JP4043039B2 - 現像方法及び現像装置 - Google Patents
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Description
31 駆動モータ
32 スピンチャック
53 現像液吐出機構
54 高圧洗浄機構
55 リンス液供給機構
63 加温装置
69 スプレーノズル
G ガラス基板G
Claims (7)
- 矩形基板を保持しつつ回転する保持回転手段と、この保持回転手段で保持された基板を支持する複数の支持ピンとを有し、
前記保持回転手段に保持された基板を回転させた状態で、少なくとも前記矩形基板の中心部と周縁の一部との間に現像液を連続的に所定の圧力で供給して現像処理を行う工程と、
前記保持回転手段で及び前記複数の支持ピンで支持された前記矩形基板を静止した状態で、前記矩形基板の短手方向を覆うようにかつ前記矩形基板の長手方向に走査するように洗浄液を連続的に前記現像液を供給する圧力より大きい圧力で供給して洗浄処理を行う工程と
を具備することを特徴とする現像方法。 - 請求項1に記載の現像方法であって、
前記支持ピンは、前記現像処理を行う工程では前記矩形基板を支持せず、前記洗浄処理を行う工程では前記矩形基板を支持することを特徴とする現像方法。 - 請求項1または請求項2に記載の現像方法であって、
前記現像処理を行う工程と前記洗浄処理を行う工程とで前記矩形基板の側方に面する容器が異なることを特徴とする現像方法。 - 矩形基板を回転可能に保持しつつ上下動可能に構成された保持手段と、
前記保持手段により保持された矩形基板が下降されたときに当該矩形基板の裏面に当接して支持する位置に配置された複数の支持ピンと、
前記保持手段により保持された矩形基板が上昇され回転されたときに当該矩形基板の表面に第1の圧力で現像液を吐出する現像液ノズルと、
前記保持手段により保持された矩形基板が下降されて当該矩形基板の裏面が支持ピンにより支持され、且つ、当該矩形基板が回転されないで静止状態にあるときに当該矩形基板の表面に第1の圧力よりも大きい第2の圧力で洗浄液を吐出する洗浄液ノズルと
を具備することを特徴とする現像装置。 - 請求項4に記載の現像装置であって、
前記現像液ノズルは、前記矩形基板の中心部と周縁の一部との間に現像液を連続的に吐出し、
前記洗浄液ノズルは、前記矩形基板の短手方向を覆うようにかつ前記矩形基板の長手方向に走査するように洗浄液を連続的に吐出する
ことを特徴とする現像装置。 - 請求項4又は請求項5に記載の現像装置であって、
前記保持手段は、スピンチャックを有し、
前記支持ピンは、前記スピンチャックの周囲に配置されている
ことを特徴とする現像装置。 - 請求項4から請求項6のうちいずれか1項に記載の現像装置であって、
前記保持手段により保持された矩形基板が上昇され回転されている前記矩形基板の表面から外縁に飛び散る液を回収する第1の容器と、
前記保持手段により保持された矩形基板が下降されて当該矩形基板の裏面が支持ピンにより支持されている矩形基板の表面から飛び散る液を回収する第2の容器と
を更に具備することを特徴とする現像装置。
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