上に到達する第１薬液の到達領域よりもウエハＷの中心側となっている。ウエハＷ上に到達した第１リンス処理液は、図７（ｃ）において符号７７で示すように、ウエハＷの回転に起因して発生する遠心力によって、ウエハＷの上面において周縁側に広がっていく。

図７（ｄ）は、第１薬液を吐出していない間に第１薬液ノズル７３が配置され得る位置（以下、第１待機位置と称する）を示している。なお図７（ｄ）およびそれ以降の図において、第１待機位置にある第１薬液ノズル７３が符号７３（３）によって表されている。同様に他の構成要素についても、後に示す括弧付きの符号（３）は、その構成要素が待機位置にあることを意味している。なお本実施の形態においては、第１薬液ノズル７３および第１リンスノズル７６は一体として移動するよう構成されており、そして第１薬液ノズル７３が第１待機位置にある場合、第１リンスノズル７６もその待機位置にある。

図７（ｄ）に示すように、第１薬液ノズル７３の第１待機位置は、上述の第１外方位置および第１処理位置、および第１リンスノズル７６のリンス処理位置よりもウエハＷの中心側に存在している。また第１リンスノズル７６の待機位置は、第１薬液ノズル７３の第１外方位置および第１処理位置、および第１リンスノズル７６のリンス処理位置よりもウエハＷの中心側に存在している。第１薬液ノズル７３の第１待機位置および第１リンスノズル７６の待機位置は、第２薬液ノズル８３などの他のノズルによる液処理が行われている間、第１薬液ノズル７３および第１リンスノズル７６に他のノズルからの薬液などが付着することを防止するために第１薬液ノズル７３および第１リンスノズル７６を退避させる位置である。

このように状況に応じて第１ノズル駆動部７０によって第１薬液ノズル７３および第１リンスノズル７６を移動させることにより、後述するように、第１薬液ノズル７３および第１リンスノズル７６が汚染されることを防ぎながら、第１薬液ノズル７３および第１リンスノズル７６による液処理を効果的に実施することができる。

図７（ａ）に示すように、第１リンスノズル７６は、第１薬液ノズル７３よりもウエハＷの中心側に配置されている。すなわち、図７（ｃ）に示すように、第１ノズル駆動部７０によって第１薬液ノズル７３を第１外方位置に位置づけると、同時に第１リンスノズル７６がその処理位置（リンス処理位置）に位置づけられるよう、第１薬液ノズル７３および第１リンスノズル７６が第１ノズルヘッド７２に取り付けられている。これによって、後述するように、第１薬液ノズル７３から吐出される第１薬液による液処理が終了した後、即座にウエハＷの周縁部にリンス処理液を供給することができる。また第１リンスノズル７６を中心側に配置することによって、第１薬液ノズル７３から吐出される第１薬液によって第１リンスノズル７６が汚染されることを防ぐことができる。なお第１リンスノズル７６が汚染されるという効果は、後述する気体供給口４９から噴出される気体によってウエハＷの中心側から外側へ向かう気体の流れを生成することによってさらに高められる。図示はしないが、好ましくは、第２リンスノズル８６もまた、第２薬液ノズル８３が外方位置にある際に第２リンスノズル８６から吐出されたリンス処理液の液流がウエハＷの周縁部に到達するよう、第２薬液ノズル８３よりもウエハＷの中心側に配置されている。

図７（ｄ）に示すように、第１待機位置にある第１薬液ノズル７３とウエハＷとの間には、第１薬液ノズル７３から滴下する第１薬液を受けるための第１液受け部５１が設けられている。このような第１液受け部５１を設けることにより、第１待機位置にある第１薬液ノズル７３から滴下する第１薬液によってウエハＷが汚染されることを防ぐことができる。第１液受け部５１の具体的な構成は特には限られないが、例えば第１液受け部５１は、カバー部材５に固定され、液が溢れることを防止するための縁部が形成された部材として構成される。また図４に示すように、第１液受け部５１と略同一の第２液受け部５２が、待機位置にある第２薬液ノズル８３から滴下する第２薬液を受けるために設けられていてもよい。

好ましくは、図６に示すように、第１薬液ノズル７３の近傍には、第１薬液ノズル７３に向けて洗浄液を吐出する洗浄液吐出口５４ｂが形成された洗浄液供給管５４ａを有する第１薬液ノズル洗浄機構５３が設けられていてもよい。また第１薬液ノズル洗浄機構５３の洗浄液供給管５４ａには、第１リンスノズル７６に向けて洗浄液を吐出する洗浄液吐出口５４ｂがさらに形成されていてもよい。このような第１薬液ノズル洗浄機構５３を設けることにより、第１薬液ノズル７３や第１リンスノズル７６に付着した液などを洗い流すことができる。このような第１薬液ノズル洗浄機構５３は、第１ノズル駆動部７０に設けられている。洗浄液としては、例えばＤＩＷなどが用いられる。また好ましくは、図示はしないが、第２薬液ノズル８３に向けて洗浄液を吐出する洗浄液吐出口を有する第２薬液ノズル洗浄機構が第２薬液ノズル８３の近傍に設けられている。第２薬液ノズル洗浄機構の構成は、上述の第１薬液ノズル洗浄機構５３の構成と略同一であるので、詳細な説明は省略する。

図３および図４に示すように、好ましくは、各ノズル７３、７６、８３、８６は各々、吐出される薬液およびリンス処理液の吐出方向が、ウエハＷの半径方向外側を向いた成分を持つように形成されている。具体的には、図３および図４において薬液ノズル７３，８３について点線の円で囲まれた部分に拡大して示すように、各薬液ノズル７３，８３の吐出口７３ａ，８３ａから吐出される第１薬液および第２薬液の液流７４ｂ，８４ｂが水平面Ｈとの間でなす角θ_１，θ_２が、９０度よりも小さくなるよう、各薬液ノズル７３，８３が構成されている。これによって、薬液ノズル７３，８３から吐出されてウエハＷ上に到達した薬液が、より迅速にウエハＷの半径方向外側へ飛散していくようになる。このことにより、ウエハＷ近傍の雰囲気をより清浄に保つことができる。図３および図４に示すように、リンスノズル７６，８６もまた、同様に形成されている。

図３乃至図５に示すように、基板処理装置１は、第１薬液ノズル７３および第２薬液ノズル８３よりもウエハＷの中心側においてカバー部材５に設けられ、ウエハＷの上面に向けて清浄な気体を噴出する気体供給口４９をさらに備えていてもよい。気体としては、例えば、窒素などの不活性ガスや、ドライエアなどが好ましい。このような気体供給口４９を設けることにより、カバー部材５とウエハＷとの間の空間において矢印によって示されているように、ウエハＷの周辺においてウエハＷの中心側から外側へ向かう気体の流れを生成することができる。このことにより、薬液による液処理工程の際にウエハＷ周辺で薬液のミストが発生したとしても、薬液やミストがウエハＷ中心側へ入り込むことを防止し、薬液やミストを迅速にウエハＷの外側に排出することができる。これによって、第１薬液ノズル７３、第２薬液ノズル８３やその他の構成要素（リンスノズルなど）が薬液のミストによって汚染されることを防ぐことができ、したがって、ウエハＷ周辺の雰囲気を清浄に保つことができる。

次に、ウエハＷに対して下方から処理を施すための、上述の薬液吐出口９０，９５などの構成要素の構造について説明する。図３に示すように、第１薬液吐出口９０はカップ体３の内周部３１に形成されており、また第１薬液吐出口９０には、ＳＣ−１液などの第１薬液を供給する第１薬液供給部９２が供給管９２ａを介して接続されている。同様に、図４に示すように、第２薬液吐出口９５はカップ体３の内周部３１に形成されており、また第２薬液吐出口９５には、ＨＦ液などの第２薬液を供給する第２薬液供給部９７が供給管９７ａを介して接続されている。

好ましくは、第１薬液吐出口９０および第２薬液吐出口９５は各々、第１薬液ノズル７３および第２薬液ノズル８３と同様に、吐出される第１薬液および第２薬液の吐出方向が、ウエハＷの半径方向外側を向いた成分を持つように形成されている。これによって、薬液吐出口９０，９５から吐出されてウエハＷに到達した薬液が、より迅速にウエハＷの半径方向外側へ飛散していくようになる。このことにより、第１薬液吐出口９０および第２薬液吐出口９５が薬液のミストによって汚染されることを防ぐことができ、したがって、ウエハＷ近傍の雰囲気をより清浄に保つことができる。

図３に示すように、第１回転方向Ｒ_１に関して第１薬液吐出口９０の上流側には、ウエハＷの下面の周縁部に向けてリンス処理液を吐出するリンス処理液吐出口９３が形成されている。同様に、図４に示すように、第２回転方向Ｒ_２に関して第２薬液吐出口９５の上流側には、ウエハＷの下面の周縁部に向けてリンス処理液を吐出するリンス処理液吐出口９８が形成されている。リンス処理液吐出口９３，９８を薬液吐出口９０，９５よりも上流側に配置することによって、薬液吐出口９０，９５から吐出される薬液がリンス処理液吐出口９３，９８に付着することを防ぐことができる。またリンス処理液吐出口９３，９８は、薬液吐出口９０，９５よりもウエハＷの中心側に設けられている。この結果、リンス処理液吐出口９３，９８から吐出されたリンス処理液が到達するウエハＷの下面上の領域が、ウエハＷの下面上の薬液到達領域９１ａ，９６ａよりもウエハＷの中心側に形成される。すなわち、ウエハＷの上面側の場合と同様に、ウエハＷの下面側においても、リンス処理液は、薬液よりもウエハＷの中心側から供給される。これによって、ウエハＷの下面のうち薬液が流れた領域をリンス処理液によって確実に洗浄することができる。
なお、リンス処理液が薬液よりもウエハＷの中心側から供給される限りにおいて、リンス処理液吐出口９３，９８の配置が特に限られることはなく、例えば、薬液吐出口９０，９５とリンス処理液吐出口９３，９８とがウエハＷの円周方向に沿って並べられていてもよい。

図５に示すように、薬液吐出口９０，９５およびリンス処理液吐出口９３，９８よりもウエハＷの中心側において、カップ体３のフランジ部４４に向けてＤＩＷなどの洗浄液を吐出する洗浄液吐出口４０がカップ体３の内周部３１に形成されていてもよい。洗浄液吐出口４０は、図３乃至図５および図８に示すように、ウエハＷの円周方向に沿って延びるスリット状の形状を有している。なお図８は、洗浄液吐出口４０や薬液吐出口９０，９５およびリンス処理液吐出口９３，９８などが形成されたカップ体３を斜め上方から見た場合を示す斜視図である。このような洗浄液吐出口４０を設けることにより、図８に示すように、洗浄液吐出口４０から外方へ向かう洗浄液の液流４１ｂを全方向において生成することができる。これによって、薬液が付着しているフランジ部４４を全域にわたって洗浄液によって洗浄することができる。洗浄液吐出口４０に洗浄液を供給するための具体的な構成は特には限定されないが、例えば図３乃至図５に示すように、洗浄液吐出口４０には、洗浄液を貯留するリング状のバッファ４０ａが接続されており、バッファ４０ａには、洗浄液を供給する洗浄液供給部４１が供給管４１ａを介して接続されている。

また図５に示すように、薬液吐出口９０，９５およびリンス処理液吐出口９３，９８よりもウエハＷの中心側において、ウエハＷの下面に向けて気体を噴出する気体供給口４２がカップ体３の内周部３１に形成されていてもよい。気体供給口４２には、窒素などの不活性ガスや、ドライエアなどの気体を供給する気体供給部４３が供給管４３ａを介して接続されている。このような気体供給口４２を用いてウエハＷの下面に気体を吹き付けることにより、ウエハＷの中心側へ薬液やリンス処理液が入り込むことを防止することができる。さらに、薬液やリンス処理液による液処理が完了した後のウエハＷの下面を迅速に乾燥させることができる。なお上述の洗浄液吐出口４０によって洗浄されるフランジ部４４の場合とは異なり、気体供給口４２によって気体が吹き付けられるウエハＷは、回転駆動軸２２によって回転自在となっている。このため、気体供給口４２がスリット状ではなく点状で構成されている場合であっても、ウエハＷの下面に対してウエハＷの円周方向に沿って隙間無く気体供給口４２からの気体を吹き付けることができる。

（カップ体の液受け空間）
次に、カップ体３の液受け空間３５に関して、考えられる課題、および、その課題を解決するための好ましい構成について説明する。

上述のように、本実施の形態による基板処理装置１によって実施される液処理は、ウエハＷの周縁部に対する液処理となっている。すなわち、処理対象となるウエハＷの領域が限定されている。このため、本実施の形態による基板処理装置１において使用される薬液やリンス処理液の量は、ウエハＷの全域に対して液処理を行うタイプの基板処理装置に比べて少なくなっている。例えば、液処理の際にウエハＷに対して吐出される薬液の量は、毎分あたり約３０ｍｌとなっている。この場合、用いられる薬液の種類によっては、カップ体３の液受け空間３５内における薬液の流動性が不足し、このため、薬液が排液口３８に到達することに時間がかかる、ということが考えられる。薬液が液受け空間３５内において長時間留まると、薬液からのミストや、異なる薬液が混ざり合うことによる異物などを発生させることになり得るため、好ましくない。

ここで本実施の形態によれば、液受け空間３５の底面が、排液口３８に向かって下方に傾斜している液受け底面３９によって構成されており、そして排液口３８は、液受け底面３９のうち最も低い位置にある液受け底面３９ｂに形成されている。この液受け底面３９ｂの高さは、例えば図５に示すように、液受け底面３９のうち最も高い位置にある（最も高位になっている）液受け底面３９ａよりもΔｈだけ低くなっている。このように排液口３８に向かう下方への傾斜を液受け底面３９に設けることにより、排液口３８へ向かう流れを液受け空間３５内の薬液に対して発生させることができる。このことにより、液受け空間３５内に存在している薬液をより迅速に排液口３８に到達させることができる。なお、最も高い位置にある液受け底面３９ａと排液口３８とは、１８０度離して設けられていることが好ましい。この場合、最も高い位置にある液受け底面３９ａから左右両方に、排液口３８に向けた傾斜が形成される。なお本実施の形態において、最も高い位置にある液受け底面３９ａは、第１薬液到達領域７４ａと第２薬液到達領域８４ａとの間に位置している。具体的には、最も高い位置にある液受け底面３９ａは、第１回転方向Ｒ_１に沿って第１薬液到達領域７４ａの上流側であって、かつ、第２回転方向Ｒ_２に沿って第２薬液到達領域８４ａの上流側に位置している。

好ましくは、図２および図５に示すように、最も高い位置にある液受け底面３９ａにおいて、液受け底面３９上にキャリア液３５ｃを供給するキャリア液供給口３５ｂが設けられている。ここで「キャリア液」とは、液受け空間３５内における液の流量を増加させ、これによって液受け底面３９に沿って排液口３８に向かう安定した液流を形成するために、液受け空間３５内に供給される液である。このようなキャリア液の種類が特に限られることはないが、例えばＤＩＷが用いられる。

キャリア液供給口３５ｂは、好ましくは、図２に示すように、第１薬液到達領域７４ａと第２薬液到達領域８４ａとの間、さらに好ましくは中間点に対応する位置に設けられている。なお「中間点に対応する位置」とは、第１薬液到達領域７４ａの中心点７４ｃと第２薬液到達領域８４ａの中心点８４ｃとを結ぶ直線の中点と、ウエハＷの中心点Ｗ_ｃとを通る直線上にキャリア液供給口３５ｂが配置されていることを意味している。このような位置にキャリア液供給口３５ｂを設けることにより、第１薬液ノズル７３から吐出されて液受け空間３５に至った第１薬液、および、第２薬液ノズル８３から吐出されて液受け空間３５に至った第２薬液のいずれをも効果的に排液口３８に向かわせることができる。

図９は、ウエハＷから飛散して液受け空間３５に至った薬液などの液３５ｄが排液口３８に向かう様子を概略的に示す図である。図９に示すように、液受け空間３５においては、液受け底面３９における傾斜と、キャリア液供給口３５ｂから供給されたキャリア液３５ｃとによって、液受け底面３９に沿って排液口３８に向かう液流が形成されている。このため、ウエハＷから飛散して液受け空間３５に至る液３５ｄの量が少ない場合であっても、キャリア液３５ｃをキャリアとして液３５ｄを迅速に排液口３８に至らせることができる。これによって、薬液などが液受け空間３５内に長時間留まることを防ぐことができる。

なお、液受け底面３９の傾斜の程度や、キャリア液供給口３５ｂから供給されるキャリア液３５ｃの量が特に限定されることはなく、ウエハＷから飛散して液受け空間３５に至る液３５ｄの量などに応じて適宜設定される。

（制御部）
基板処理装置１は、その全体の動作を統括制御する制御部７を有している。制御部７は、基板処理装置１の全ての機能部品（例えば回転駆動軸２２、昇降機構４７，４８、洗浄液供給部４１、気体供給部４３、ノズル駆動部７０，８０、薬液供給部７５，８５，９２，９７、リンス処理液供給部７８，８８，９４，９９など）の動作を制御する。制御部７は、ハードウエアとして例えば汎用コンピュータと、ソフトウエアとして当該コンピュータを動作させるためのプログラム（装置制御プログラムおよび処理レシピ等）とにより実現することができる。ソフトウエアは、コンピュータに固定的に設けられたハードディスクドライブ等の記憶媒体に格納されるか、或いはＣＤＲＯＭ、ＤＶＤ、フラッシュメモリ等の着脱可能にコンピュータにセットされる記憶媒体に格納される。プロセッサは必要に応じてユーザーインターフェースからの指示等に基づいて所定の処理レシピを記憶媒体から呼び出して実行させ、これによって制御部７の制御の下で基板処理装置１の各機能部品が動作して所定の処理が行われる。

次に、上述した基板処理装置１を用いて、ウエハＷの周縁部にある不要な膜や物質を除去する液処理の一連の工程について説明する。

＜ウエハ搬入および設置工程＞
はじめに、カバー部材５を上方へ退避させ、カップ体３を下方に退避させる。その後、ウエハＷを基板処理装置１の内部に搬入し、ウエハＷを基板保持部２１上に載置する。基板保持部２１は、吸着などによってウエハＷを保持する。その後、ウエハＷがカップ体３の開口部４６に配置されるようカップ体３を上昇させる。また、カップ体３の開口部４６がカバー部材５によって覆われるよう、カバー部材５を下降させる。これによって、図３乃至図５に示すように、カバー部材５がウエハＷの上面と所定の空間を介して対向している、液処理のための状態が実現される。

次に、気体供給口４９より、ウエハＷの上面に向けて清浄な気体が供給される。これによって、ウエハＷとカバー部材５との間の空間において、ウエハＷの中心側から外側へ向かう気体の流れが生成される。なお以下の工程において、特に言及しない限り、気体供給口４９からウエハＷに向けて常に気体が送り込まれている。

＜第１薬液処理工程＞
次に図１０（ａ）〜（ｆ）を参照して、ウエハＷの液処理工程について説明する。はじめに、第１薬液（ＳＣ−１液）をウエハＷに向けて吐出する第１薬液処理工程について説明する。

はじめに、回転駆動部２４によってウエハＷ（ウエハＷを保持する基板保持部２１）を第１回転方向Ｒ_１に回転させる。回転数は例えば２０００〜３０００ｒｐｍとなっている。また図１０（ａ）に示すように、第１薬液ノズル７３を第１外方位置へ移動させる。このとき第２薬液ノズル８３は、第２薬液ノズル８３がウエハＷの周縁部に向けて第２薬液を吐出する際に位置する後述の第２処理位置よりもウエハＷの中心側にある第２待機位置に配置されている。次に、第１薬液ノズル７３における第１薬液のダミーディスペンスを開始し、これによって第１薬液の液流７４ｂを安定させる。

液流７４ｂが安定したら、第１薬液の吐出を行いながら第１薬液ノズル７３を第１処理位置へ移動させる。これによって、図１０（ｂ）に示すように、ウエハＷの上面の周縁部に第１薬液が供給される。また、第１薬液吐出口９０を用いて、ウエハＷの下面の周縁部に第１薬液を供給する。図１０（ｂ）において、ウエハＷの上面に存在する第１薬液が符号７４で表され、ウエハの下面に存在する第１薬液が符号９１で表されている。図１０（ｂ）に示すように、第１回転方向Ｒ_１に回転しているウエハＷの周縁部に供給された第１薬液７４，９１は、回転による遠心力によってウエハＷの外側へ移動していき、そしてウエハＷから振り切られて外方へ飛散する。ウエハＷの外方へ飛散した第１薬液は、カップ体３の液受け空間３５を介して排液口３８から外部へ排出される。この際、キャリア液供給部３５ａがキャリア液供給口３５ｂを介して液受け底面３９上にキャリア液３５ｃを供給してもよい。これによって、液受け空間３５内の第１薬液を迅速に排液口３８に至らせることができる。

ウエハＷ上において第１薬液７４がウエハＷから振り切られる位置は、第１薬液ノズル７３から吐出される第１薬液の速度、ウエハＷの回転速度、および上述の第１薬液到達領域７４ａからウエハＷの側端部までの距離などのパラメータに依存する。本実施の形態において、これらのパラメータは、ウエハＷに到達した第１薬液がウエハＷから振り切られるまでに要するウエハＷの回転角度ψ_１（以下、振り切り角ψ_１と称する）が、上述の薬液ノズル間中心角φ_１以下となるよう設定されている。これによって、ウエハＷの上面の周縁部に供給された第１薬液７４が、第２薬液ノズル８３の近傍に至ることを防ぐことができる。なお上述の振り切り角ψ_１は、第１薬液到達領域７４ａの中心点７４ｃとウエハＷの中心点Ｗ_ｃとを結ぶ直線と、第１薬液７４が振り切られる点（図１０（ｂ）において符号７４ｄで示される点）とウエハＷの中心点Ｗ_ｃとを結ぶことにより形成される直線と、の間に形成される角度として定義される。

好ましくは、第１薬液７４が振り切られる点７４ｄが第１回転方向Ｒ_１に関して排液口３８の上流側に存在するよう、ウエハＷの回転速度などの上述の各パラメータが調整される。これによって、ウエハＷから飛散して液受け空間３５に至った第１薬液を迅速に排液口３８に到達させることができる。またこの場合、飛散した第１薬液に起因するミストは、第１回転方向Ｒ_１に関して排液口３８の上流側において主に発生する。発生したミストは、排液口３８に近接するように設けられた排気口３７から迅速に排出される。このため、排液口３８の下流側にミストが流れることを抑制することができる。これによって、ウエハＷ周辺の雰囲気をより清浄に保つことができる。

なお上述のように、第１薬液ノズル７３は、吐出される第１薬液の吐出方向が、ウエハＷの半径方向外側を向いた成分を持つように形成されている。このため、ウエハＷの周縁部に供給された第１薬液７４は、より迅速にウエハＷの外側へ移動することができ、この結果、振り切り角ψ_１がより小さくなる。このことにより、ウエハＷの上面の周縁部に供給された第１薬液７４が第２薬液ノズル８３の近傍に至ることをより確実に防ぐことができる。なお第１薬液吐出口９０も、第１薬液ノズル７３と同様に、吐出される第１薬液の吐出方向がウエハＷの半径方向外側を向いた成分を持つように形成されていてもよい。

第１薬液によってウエハＷの周縁部の処理終了後、第１ノズル駆動部７０は、第１薬液の吐出を続けている第１薬液ノズル７３を第１外方位置へ移動させる。これによって、第１薬液の安定した液流を最後まで維持しながら、ウエハＷへの第１薬液の供給を終えることができる。第１薬液ノズル７３が第１外方位置に到達した後、第１薬液ノズル７３は、第１薬液の吐出を停止する。

＜第１リンス処理工程＞
第１薬液によってウエハＷの周縁部の処理終了後、図１０（ｃ）に示すように、処理位置（リンス処理位置）にある第１リンスノズル７６がウエハＷの上面の周縁部に向けてリンス処理液を吐出する。図１０（ｃ）において、ウエハＷの上面に存在するリンス処理液が符号７７で表されている。また、リンス処理液吐出口９３が、ウエハＷの下面の周縁部に向けてリンス処理液を吐出する。図１０（ｃ）において、ウエハＷの下面に存在するリンス処理液が符号９３ａで表されている。なお、第１リンスノズル７６およびリンス処理液吐出口９３から吐出されてウエハＷ上に到達するリンス処理液の到達領域は、第１薬液ノズル７３および第１薬液吐出口９０から吐出されてウエハＷ上に到達する第１薬液の到達領域よりもウエハＷの中心側にある。このため、ウエハＷの上面および下面のうち第１薬液が流れた領域をリンス処理液によって確実に洗浄することができる。

ところで上述のように、第１薬液ノズル７３が第１外方位置にあるとき、第１リンスノズル７６はその処理位置にある。このため、第１薬液ノズル７３がウエハＷへの第１薬液の供給を終えるとすぐに、第１リンスノズル７６がウエハＷの周縁部に向けてリンス処理液を供給し始めることができる。これによって、ウエハＷ上で第１薬液が乾燥する前に、ウエハＷにリンス処理液を供給することができる。このことにより、第１薬液の乾燥に起因して生じ得るパーティクルなどがウエハＷ上に形成されることを確実に防ぐことができる。

リンス処理液によってウエハＷの周縁部に残っている第１薬液が除去された後、第１リンスノズル７６およびリンス処理液吐出口９３は、リンス処理液の吐出を停止する。その後、第１回転方向Ｒ_１におけるウエハＷの回転を停止させる。また第１薬液ノズル７３を第１待機位置へ向けて移動させる。

＜第２薬液処理工程＞
次に、回転駆動部２４によってウエハＷ（ウエハＷを保持する基板保持部２１）を第２回転方向Ｒ_２に回転させる。回転数は例えば２０００〜３０００ｒｐｍとなっている。また図１０（ｄ）に示すように、第２薬液ノズル８３を第２外方位置へ移動させる。このとき第１薬液ノズル７３は、上述の第１処理位置よりもウエハＷの中心側にある第１待機位置に配置されている。次に、第２薬液ノズル８３における第２薬液のダミーディスペンスを開始し、これによって第２薬液の液流８４ｂを安定させる。

液流８４ｂが安定したら、第２薬液の吐出を行いながら第２薬液ノズル８３を第２処理位置へ移動させる。これによって、図１０（ｅ）に示すように、ウエハＷの上面の周縁部に第２薬液が供給される。また、第２薬液吐出口９５を用いて、ウエハＷの下面の周縁部に第２薬液を供給する。図１０（ｅ）において、ウエハＷの上面に存在する第２薬液が符号８４で表され、ウエハの下面に存在する第２薬液が符号９６で表されている。図１０（ｅ）に示すように、第２回転方向Ｒ_２に回転しているウエハＷの周縁部に供給された第２薬液８４，９６は、回転による遠心力によってウエハＷの外側へ移動していき、そしてウエハＷから振り切られて外方へ飛散する。ウエハＷの外方へ飛散した第２薬液は、カップ体３の液受け空間３５を介して排液口３８から外部へ排出される。この際、キャリア液供給口３５ｂが液受け底面３９ａ上にキャリア液３５ｃを供給してもよい。これによって、液受け空間３５内の第２薬液を迅速に排液口３８に至らせることができる。

ここで、上述の第１薬液７４の場合と同様に、第２薬液８４についても、その振り切り角ψ_２が上述の薬液ノズル間中心角φ_１以下となっている。これによって、ウエハＷの上面の周縁部に供給された第２薬液８４が第１薬液ノズル７３の近傍に至ることを防ぐことができる。好ましくは、第２薬液８４が振り切られる点８４ｄが第２回転方向Ｒ_２に関して排液口３８の上流側に存在している。これによって、飛散した第２薬液に起因するミストが、第２回転方向Ｒ_２に関して排液口３８の下流側に流れることを抑制することができる。

また上述の第１薬液ノズル７３の場合と同様に、第２薬液ノズル８３は、吐出される第２薬液の吐出方向が、ウエハＷの半径方向外側を向いた成分を持つように形成されている。このことにより、ウエハＷの上面の周縁部に供給された第２薬液８４が第１薬液ノズル７３の近傍に至ることをより確実に防ぐことができる。なお第２薬液吐出口９５も、吐出される第２薬液の吐出方向がウエハＷの半径方向外側を向いた成分を持つように形成されていてもよい。

第２薬液によってウエハＷの周縁部の処理終了後、第２ノズル駆動部８０は、第２薬液の吐出を続けている第２薬液ノズル８３を第２外方位置へ移動させる。これによって、第２薬液の安定した液流を最後まで維持しながら、ウエハＷへの第２薬液の供給を終えることができる。第２薬液ノズル８３が第２外方位置に到達した後、第２薬液ノズル８３は、第２薬液の吐出を停止する。

＜第２リンス処理工程＞
第２薬液によってウエハＷの周縁部の処理終了後、図１０（ｆ）に示すように、処理位置（リンス処理位置）にある第２リンスノズル８６がウエハＷの上面の周縁部に向けてリンス処理液を吐出する。図１０（ｆ）において、ウエハＷの上面に存在するリンス処理液が符号８７で表されている。また、リンス処理液吐出口９８が、ウエハＷの下面の周縁部に向けてリンス処理液を吐出する。図１０（ｆ）において、ウエハＷの下面に存在するリンス処理液が符号９８ａで表されている。なお、第２リンスノズル８６およびリンス処理液吐出口９８から吐出されてウエハＷ上に到達するリンス処理液の到達領域は、第２薬液ノズル８３および第２薬液吐出口９５から吐出されてウエハＷ上に到達する第２薬液の到達領域よりもウエハＷの中心側にある。このため、ウエハＷの上面および下面のうち第２薬液が流れた領域をリンス処理液によって確実に洗浄することができる。

ここで、上述の第１薬液ノズル７３および第１リンスノズル７６の場合と同様に、第２薬液ノズル８３が第２外方位置にあるとき、第２リンスノズル８６はその処理位置にある。このため、第２薬液ノズル８３がウエハＷへの第２薬液の供給を終えるとすぐに、第２リンスノズル８６がウエハＷの周縁部に向けてリンス処理液を供給し始めることができる。これによって、ウエハＷ上で第２薬液が乾燥する前に、ウエハＷにリンス処理液を供給することができる。このことにより、第２薬液の乾燥に起因して生じ得るパーティクルなどがウエハＷ上に形成されることを確実に防ぐことができる。

リンス処理液によってウエハＷの周縁部に残っている第２薬液が除去された後、第２リンスノズル８６およびリンス処理液吐出口９８は、リンス処理液の吐出を停止する。その後、第２薬液ノズル８３を第２待機位置へ向けて移動させる。

＜乾燥処理工程＞
上述の第２リンス処理工程の後、ウエハＷの回転を引き続き継続させる。これによって、ウエハＷ上に残っているリンス処理液が遠心力によって振り切られる。また、気体供給口４２からウエハＷの下面に向けて気体を吹き付ける。このようにしてウエハＷ上に残っているリンス処理液が除去される。この際、乾燥処理をより効率的に実施するため、ウエハＷの回転速度が上述の薬液処理工程およびリンス処理工程の際の回転速度よりも高く設定されてもよい。

＜ウエハ搬出工程＞
上述の乾燥処理の後、ウエハＷの回転を停止させ、そして、カバー部材５を上方へ退避させる。次に、ウエハＷの受け渡し位置までカップ体３を下降させる。その後、ウエハＷを基板処理装置１から外部へ搬出する。このようにして、ウエハＷに対する一連の液処理が完了する。

＜洗浄工程＞
ウエハＷに対する一連の液処理が完了した後、洗浄液吐出口４０が、カップ体３のフランジ部４４に向けてＤＩＷなどの洗浄液を吐出する。これによって、フランジ部４４に付着している薬液などを洗い流すことができる。また、第１薬液ノズル洗浄機構５３が、第１薬液ノズル７３および第１リンスノズル７６に向けて洗浄液吐出口５４ｂからＤＩＷなどの洗浄液を吐出する。洗浄液が吐出されている間、ヘッド支持シャフト７１によって第１薬液ノズル７３および第１リンスノズル７６を往復移動させてもよい。これによって、第１薬液ノズル７３および第１リンスノズル７６の全体に万遍なく洗浄液を到達させることができる。同様に、図示はしないが、第２薬液ノズル洗浄機構が、第２薬液ノズル８３および第２リンスノズル８６に向けて洗浄液吐出口からＤＩＷなどの洗浄液を吐出する。これによって、薬液ノズル７３，８３およびリンスノズル７６，８６に付着している薬液などを洗い流すことができる。このようにして、次のウエハＷが搬入されてくる前に、基板処理装置１の内部に残っている薬液などを洗い流すことができ、これによって、基板処理装置１の内部の雰囲気を清浄にすることができる。

なお上述の洗浄工程は、１枚のウエハＷに対する液処理の度には必ずしも実施されず、所定の枚数のウエハＷに対する液処理の度に実施されてもよい。また各薬液ノズル洗浄機構によって薬液ノズルやリンスノズルを洗浄した後、リンスノズルに向けて、洗浄液吐出口５４ｂから窒素などの気体を吐出させてもよい。これによって、薬液ノズルやリンスノズルの乾燥を促進することができる。

以上説明したように、本実施の形態によれば、回転駆動部２４は、第１薬液ノズル７３が第１薬液を吐出する際、ウエハＷを第１回転方向Ｒ_１に回転させ、かつ、第２薬液ノズル８３が第２薬液を吐出する際、ウエハＷを第２回転方向Ｒ_２に回転させる。このため、第１薬液ノズル７３から吐出された第１薬液が第２薬液ノズル８３の近傍にまで至ることを抑制することができ、また、第２薬液ノズル８３から吐出された第２薬液が第１薬液ノズル７３の近傍にまで至ることを抑制することができる。これによって、一方の薬液ノズルから吐出される薬液が他方の薬液ノズルに付着することを防ぐことができ、これによって、薬液ノズル上で第１薬液と第２薬液とが混ざり合うことを防ぐことができる。このことにより、ウエハＷ周辺の雰囲気を清浄に保つことができる。

また本実施の形態によれば、ウエハＷの中心点Ｗ_ｃと、第１薬液到達領域７４ａおよび第２薬液到達領域８４ａとを結ぶことにより形成される薬液ノズル間中心角φ_１は、１８０度よりも大きくなっている。これにより、第１薬液ノズル７３と第２薬液ノズル８３との間の距離を長く確保することができる。このことにより、一方の薬液ノズルから吐出された薬液が他方のノズル近傍にまで至ることを、より確実に抑制することができる。

また本実施の形態によれば、第１薬液ノズル７３が第１薬液を吐出している間、第２薬液ノズル８３は、第２処理位置よりもウエハＷの中心側にある第２待機位置に配置される。また、第２薬液ノズル８３が第２薬液を吐出している間、第１薬液ノズル７３は、第１処理位置よりもウエハＷの中心側にある第１待機位置に配置される。このため、一方の薬液ノズルから吐出される薬液が他方の薬液ノズルに付着することをさらに防ぐことができ、これによって、第１薬液と第２薬液とが混ざり合うことをさらに防ぐことができる。

また本実施の形態によれば、吐出される薬液の吐出方向がウエハＷの半径方向外側を向いた成分を持つよう薬液ノズル７３，８３を形成することにより、ウエハＷに到達した薬液を速やかに振り切ることができる。これによって、薬液ノズル上で第１薬液と第２薬液とが混ざり合うことをさらに防ぐことができる。このことにより、ウエハＷ周辺の雰囲気をさらに清浄に保つことができる。

また本実施の形態によれば、上述のように、吐出される薬液に応じてウエハＷの回転方向を異ならせるとともに薬液ノズル間中心角φ_１を１８０度よりも大きく設定することにより、カップ体３の液受け空間３５において第１薬液が通る経路と第２薬液が通る経路とを分離することも可能となる。これによって、液受け空間３５において第１薬液と第２薬液とが混ざり合うことを防ぐことができ、このことにより、ウエハＷ周辺の雰囲気をより清浄に保つことができる。また上述のように、液受け空間３５の液受け底面３９に傾斜を設けたり、液受け空間３５の液受け底面３９にキャリア液３５ｃを供給したりすることにより、液受け空間３５において薬液を速やかに排出でき、第１薬液と第２薬液とが混ざり合うことをさらに防ぐことができる。これによって、ウエハＷ周辺の雰囲気をさらに清浄に保つことができる。

また本実施の形態によれば、回転しているウエハＷの周縁部に対して薬液が供給されるため、ウエハＷに到達した薬液は、遠心力によって速やかに振り切られる。さらに上述のように、薬液ノズル７３，８３は、吐出される薬液の吐出方向が、ウエハＷの半径方向外側を向いた成分を持つように形成されている。これによって、薬液をより迅速にウエハＷから振り切ることができる。それに加えて、気体供給口４９より、ウエハＷの上面に向けて清浄な気体が供給されており、このため、ウエハＷの周辺においてウエハＷの中心側から外側へ向かう気体の流れが生成されている。このことにより、薬液やミストがウエハＷ中心側へ入り込むことを防止することができる。これらのことにより、第１薬液ノズル７３、第２薬液ノズル８３やその他の構成要素（リンスノズルなど）が薬液やミストによって汚染されることを防ぐことができ、したがって、ウエハＷ周辺の雰囲気をさらに清浄に保つことができる。

なお、上述した実施の形態に対して様々な変更を加えることが可能である。以下、変形の一例について説明する。

（液処理方法の変形例）
上述の本実施の形態において、第１薬液および第２薬液がそれぞれ同一の排液口３８から排出される例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、第１薬液を排出する排液口３８と、第２薬液を排出する排液口３８とが別個にカップ体３の液受け底面３９ｂに形成されていてもよい。これによって、排液口３８において第１薬液と第２薬液とが混ざり合うことを防ぐことができる。このことにより、ウエハＷ周辺の雰囲気をさらに清浄に保つことができる。

（液処理方法の変形例）
上述の本実施の形態において、一方の薬液ノズルが薬液を吐出している間、他方の薬液ノズルが、その処理位置よりもウエハＷの中心側にある待機位置に配置される例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、一方の薬液ノズルが薬液を吐出している間、他方の薬液ノズルがその処理位置に配置されていてもよい。このような例について図１１（ａ）〜（ｆ）を参照して説明する。

図１１（ａ）〜（ｆ）は、本変形例による液処理工程を示す図であり、上述の本実施の形態における図１０（ａ）〜（ｆ）に対応する図である。本変形例においては、図１１（ｂ）に示すように、第１薬液ノズル７３がウエハＷの周縁部に向けて第１薬液を吐出する際、第２薬液ノズル８３は、第２待機位置ではなく第２処理位置に配置されている。この場合であっても、第１薬液ノズル７３からウエハＷの上面の周縁部に供給された第１薬液が第２薬液ノズル８３の近傍にまで至らないよう、上述の薬液ノズル間中心角φ_１やウエハＷの回転方向が設定されている。これによって、第２薬液ノズル８３上で第１薬液と第２薬液とが混ざり合うことを防ぐことができる。

また本変形例においては、図１１（ｅ）に示すように、第２薬液ノズル８３がウエハＷの周縁部に向けて第２薬液を吐出する際、第１薬液ノズル７３は、第１待機位置ではなく第１処理位置に配置されている。この場合であっても、第２薬液ノズル８３からウエハＷの上面の周縁部に供給された第２薬液が第１薬液ノズル７３の近傍にまで至らないよう、上述の薬液ノズル間中心角φ_１やウエハＷの回転方向が設定されている。これによって、第１薬液ノズル７３上で第１薬液と第２薬液とが混ざり合うことを防ぐことができる。

（リンスノズルの配置の変形例）
また上述の本実施の形態において、第１リンスノズル７６が第１薬液ノズル７３よりもウエハＷの中心側に配置されている例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、例えば図１２（ａ）〜（ｄ）に示すように、第１薬液ノズル７３と第１リンスノズル７６とがウエハＷの円周方向に沿って並べられていてもよい。以下、本変形例における液処理工程について説明する。なお簡単のため、図１２においては第１薬液ノズル７３および第１リンスノズル７６以外のノズルや吐出口が省略されている。

本変形例においては、はじめに、ウエハＷを第１回転方向Ｒ_１に回転させ、また図１２（ａ）に示すように、第１薬液ノズル７３を第１外方位置へ移動させ、ダミーディスペンスを開始する。次に図１２（ｂ）に示すように、第１薬液ノズル７３を第１処理位置へ移動させ、これによって第１薬液がウエハＷの周縁部に供給される。その後、図１２（ｃ）に示すように、第１薬液の吐出を続けている第１薬液ノズル７３を第１外方位置へ向けて移動させる。第１薬液ノズル７３が第１外方位置に到達した後、第１薬液ノズル７３からの第１薬液の吐出を即座に停止させる。次に、第１ノズルヘッド７２をウエハＷの中心側へ向けて迅速に移動させ、そして、第１リンスノズル７６をその処理位置に位置づける。その後、図１２（ｄ）に示すように、第１リンスノズル７６が、ウエハＷの上面の周縁部に向けてリンス処理液７７を吐出する。これによって、ウエハＷ上に残っている第１薬液が洗い流される。

このように本変形例によれば、第１薬液ノズル７３からの第１薬液の吐出の停止、および、処理位置へ向けての第１リンスノズル７６の移動を迅速に実施することにより、ウエハＷ上で第１薬液が乾燥するよりも前に、ウエハＷにリンス処理液を供給することができる。

なお図示はしないが、第１リンスノズル７６の場合と同様に、第２薬液ノズル８３と第２リンスノズル８６とがウエハＷの円周方向に沿って並べられていてもよい。この場合も、第２薬液ノズル８３からの第２薬液の吐出の停止、および、処理位置へ向けての第２リンスノズル８６の移動を迅速に実施することにより、ウエハＷ上で第２薬液が乾燥するよりも前に、ウエハＷにリンス処理液を供給することができる。

また上述の本実施の形態および変形例において、第１薬液ノズル７３および第１リンスノズル７６が共に第１ノズルヘッド７２に取付けられており、このため第１薬液ノズル７３および第１リンスノズル７６が一体となって移動する例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、第１リンスノズル７６を第１薬液ノズル７３から独立に移動させるためのノズル駆動部（図示せず）が第１ノズル駆動部７０とは別個に設けられていてもよい。同様に、第２リンスノズル８６を第２薬液ノズル８３から独立に移動させるためのノズル駆動部（図示せず）が第２ノズル駆動部８０とは別個に設けられていてもよい。

なお、上述した実施の形態に対するいくつかの変形例を説明してきたが、当然に、複数の変形例を適宜組み合わせて適用することも可能である。

１ 基板処理装置
２１ 基板保持部
２４ 回転駆動部
７３ 第１薬液ノズル
７４ａ 第１薬液到達領域
８３ 第２薬液ノズル
８４ａ 第２薬液到達領域

Claims (14)

1. 水平に保持された基板を回転させながら薬液により基板の周縁部の液処理を行う基板処理装置であって、
   基板を水平に保持する基板保持部と、
   前記基板保持部を回転させる回転駆動部と、
   基板の周縁部上の第１薬液到達領域に向けて第１薬液を吐出する第１薬液ノズルと、
   基板の周縁部上の第２薬液到達領域に向けて第２薬液を吐出する第２薬液ノズルと、を備え、
   前記回転駆動部は、前記第１薬液ノズルが第１薬液を吐出する際、前記基板保持部を第１回転方向に回転させ、かつ、前記第２薬液ノズルが第２薬液を吐出する際、前記基板保持部を、第１回転方向とは逆の第２回転方向に回転させ、
   基板の中心と、前記第１薬液到達領域および前記第２薬液到達領域とを結ぶことにより形成される中心角は、前記第１薬液到達領域を基準として第１回転方向に沿って当該中心角を見た場合に１８０度よりも大きくなっていることを特徴とする基板処理装置。
2. 前記第１薬液ノズルは、吐出される第１薬液の吐出方向が前記第１回転方向に傾斜するように形成されており、
   前記第２薬液ノズルは、吐出される第２薬液の吐出方向が前記第２回転方向に傾斜するように形成されていることを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
3. 前記第１薬液ノズルおよび前記第２薬液ノズルは各々、吐出される第１薬液および第２薬液の吐出方向が、基板の半径方向外側を向いた成分を持つように形成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の基板処理装置。
4. 前記第１薬液ノズルおよび前記第２薬液ノズルは各々、前記基板の上面に向けて第１薬液および第２薬液を吐出するよう配置されており、
   前記基板処理装置は、
   基板の下面上の第３薬液到達領域に向けて第１薬液を吐出する第１薬液吐出口と、
   基板の下面上の第４薬液到達領域に向けて第２薬液を吐出する第２薬液吐出口と、をさらに備え、
   前記第３薬液到達領域は、前記第１薬液到達領域に対して前記第１回転方向に沿って下流側に位置し、
   前記第４薬液到達領域は、前記第２薬液到達領域に対して前記第２回転方向に沿って下流側に位置していることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の基板処理装置。
5. 基板から飛散する第１薬液および第２薬液を受けるリング状の液受け空間と、第１薬液および／または第２薬液を排出する排液口とが形成されたカップ体をさらに備え、
   前記液受け空間の底面は、前記排液口に向かって下方に傾斜している液受け底面によって構成されており、
   前記液受け底面は、第１薬液到達領域と第２薬液到達領域との間において最も高位になっていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の基板処理装置。
6. 前記液受け底面は、最も高位になっている部分から、第１回転方向および第２回転方向に沿って下方に傾斜していることを特徴とする請求項５に記載の基板処理装置。
7. 前記液受け底面のうち最も高位になっている部分にキャリア液を供給するキャリア液供給口が設けられていることを特徴とする請求項５または６に記載の基板処理装置。
8. 基板の上面と空間を介して対向するよう設けられたカバー部材をさらに備え、
   前記第１薬液ノズルおよび前記第２薬液ノズルは、前記カバー部材に取り付けられていることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか一項に記載の基板処理装置。
9. 前記第１薬液ノズルおよび前記第２薬液ノズルに向けて洗浄液を吐出する第１洗浄液吐出口および第２洗浄液吐出口をさらに備えたことを特徴とする請求項１乃至８のいずれか一項に記載の基板処理装置。
10. 前記第１薬液ノズルおよび前記第２薬液ノズルを水平方向に移動させるノズル駆動部をさらに備え、
    前記第１薬液ノズルおよび前記第２薬液ノズルは各々、第１薬液および第２薬液を吐出しながら、前記基板の外方から、第１薬液到達領域および第２薬液到達領域に向けて第１薬液および第２薬液を吐出する位置まで移動することを特徴とする請求項１乃至９のいずれか一項に記載の基板処理装置。
11. 水平に保持された基板を回転させながら薬液により基板の周縁部の液処理を行う基板処理方法であって、
    基板を水平に保持する基板保持部を第１回転方向に回転させることと、
    基板保持部が第１回転方向に回転している際、基板の周縁部上の第１薬液到達領域に向けて第１薬液ノズルによって第１薬液を吐出することと、
    基板保持部を、第１回転方向とは逆の第２回転方向に回転させることと、
    基板保持部が第２回転方向に回転している際、基板の周縁部上の第２薬液到達領域に向けて第２薬液ノズルによって第２薬液を吐出することと、を備え、
    基板の中心と、前記第１薬液到達領域および前記第２薬液到達領域とを結ぶことにより形成される中心角は、前記第１薬液到達領域を基準として第１回転方向に沿って当該中心角を見た場合に１８０度よりも大きくなっていることを特徴とする基板処理方法。
12. 基板の周縁部上の第１到達領域に向けて前記第１薬液ノズルによって前記第１薬液を吐出する際に、前記第１薬液ノズルは、第１薬液を吐出しながら、前記基板の外方から、第１薬液到達領域に向けて第１薬液を吐出する位置まで移動することを特徴とする請求項１１に記載の基板処理方法。
13. 前記第１薬液ノズルおよび前記第２薬液ノズルは各々、前記基板の上面に向けて第１薬液および第２薬液を吐出するよう配置されており、
    前記基板処理方法は、
    前記第１薬液ノズルが第１薬液を吐出する際、基板の下面上の第３薬液到達領域に向けて第１薬液を吐出することと、
    前記第２薬液ノズルが第２薬液を吐出する際、基板の下面上の第４薬液到達領域に向けて第２薬液を吐出することと、をさらに備え、
    前記第３薬液到達領域は、前記第１薬液到達領域に対して前記第１回転方向に沿って下流側に位置し、
    前記第４薬液到達領域は、前記第２薬液到達領域に対して前記第２回転方向に沿って下流側に位置していることを特徴とする請求項１１または１２に記載の基板処理方法。
14. 基板処理装置に基板処理方法を実行させるためのコンピュータプログラムを格納した記憶媒体において、
    前記基板処理方法は、
    基板を水平に保持する基板保持部を第１回転方向に回転させることと、
    基板保持部が第１回転方向に回転している際、基板の周縁部上の第１薬液到達領域に向けて第１薬液ノズルによって第１薬液を吐出することと、
    基板保持部を、第１回転方向とは逆の第２回転方向に回転させることと、
    基板保持部が第２回転方向に回転している際、基板の周縁部上の第２薬液到達領域に向けて第２薬液ノズルによって第２薬液を吐出することと、を備え、
    基板の中心と、前記第１薬液到達領域および前記第２薬液到達領域とを結ぶことにより形成される中心角は、前記第１薬液到達領域を基準として第１回転方向に沿って当該中心角を見た場合に１８０度よりも大きくなっている、方法からなっていることを特徴とする記憶媒体。

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