JP2000058426A - 現像装置及び洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 不活性ガスの使用量を抑えつつ現像液を有効
に再利用することができる、ネガタイプの現像処理に好
適な現像装置を提供すること。 【解決手段】 ガラス基板Ｇを回転させながらガラス基
板Ｇ表面にノズル集合体７７より現像液を吐出する一方
で、ノズル集合体７７をカバー７８で囲繞すると共に、
ノズル集合体７７から吐出される現像液をカバー内雰囲
気から遮蔽するようにＮ２噴出体８０よりＮ２ガスを噴
出している。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば液晶カラー
ディスプレイにおけるカラーフィルタ用の基板を現像す
る現像装置及び洗浄装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶カラーディスプレイにおけるカラー
フィルタでは、ガラス基板上にＲ，Ｇ，Ｂの着色パター
ンを形成する必要がある。このような着色パターンは、
例えばフォトリソグラフィ法によって形成される。その
一例として、Ｒ，Ｇ，Ｂそれぞれについて感光性樹脂か
らなる着色樹脂が用いられ、塗布−露光−現像の処理工
程をＲ，Ｇ，Ｂについて３回繰り返してパターンが形成
される。

【０００３】ところで、上記の現像処理工程において
は、感光性樹脂のうち未露光部分を現像液で除去してパ
ターンを形成する、ネガタイプの現像処理が行われてい
る。このようなネガタイプの現像処理では、濃度が極薄
い現像液、例えばポジタイプであれば２．３８％程度の
濃度であるのに対して０．１％以下の濃度の現像液が使
われている。そして、このように濃度が薄くなった場
合、現像液が空気と反応して劣化する速度が非常に速く
なる。従って、一度使われた現像液を回収して再利用す
るような場合、現像液の濃度調整のために原液が多量に
必要になり、再利用するメリットがなくなる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】そこで、従来から例え
ば現像処理を行うエリア全体を不活性ガス、例えばＮ２
ガスでパージすることが行われているが、上記のような
カラーフィルタ用の現像装置では、ほほ基板１枚分に相
当する領域にシャワー状に現像液を噴霧しておき、この
領域にガラス基板を通過させるトラック方式が使われて
いるため、パージすべき領域が広く、Ｎ２ガスの使用量
が非常に多くなる、という課題がある。

【０００５】本発明は上記のような課題を解決するため
になされたもので、不活性ガスの使用量を抑えつつ現像
液を有効に再利用することができる、ネガタイプの現像
処理に好適な現像装置を提供することを目的としてい
る。

【０００６】本発明の別の目的は、高圧洗浄時に基板の
たわみを防止することができる洗浄装置を提供すること
にある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め、請求項１記載に係る本発明の現像装置は、基板表面
に現像液を吐出するノズルと、前記ノズルを囲繞すると
共に、前記ノズルより吐出された現像液を基板表面へ通
過させるための開口部を有するカバーと、前記カバー内
で前記ノズルから吐出される現像液をカバー内雰囲気か
ら遮蔽するように不活性ガスを噴出する手段とを具備す
るものである。

【０００８】請求項２記載に係る本発明の現像装置は、
基板裏面を保持しつつ基板を回転する保持回転手段と、
前記保持回転手段により保持回転される基板表面に現像
液を吐出するノズルが複数列設されたノズル集合体と、
前記ノズル集合体を囲繞すると共に、前記各ノズルより
吐出された現像液を基板表面へ通過させるための開口部
を有するカバーと、前記カバー内で前記各ノズルから吐
出される現像液をカバー内雰囲気から遮蔽するように不
活性ガスを噴出する手段とを具備するものである。

【０００９】請求項３記載に係る本発明の現像装置は、
請求項１または２記載の現像装置であって、前記ノズル
が、基板表面にカーテン状に連続する流形を描くように
現像液を吐出するスプレーノズルであることを特徴とす
るものである。

【００１０】請求項４記載に係る本発明の現像装置は、
請求項１から請求項３のうちいずれか１項記載の現像装
置であって、前記不活性ガスが、Ｎ２ガスであることを
特徴とするものである。

【００１１】請求項５記載に係る本発明の現像装置は、
請求項１から請求項４のうちいずれか１項記載の現像装
置であって、前記現像液の濃度が、０．１％以下である
ことを特徴とするものである。

【００１２】請求項６記載に係る本発明の現像装置は、
請求項１から請求項５のうちいずれか１項記載の現像装
置であって、前記基板表面に対して吐出された現像液を
回収して再び前記ノズルに供給する手段をさらに具備す
るものである。

【００１３】請求項１記載に係る本発明では、ノズルを
カバーで囲繞すると共に、ノズルから吐出される現像液
をカバー内雰囲気から遮蔽するように不活性ガスを噴出
しているので、カバーによる囲繞によって、さらには不
活性ガスによるいわゆる”エアーカーテン”によって現
像液が空気から遮断される。従って、現像液は空気と反
応するようなことはなくなり、しかも広域に亙り不活性
ガスでパージする必要がなくなるので、不活性ガスの使
用量を抑えつつ現像液を有効に再利用することができ
る。また、現像液が周囲に飛散するようなこともなくな
り、現像液によるミストの発生も抑えることができる。

【００１４】請求項２記載に係る本発明では、ノズル集
合体が複数列設されたノズルを有し、基板を回転させな
がら基板表面にこのノズル集合体より現像液を吐出する
ように構成されているので、現像液が吐出される領域が
非常に狭くなる。従って、カバーにより囲繞すべき領
域、さらには不活性ガスによるいわゆる”エアーカーテ
ン”によって現像液を空気から遮断すべき領域が非常に
狭くてよくなるので、不活性ガスの使用量をさらに減ら
すことができる。

【００１５】請求項３記載に係る本発明では、基板表面
にカーテン状に連続する流形を描くように現像液を吐出
するスプレーノズルを用いているので、シャワータイプ
のノズルを用いた場合と比較して現像液が空気に触れる
機会及びミストが発生する機会をさらに減らすことがで
きる。また、現像液によるより強い衝撃力を基板に対し
て与えることができるので、現像速度を速めかつ現像不
良を極力減らすことができる。

【００１６】請求項４記載に係る本発明では、不活性ガ
スにＮ２ガスを用いたことにより、コスト削減を図るこ
とができる。

【００１７】請求項５記載に係る本発明では、現像液の
濃度を０．１％以下とすることにより、ネガタイプの現
像処理に好適なものとすることができる。

【００１８】請求項６記載に係る本発明では、基板表面
に対して吐出された現像液を回収して再びノズルに供給
するように構成したので、現像液を有効に再利用するこ
とができる。

【００１９】請求項７記載に係る本発明の洗浄装置は、
基板の裏面を保持しつつ、基板の表面に高圧の洗浄液を
噴出して洗浄を行う洗浄装置であって、前記基板の裏面
の非保持部を支持ピンにより支持するようにしたことを
特徴とする。

【００２０】請求項８記載に係る本発明の洗浄装置は、
基板の裏面を保持する、昇降可能な保持部材と、前記保
持部材を昇降する昇降機構と、前記保持部材により第１
の高さに保持された基板に対して所定の処理をする処理
手段と、前記保持部材により第１の高さより低い第２の
高さに保持された基板の表面に対して洗浄液を噴出する
高圧洗浄手段と、前記保持部材により第２の高さに保持
された基板の裏面の非保持部に当接するように配置され
た支持ピンとを具備する。本発明による「洗浄」は、リ
ンス等の用語も包含するものである。

【００２１】本発明の洗浄装置では、高圧洗浄時に、基
板の裏面の非保持部を支持ピンにより支持するように構
成したので、高圧洗浄時に基板のたわみを防止すること
ができる。

【００２２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づき説明する。図１は本発明の一実施形態に係る塗
布・現像処理システムの斜視図である。図１に示すよう
に、この塗布・現像処理システム１の前方には、基板、
例えばカラーフィルタ用のガラス基板Ｇを、塗布・現像
処理システム１に対して搬出入するローダ・アンローダ
部２が設けられている。このローダ・アンローダ部２に
は、ガラス基板Ｇを例えば２５枚ずつ収納したカセット
Ｃを所定位置に整列させて載置させるカセット載置台３
と、各カセットＣから処理すべきガラス基板Ｇを取り出
し、また塗布・現像処理システム１において処理の終了
したガラス基板Ｇを各カセットＣへ戻すローダ・アンロ
ーダ４が設けられている。図示のローダアンローダ４
は、本体５の走行によってカセットＣの配列方向に移動
し、本体５に搭載された板片状のピンセット６によって
各カセットＣからガラス基板Ｇを取り出し、また各カセ
ットＣへガラス基板Ｇを戻すようになっている。また、
ピンセット６の両側には、ガラス基板Ｇの四隅を保持し
て位置合わせを行う基板位置合わせ部材７が設けられて
いる。

【００２３】塗布・現像処理システム１の中央部には、
長手方向に配置された廊下状の搬送路１０、１１が第１
の受け渡し部１２を介して一直線上に設けられており、
この搬送路１０、１１の両側には、ガラス基板Ｇに対す
る各処理を行うための各種処理装置が配置されている。

【００２４】図示の塗布・現像処理システム１にあって
は、搬送路１０の一側方に、ガラス基板Ｇをブラシ洗浄
するすると共に、高圧ジェット水により洗浄を施すため
の洗浄装置１６が並設されている。また、搬送路１０を
挟んで反対側に、二基の現像装置１７が並設され、その
隣りに二基の加熱装置１８が積み重ねて設けられてい
る。

【００２５】また、搬送路１１の一側方に、冷却用のク
ーリング装置２１が二個積み重ねて配置されている。ま
た、これらクーリング装置２１の隣には加熱装置２２が
二列に二個ずつ積み重ねて配置されている。また、搬送
路１１を挟んで反対側に、ガラス基板Ｇに感光性樹脂か
らなる着色樹脂を塗布することによってガラス基板Ｇの
表面に感光性樹脂からなる着色樹脂膜を形成する塗布装
置２３が配置されている。図示はしないが、これら塗布
装置２３の側部には、第２の受け渡し部２８を介し、ガ
ラス基板Ｇ上に形成された感光性樹脂からなる着色樹脂
膜に所定の微細パターンを露光するための露光装置等が
設けられる。第２の受け渡し部２８は、ガラス基板Ｇを
搬入および搬出するための搬出入ピンセット２９および
受け渡し台３０を備えている。

【００２６】以上の各処理装置１５〜１８および２０〜
２３は、何れも搬送路１０、１１の両側において、ガラ
ス基板Ｇの出入口を内側に向けて配設されている。第１
の搬送装置２５がローダ・アンローダ部２、各処理装置
１５〜１８および第１の受け渡し部１２との間でガラス
基板Ｇを搬送するために搬送路１０上を移動し、第２の
搬送装置２６が第１の受け渡し部１２、第２の受け渡し
部２８および各処理装置２０〜２３との間でガラス基板
Ｇを搬送するために搬送路２６上を移動するようになっ
ている。各搬送装置２５、２６は、それぞれ上下一対の
アーム２７、２７を有しており、各処理装置１５〜１８
および２０〜２３にアクセスするときは、一方のアーム
２７で各処理装置のチャンバから処理済みのガラス基板
Ｇを搬出し、他方のアーム２７で処理前のガラス基板Ｇ
をチャンバ内に搬入するように構成されている。

【００２７】図２は上記現像装置１７の正面図、図３は
その平面図である。図２及び図３に示すように、現像装
置１７の中心部には、駆動モータ３１によって回転可能
でかつ上下動可能に構成されたスピンチャック３２が設
けられている。このスピンチャック３２の上面は、真空
吸着等によってガラス基板Ｇを水平状態に吸着保持する
ように構成されている。

【００２８】このスピンチャック３２の下方には下容器
３３が配置されている。また、スピンチャック３２の外
周を囲うように外カップ３４が配置され、下容器３３と
外カップ３４の間には内カップ３５が配置されている。

【００２９】外カップ３４と内カップ３５とは連結部材
３６により連結され、これら外カップ３４及び内カップ
３５は制御部３７の指令に基づき昇降シリンダ３８によ
り昇降されるようになっている。外カップ３４及び内カ
ップ３５の上部はそれぞれ上に行くに従って狭くなるよ
うに内側に傾斜して設けられており、外カップ３４の上
端開口部の直径は内カップ３５のそれよりも大きく、か
つ、これらの上端開口部の直径はガラス基板Ｇを水平状
態にしたままでカップ内に下降させて収容できる大きさ
に形成されている。

【００３０】下容器３３は、中心部から外に向かって下
方向に傾斜する傾斜部３９と、その外周に配置された受
け皿部４０とを備える。傾斜部３９には、ガラス基板Ｇ
の裏面を保持するための支持ピン４１が複数、例えば４
本配置されている。支持ピン４１の先端の高さは、スピ
ンチャック３２に保持されたガラス基板Ｇが最も低い位
置に下降されたときに、支持ピン４１の先端がガラス基
板Ｇの裏面に当接する位置とされている。また、受け皿
部４０の底面には筒状の起立壁４２が設けられており、
起立壁４２は外カップ３４と内カップ３５との間に介在
される。また、内カップ３５の傾斜部は起立壁４２を超
えて起立壁４２の外周に延在している。これにより、内
カップ３５の傾斜部を流れる流体は受け皿部４０の起立
壁４２で仕切られた外側室４３に流れ込むようになって
いる。

【００３１】下容器３３の傾斜部３９の裏面側には、カ
ップ内を排気するための排気口４４が設けられており、
排気口４４には排気ポンプ（（図示を省略））が接続さ
れている。受け皿部４０の起立壁４２で仕切られた内側
室４５の下部には排液口４６が形成されており、外側室
４３の下部にドレイン口４７が形成されている。そし
て、排液口４６に回収管４８を介して使用済み現像液を
再生処理する再生処理機構４９が接続されている。再生
処理機構４９は、気液分離する気液分離機構５０と使用
済み現像液中の不純物を除去する不純物除去機構５１と
で構成され、現像液収容タンク５２に接続されている。
ドレイン口４７は図示しない回収タンクに接続されてい
る。

【００３２】カップの上部一側方にはガラス基板Ｇ表面
に対し現像液を吐出するための現像液吐出機構５３が配
置され、他側方にはガラス基板Ｇ表面に対して洗浄液を
高圧で噴出するための高圧洗浄機構５４及びガラス基板
Ｇ表面に対しリンス液を供給するためのリンス液供給機
構５５が配置されている。また、カップの上部の手前及
び背後には搬送用レール５６、５７が設けられている。
現像液吐出機構５３及び高圧洗浄機構５４にはそれぞれ
搬送用モータ５８、５９が取り付けられており、制御部
３７による制御の基で搬送モータ５８、５９の駆動によ
り現像液吐出機構５３及び高圧洗浄機構５４が搬送用レ
ール５６、５７に沿ってカップ内上部に搬送されるよう
になっている。

【００３３】現像液吐出機構５３には、制御部３７の制
御の基、ポンプ６２を介して現像液収容タンク５２より
現像液が供給される。現像液の濃度は、例えば０．０５
％前後の濃度とされている。現像液吐出機構５３とポン
プ６２との間には、現像液を加温する加温装置６３が介
挿されている。加温装置６３は、例えば雰囲気が２３
（°Ｃ）である場合には現像液を２５〜２７（°Ｃ）に
加温する。これにより、現像速度を向上させることがで
きる。また、現像液吐出機構５３には、制御部３７の制
御の基、Ｎ２供給装置７６より供給されるようになって
いる。また、高圧洗浄機構５４には、制御部３７の制御
の基、ポンプ６４を介して洗浄液タンク６５より洗浄液
が供給される。同様に、リンス液供給機構５５にも、制
御部３７の制御の基、ポンプ６６を介してリンス液タン
ク６７よりリンス液が供給される。

【００３４】図４は上記現像液吐出機構５３の下側から
みた斜視図であり、図５はその説明図であり、（ａ）は
正面図、（ｂ）は平面的概念図である。図２〜図５に示
すように、上記現像液吐出機構５３の中央には、水平方
向に配置された保持棒６８に複数、例えば５〜７個程度
のスプレーノズル６９が列設されて構成されるノズル集
合体７７が配置されている。また、ノズル集合体７７
は、カバー７８により囲繞されている。カバー７８に
は、各スプレーノズル６９より吐出された現像液をガラ
ス基板Ｇ表面へ通過させるための開口部７９が設けられ
ている。また、このカバー７８内では、ノズル集合体７
７の両側にＮ２噴出体８０が配置されている。Ｎ２噴出
体８０は、ノズル集合体７７に平行する部材８１の先端
部に、ノズル集合体７７と平行するように、Ｎ２供給装
置７６より供給されたＮ２ガスを噴出する噴出穴８２を
多数設けてなるものである。これにより、カバー７８内
でノズル集合体７７から吐出される現像液が、Ｎ２ガス
によってカバー内雰囲気から遮蔽されるようになってい
る。

【００３５】各スプレーノズル６９は、図６に示すよう
に、吐出口７０から水平に吐出された現像液が対向面に
設けられた傾斜壁面７１に当り、下方向にカーテン状に
連続する流形を描き、かつ、円錐状に広がるように現像
液を吐出するものである。また、これらスプレーノズル
６９より吐出された現像液が隣接するスプレーノズル６
９間で相互に重なり、かつ、現像液が吐出される範囲
が、一方がガラス基板Ｇのほぼ角部に及び、他方がガ
ラス基板Ｇの長辺のほぼ中央部に及ぶように、スプレ
ーノズル６９、６９間の間隔が設けられている。図５で
はＮ２噴出体８０より噴出されるＮ２ガスの噴出範囲
を示している。

【００３６】各スプレーノズル６９は、１．５〜２．５
（ｋｇ／ｃｍ・ｃｍ）、より好ましくは２．０（ｋｇ／
ｃｍ・ｃｍ）の吐出圧で現像液を吐出する。例えば、ス
プレーノズルの吐出圧が０．８（ｋｇ／ｃｍ・ｃｍ）の
時には３０秒を経過してもガラス基板Ｇ全面の現像がで
きなかったものが、２．０（ｋｇ／ｃｍ・ｃｍ）とする
ことでこの時間内で全面現像が可能となった。また、各
スプレーノズル６９とガラス基板Ｇとの間隔ｈは、５０
〜１００（ｍｍ）、より好ましくは７５〜１００（ｍ
ｍ）の範囲にされている。このような設定により現像速
度を速めることができる。さらに、現像時には、現像液
吐出機構５３はガラス基板Ｇのほぼ中央で静止し、スピ
ンチャック３２により保持されたガラス基板Ｇは２００
〜３００（ｒｐｍ）の速度で回転される。これにより、
現像液によってガラス基板Ｇに対して十分な衝撃力を与
えることができる。

【００３７】図７は上記高圧洗浄機構５４の説明図であ
り、（ａ）は正面図、（ｂ）は平面的概念図である。図
７に示すように、高圧洗浄機構５４では、水平方向に配
置された保持棒７２に複数、例えば５〜７個程度の高圧
洗浄ノズル７３が取り付けられている。各高圧洗浄ノズ
ル７３は、円錐状に広がり、かつ、高圧洗浄ノズル７３
より吐出された洗浄液が隣接する高圧洗浄ノズル７３間
で相互に重なりるように洗浄液を吐出するものである。

【００３８】高圧スプレーノズル７３からは例えば５
（ｋｇ／ｃｍ・ｃｍ）の吐出圧で洗浄液が吐出される。
これにより、現像後のガラス基板Ｇ上の残さ等を十分に
除去することができる。洗浄時に、スピンチャック３２
によって保持されたガラス基板Ｇは静止状態にあり、高
圧洗浄機構５４はガラス基板Ｇの長手方向に走査され
る。これにより、高圧洗浄機構５４を短い長さとするこ
とができる。

【００３９】図８は上記リンス液供給機構５５の説明図
であり、（ａ）は正面図、（ｂ）は平面的概念図であ
る。図８に示すように、リンス液供給機構５５では、図
示しない回動機構によりアーム７４が回動されること
で、アーム７４の先端に取り付けられたリンス液供給ノ
ズル７５がスピンチャック３２によって保持されたガラ
ス基板Ｇのほぼセンタに位置するようになっている。リ
ンス処理時に、スピンチャック３２によって保持された
ガラス基板Ｇは１０００（ｒｐｍ）程度で回転され、リ
ンス液供給ノズル７５はガラス基板Ｇのほぼセンタで静
止状態にある。

【００４０】次に動作について説明する。図９は現像装
置１７における処理フローを示している。図１０に示す
ように、現像装置１７内に搬入され、スピンチャック３
２によって保持されたガラス基板Ｇは支持ピン４１と当
接しない位置まで下降され、外カップ３４及び内カップ
３５は最も高い位置まで上昇され、現像液吐出機構５３
はガラス基板Ｇのほぼ中央まで搬送されて静止する。そ
して、スピンチャック３２により保持されたガラス基板
Ｇが回転され、現像液吐出機構５３よりガラス基板Ｇに
対して現像液が吐出される（ステップ９０１）。その
際、Ｎ２噴出体８０よりＮ２ガスが噴出され、吐出され
た現像液はこのＮ２ガスによって遮蔽される。なお、ガ
ラス基板Ｇの外周より飛び散る現像液は内カップ３５の
内側に当り排液口４６より回収され、再利用される。

【００４１】次に、図１１に示すように、スピンチャッ
ク３２によって保持されたガラス基板Ｇは支持ピン４１
と当接する位置まで下降され、外カップ３４及び内カッ
プ３５は最も低い位置まで下降される。そして、スピン
チャック３２により保持されたガラス基板Ｇが静止状態
とされ、高圧洗浄機構５４がガラス基板Ｇの長手方向に
走査され、かつ、高圧洗浄機構５４よりガラス基板Ｇに
対して洗浄液が吐出される（ステップ９０２）。なお、
ガラス基板Ｇの外周より飛び散る洗浄液は内カップ３５
と外カップ３４との間を通ってドレイン口４７より廃棄
される。また、高圧洗浄の際に、支持ピン４１によって
ガラス基板Ｇを裏面より支持しているので、ガラス基板
Ｇが変形するようなことはない。

【００４２】次に、図１２に示すように、スピンチャッ
ク３２によって保持されたガラス基板Ｇは支持ピン４１
と当接しない位置まで上昇され、外カップ３４及び内カ
ップ３５は最も低い位置まで下降して状態とされ、リン
ス液供給機構５５がガラス基板Ｇのほぼセンタに搬送さ
れる。そして、スピンチャック３２により保持されたガ
ラス基板Ｇが回転され、リンス液供給機構５５よりガラ
ス基板Ｇに対してリンス液が供給される（ステップ９０
３）。なお、ガラス基板Ｇの外周より飛び散るリンス液
は内カップ３５と外カップ３４との間を通ってドレイン
口４７より廃棄される。

【００４３】最後に、図１２の状態からリンス液供給機
構５５がカップ外へ搬送され、スピンチャック３２によ
って保持されたガラス基板Ｇが高速回転されて振り切り
乾燥が行われる（ステップ９０４）。

【００４４】以上のように、この実施の形態によれば、
ガラス基板Ｇを回転させながらガラス基板Ｇ表面にノズ
ル集合体７７より現像液を吐出するように構成すること
で、現像液が実質的に吐出される範囲を非常に狭くする
一方で、ノズル集合体７７をカバー７８で囲繞すると共
に、ノズル集合体７７から吐出される現像液をカバー内
雰囲気から遮蔽するようにＮ２噴出体８０よりＮ２ガス
を噴出することで、カバー７８による囲繞によって、さ
らにはＮ２ガスによるいわゆる”エアーカーテン”によ
って現像液を空気から遮断している。従って、現像液は
空気と反応するようなことはなくなり、しかもその遮蔽
範囲は上記のように非常に狭くて良いので、Ｎ２ガスの
使用量を抑えつつ現像液を有効に再利用することができ
る。また、現像液が周囲に飛散するようなこともなくな
り、現像液によるミストの発生も抑えることができる。

【００４５】なお、本発明は上述した実施の形態には限
定されない。例えば、上記実施の形態では、不活性ガス
としてＮ２ガスを用いていたが、Ａｒガス等の他の不活
性ガスを用いることができる。また、基板としてはカラ
ーフィルタ用のガラス基板Ｇばかりでなく、他のＬＣＤ
基板、その他現像が必要な基板についても本発明を当然
適用できる。

【００４６】

【発明の効果】以上説明したように、請求項１記載に係
る本発明によれば、カバーによる囲繞によって、さらに
は不活性ガスによるいわゆる”エアーカーテン”によっ
て現像液が空気から遮断されるので、現像液は空気と反
応するようなことはなくなり、特に濃度の薄い現像液に
対して有効であり、しかも広域に亙り不活性ガスでパー
ジする必要がなくなるので、不活性ガスの使用量を抑え
つつ現像液を有効に再利用することができる。また、現
像液が周囲に飛散するようなこともなくなり、現像液に
よるミストの発生も抑えることができる。

【００４７】請求項２記載に係る本発明によれば、現像
液が吐出される領域が非常に狭くなるので、カバーによ
り囲繞すべき領域、さらには不活性ガスによるいわゆ
る”エアーカーテン”によって現像液を空気から遮断す
べき領域が非常に狭くなり、不活性ガスの使用量をさら
に減らすことができる。また、現像時に基板を回転する
ことが可能なので、現像速度の向上と均一性を確保する
こともできる。

【００４８】請求項３記載に係る本発明によれば、シャ
ワータイプのノズルを用いた場合と比較して現像液が空
気に触れる機会及びミストが発生する機会をさらに減ら
すことができる。また、現像液によるより強い衝撃力を
基板に対して与えることができるので、現像速度を速め
かつ現像不良を極力減らすことができる。

【００４９】請求項４記載に係る本発明によれば、コス
ト削減を図ることができる。

【００５０】請求項５記載に係る本発明によれば、ネガ
タイプの現像処理に好適なものとすることができる。

【００５１】請求項６記載に係る本発明によれば、現像
液を有効に再利用することができる。

【００５２】請求項７、８記載に係る本発明によれば、
高圧洗浄（リンス）時に基板のたわみを防止することが
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の一実施形態に係る塗布・現像処理シ
ステムの斜視図である。

【図２】 図１に示した現像装置の正面図である。

【図３】 図１に示した現像装置の平面図である。

【図４】 図２及び図３に示した現像液吐出機構の下側
からみた斜視図である。

【図５】 図２及び図３に示した現像液吐出機構の説明
図である。

【図６】 図５に示したスプレーノズルの断面図であ
る。

【図７】 図２及び図３に示した高圧洗浄機構の説明図
である。

【図８】 図２及び図３に示したリンス液供給機構の説
明図である。

【図９】 本実施形態での現像装置における処理フロー
である。

【図１０】 図９に示したステップ９０１に対応する現
像装置の状態図である。

【図１１】 図９に示したステップ９０２に対応する現
像装置の状態図である。

【図１２】 図９に示したステップ９０３に対応する現
像装置の状態図である。

【符号の説明】

１７ 現像装置 ３１ 駆動モータ ３２ スピンチャック ５３ 現像液吐出機構 ６９ スプレーノズル ７６ Ｎ２供給装置 ７７ ノズル集合体 ７８ カバー ７９ 開口部 ８０ Ｎ２噴出体 Ｇ ガラス基板Ｇ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 5F046 JA22 LA04 LA06 LA07 LA13 LA14 LA18

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板表面に現像液を吐出するノズルと、 前記ノズルを囲繞すると共に、前記ノズルより吐出され
   た現像液を基板表面へ通過させるための開口部を有する
   カバーと、 前記カバー内で前記ノズルから吐出される現像液をカバ
   ー内雰囲気から遮蔽するように不活性ガスを噴出する手
   段とを具備することを特徴とする現像装置。
2. 【請求項２】 基板裏面を保持しつつ基板を回転する保
   持回転手段と、 前記保持回転手段により保持回転される基板表面に現像
   液を吐出するノズルが複数列設されたノズル集合体と、 前記ノズル集合体を囲繞すると共に、前記各ノズルより
   吐出された現像液を基板表面へ通過させるための開口部
   を有するカバーと、 前記カバー内で前記各ノズルから吐出される現像液をカ
   バー内雰囲気から遮蔽するように不活性ガスを噴出する
   手段とを具備することを特徴とする現像装置。
3. 【請求項３】 請求項１または２記載の現像装置であっ
   て、 前記ノズルが、基板表面にカーテン状に連続する流形を
   描くように現像液を吐出するスプレーノズルであること
   を特徴とする現像装置。
4. 【請求項４】 請求項１から請求項３のうちいずれか１
   項記載の現像装置であって、 前記不活性ガスが、Ｎ２ガスであることを特徴とする現
   像装置。
5. 【請求項５】 請求項１から請求項４のうちいずれか１
   項記載の現像装置であって、 前記現像液の濃度が、０．１％以下であることを特徴と
   する現像装置。
6. 【請求項６】 請求項１から請求項５のうちいずれか１
   項記載の現像装置であって、 前記基板表面に対して吐出された現像液を回収して再び
   前記ノズルに供給する手段をさらに具備することを特徴
   とする現像装置。
7. 【請求項７】 基板の裏面を保持しつつ、基板の表面に
   高圧の洗浄液を噴出して洗浄を行う洗浄装置であって、 前記基板の裏面の非保持部を支持ピンにより支持するよ
   うにしたことを特徴とする洗浄装置。
8. 【請求項８】 基板の裏面を保持する、昇降可能な保持
   部材と、 前記保持部材を昇降する昇降機構と、 前記保持部材により第１の高さに保持された基板に対し
   て所定の処理をする処理手段と、 前記保持部材により第１の高さより低い第２の高さに保
   持された基板の表面に対して洗浄液を噴出する高圧洗浄
   手段と、 前記保持部材により第２の高さに保持された基板の裏面
   の非保持部に当接するように配置された支持ピンとを具
   備することを特徴とする洗浄装置。