JPH10143928A - 光ディスク原盤処理方法及び処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 インラインシステムでの複数の工程をそれぞ
れ別のチャンバーで行うことなく一つのチャンバーで複
数の処理を行うことができ、かつ、使用する異種の薬液
が混じり合い好ましくない反応を起こすことがなく、廃
液処理も各処理液毎に適切に行うことが可能な光ディス
ク原盤処理方法及び処理装置を提供する。 【解決手段】 インナーカップ５ａ〜５ｄが１つのチャ
ンバー１内に複数設けて、それぞれの処理時に発生する
余分な処理液を専用のインナーカップで回収し、別工程
の処理液が混じり合うことがない。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光ディスクの原盤
を作製する工程において１つの装置内で複数の処理が連
続的にかつ自動的に行われるインライン装置において、
ガラス基板等の上に各種の薬液を順次塗布する光ディス
ク原盤処理方法及び装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】光ディスクの原盤を作製する工程を「マ
スタリング」といい、この工程で最終的に「スタンパ
ー」と呼ばれるニッケル等の金属の原盤が作製される。
このスタンパーが後の成形工程で金型として用いられ、
大量のディスクの複製が生産される。マスタリングの工
程を簡単に説明すると、まず研磨されたガラス基板を洗
浄し、その上にフォトレジストと呼ばれる感光材を塗布
する。その後、記録する信号で変調されたレーザー光を
レンズでサブミクロン単位の小さな径に絞り、ガラス盤
に露光する。露光後、ガラス盤の上に現像液をかけて露
光部分をエッチングし、微細な凹凸のパターンをフォト
レジスト上に形成する。その上に無電解メッキと呼ばれ
る方法でニッケルの薄い膜を形成する。この導電膜は後
の電気メッキ時の電極として作用する。電気メッキでガ
ラス盤の上にニッケル金属層を０．３ミリメートルほど
の厚さに形成する。このニッケル金属層を剥離したもの
がマスタースタンパーとなる。通常はこれを加工して金
型とする。マスタリング工程では前述のように複数の処
理が連続的に行われるが、最近は「インライン装置」と
称して、それらを一つの装置内で自動で行うものが用い
られている。

【０００３】上記のようなインライン工程では、レーザ
ー光による露光以外は主としてガラス盤に処理液をかけ
て行う湿式処理が行われている。つまり、ガラス盤の洗
浄、フォトレジストの密着性を上げるための密着強化剤
の塗布とフォトレジストの塗布、現像液をかけての現
像、無電解メッキのための数種類の前処理液の塗布、無
電解メッキ液の塗布、純水によるリンスなどの湿式処理
である。従来それらの工程はそれぞれ専用のチャンバー
で行われていた。その理由の一つは、同じチャンバー内
で異なった処理をすると、使用する異種の薬液が混じり
合い好ましくない反応を起こす可能性があるからであ
る。例えば、フォトレジストの密着強化剤のある種のも
のは、その溶剤蒸気が空気中の水分と反応し、レジスト
の感度を低下させる副生成物を生じる。このような密着
強化剤を使用する場合は、それぞれ別のチャンバーで処
理するか、または同じチャンバーで処理する場合は、ガ
ラス盤から振り飛ばされてインナーカップ内に付着して
いる密着強化剤が溶剤蒸気を出さないまでインナーカッ
プ内を十分に排気乾燥させる必要があった。また、無電
解メッキの場合、インナーカップ内に付着した前処理液
とメッキ液が反応して、インナーカップ自身にメッキを
施してしまうことが起こっていた。また、異種の化学薬
品の混合によって人体に有害な物質を生成することも考
えられる。専用チャンバーを用いるもう一つの理由は、
廃液処理である。つまり、廃液処理が必要なものとそう
でないもの、また廃液処理でも中和処理のみでよいもの
と液中の金属イオンを分離する必要があるものなどがあ
り、それぞれ分別して回収しなければならないからであ
る。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな専用チャンバーは各処理ごとに設ける必要があり、
装置全体が大型化するとともに、チャンバー間での搬送
作業に時間がかかるといった種々の問題があった。本発
明の目的は、インラインシステムでの複数の工程をそれ
ぞれ別のチャンバーで行うことなく一つのチャンバーで
複数の処理を行うことができ、かつ、使用する異種の薬
液が混じり合い好ましくない反応を起こすことがなく、
廃液処理も各処理液毎に適切に行うことが可能な光ディ
スク原盤処理方法及び処理装置を提供することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段・作用・効果】上記目的を
達成するため、本発明の第１態様にかかる光ディスク原
盤処理方法は、原盤を回転可能に載置する原盤回転装置
と、上記原盤の表面に処理液を供給する複数の液供給ノ
ズルと、１つのチャンバー内でかつ上記回転する原盤の
外周に配置され、内周端に上記原盤の外周端に対向する
開口を形成し、かつ、上記回転する原盤表面より遠心力
で飛散した処理液を回収する複数の処理液回収容器とを
備えた光ディスク原盤処理装置を使用して、原盤に上記
処理液を供給して所定の処理を行う、光ディスク原盤処
理方法であって、上記原盤を上記処理液回収容器まで相
対的に移動させて該処理液回収容器の上記開口と上記原
盤の外周端が対向するように位置させたのち、上記ノズ
ルから上記処理液を上記原盤に供給して所定の処理を行
い、その後、上記原盤を次の処理液回収容器まで相対的
に移動させて該処理液回収容器の上記開口と上記原盤の
外周端が対向するように位置させたのち、上記とは異な
るノズルから処理液を上記原盤に供給して上記とは別の
所定の処理を行うように構成している。

【０００６】本発明の第２態様によれば、第１態様にお
いて、上記処理液回収容器が上記回転装置の回転軸方向
に複数個重ねて設けられており、上記処理液回収容器の
上記開口と上記原盤の外周端が対向するように順次相対
的に上記回転軸方向に移動させて位置させたのち、上記
ノズルから上記処理液を上記原盤に供給して所定の処理
をそれぞれ行うように構成することもできる。本発明の
第３態様によれば、第１態様において、上記処理液回収
容器が平面状に複数個設けられており、上記処理液回収
容器の上記開口と上記原盤の外周端が対向するように順
次相対的に移動させて位置させたのち、上記ノズルから
上記処理液を上記原盤に供給して所定の処理をそれぞれ
行うように構成することもできる。本発明の第４態様に
よれば、第１〜３態様のいずれかにおいて、上記原盤の
処理中は、上記原盤外周端に対向している処理液回収容
器のみ排気可能状態とするように構成することもでき
る。本発明の第５態様によれば、第１〜４態様のいずれ
かにおいて、上記処理液回収容器の内周端において開口
部分を形成する上下二枚の曲面の内、上面の内径が上記
原盤径より大きく、下面の内径が上記原盤径より小さい
ように構成することもできる。

【０００７】本発明の第６態様の光ディスク原盤処理装
置によれば、原盤を載置して回転させる原盤回転装置
と、上記原盤の表面に処理液を供給する複数の液供給ノ
ズルと、１つのチャンバー内でかつ上記回転する原盤の
外周に配置され、内周端に上記原盤の外周端に対向する
開口を形成し、かつ、上記回転する原盤表面より遠心力
で飛散した処理液を回収する複数の処理液回収容器とを
備え、上記各処理液回収容器の上記開口と上記原盤の外
周端が順次対向するように相対的に移動可能であるとと
もに、上記液供給ノズルを上記原盤の位置に応じて移動
可能であるように構成している。

【０００８】本発明の第７態様によれば、第６態様にお
いて、上記処理液回収容器が上記回転装置の回転軸方向
に複数個重ねて設けられているように構成することもで
きる。本発明の第８態様によれば、第６態様において、
上記処理液回収容器が平面状に複数個設けられているよ
うに構成することもできる。本発明の第９態様によれ
ば、第６〜８態様のいずれかにおいて、上記処理液回収
容器には、廃液を回収タンクに導くドレインパイプと排
気ダクトが一つまたは複数個設けられており、上記原盤
の処理中は、上記原盤外周端に対向している処理液回収
容器のみ排気可能状態とするように構成することもでき
る。本発明の第１０態様によれば、第６〜９態様のいず
れかにおいて、上記処理液回収容器の内周端において開
口部分を形成する上下二枚の曲面の内、上面の内径が上
記原盤径より大きく、下面の内径が上記原盤径より小さ
いように構成することもできる。

【０００９】上記本発明の各態様にかかる光ディスク原
盤処理方法及び処理装置では、マスタリングの数種の工
程の内、湿式処理を施すものを一つのチャンバー内で行
うことが可能であり、以下の効果を有する。 （１）上記本発明の各態様によれば、処理液回収容器が
複数設けられているため、それぞれの処理時に発生する
余分な処理液を専用の処理液回収容器で回収することが
でき、別工程の処理液が混じり合うことがない。そのた
め、品質や人体に影響を及ぼす副生成物の発生を防ぐこ
とができる。また、原盤例えばガラス原盤の表面への導
電膜の付与を目的とした無電解メッキ工程において、前
処理液とメッキ液の両方が付着することが防止でき、チ
ャンバーや処理液回収容器などガラス原盤以外への導電
膜の生成を防ぐことができる。 （２）上記本発明の第４，９態様によれば、処理液回収
容器にはそれぞれ専用のドレインパイプと排気ダクトを
接続することができ、廃液および廃液に伴い発生する排
気ガスの回収も分別して回収できるので互いに混じり合
うことがなく、各廃液および排気ガスに応じた後処理が
行える。例えば、排気について、一般ガスと有機系ガス
などを分離して回収し、後処理を行うことができる。ま
た、各処理液回収容器に設けることができる排気ダクト
は処理中の処理液回収容器のもののみ排気動作が可能に
設定できるので、処理中の処理液より発生した気体が他
の処理液回収容器に吸収されることなく効率よく排気ガ
スを回収できる。 （３）上記本発明の各態様によれば、数種類の処理を一
つのチャンバー内で行うことができるため、装置を小型
にすることができかつ装置の製作コストも安くできる。 （４）上記本発明の各態様によれば、複数の処理液回収
容器をそれぞれ取り外し可能に設置すれば、各処理液回
収容器は一種類もしくは同種類の薬液しか付着していな
いのでメンテナンスや洗浄が容易に行える。

【００１０】

【発明の実施の形態】本発明の種々の実施形態を図面を
参照しながら説明する。図１は、本発明の第１実施形態
にかかる光ディスク原盤処理方法を実施するための光デ
ィスク原盤処理装置を示す断面図である。図１において
１はチャンバーであり、その中にガラス原盤２を載置し
て回転させる原盤回転装置の一例としてのターンテーブ
ル３と、ノズル上下駆動手段１０５の駆動により上下動
される複数の液供給ノズル４と、原盤表面より遠心力で
振り飛ばされた処理液を回収する複数の処理液回収容器
の一例としてのインナーカップ５ａ、５ｂ、５ｃ、５ｄ
を有している。この第１実施形態では、４本のノズル４
を用意し、各ノズルによる処理に対応させて４個のイン
ナーカップを用意している。ここで、上記処理とは、例
えば、ガラス原盤２に洗浄液をノズル４から供給して行
うガラス原盤洗浄、フォトレジストの密着性を上げるた
めノズル４から密着強化剤をガラス原盤２に供給して行
う塗布とフォトレジストをガラス原盤２に供給して行う
塗布、ノズル４から現像液をガラス原盤２にかけての現
像、無電解メッキのための数種類の前処理液をノズル４
からガラス原盤２に供給して行う塗布、無電解メッキ液
をノズル４からガラス原盤２に供給して行う塗布、ノズ
ルから純水をガラス原盤２に供給して行うリンスなどの
湿式処理などを意味する。チャンバー１には図示してい
ないが開閉自在の蓋を設けて、該蓋を開閉することによ
りガラス原盤２をチャンバー１内のターンテーブル３に
対して搬入・搬出するようにしてもよい。各インナーカ
ップ５ａ〜５ｄにはその中心を貫通する内孔があり、そ
の内周端は２枚の曲面つまり上面７ａと下面８ａで構成
される開口９ａを有している。

【００１１】図１では、実線Ａで示すように、ガラス原
盤２がインナーカップ５ａの開口９ａに対向する位置に
あり、４本のノズルのうちの１本の液供給ノズル４から
必要な処理液の供給を受けて所定の処理が行われる。ノ
ズル上下駆動手段１０５は、図３に示すように、各ノズ
ル４はノズルアーム６１に固定されており、ノズルアー
ム６１はノズルアーム上下動シリンダ６２のピストンロ
ッド６２ａの上端に固定されており、上下動シリンダ６
２のピストンロッド６２ａの上下駆動によりノズルアー
ム６１を介してノズル４が上下動される。ガラス原盤２
は回転軸駆動モータ１０などのターンテーブル３の回転
軸駆動手段によって必要に応じて回転させられる。この
ターンテーブル３の回転軸３０を回転させる上記回転軸
駆動モータ１０は、図２に示されるようなターンテーブ
ル上下駆動機構１０４により上下駆動される。この上下
駆動機構１０４では、上記モータ１０が回転軸駆動モー
タ固定ベース４２に取り付けられ、この固定ベース４２
は図示された２本のガイド４４と図示されない他のガイ
ドで上下方向沿いに移動可能に案内されるとともに、固
定ベース４２は、その一端が固定ベース上下駆動シリン
ダ４５のピストンロッド４５ａの上端に固定され、該固
定ベース上下駆動シリンダ４５のピストンロッド４５ａ
の上下駆動により、上記ガイド４４などで案内されつつ
固定ベース４２が上下動し、モータ１０とともにその回
転軸３０も上下動して、ターンテーブル３が上下動され
る。処理中または処理終了時のターンテーブル３の回転
によってガラス盤２の表面の処理液は遠心力で振り飛ば
されて、インナーカップ５ａの開口９ａからインナーカ
ップ５ａ内に回収される。インナーカップ５ａ〜５ｄに
は６ａ〜６ｄで示されるドレインパイプおよび排気ダク
トがそれぞれ接続され、インナーカップ５ａ〜５ｄ内の
液の排出と排気を行う。ドレインパイプ及び排気ダクト
６ａ〜６ｄは図１に示すように、バルブ５１，５２，５
３，５４を経由して排気ダクト５５に接続されている。
排気ダクト５５の先端には排気ファン５６が設けられて
いる一方、排気ダクト５５の下端はドレインに接続され
ている。よって、処理中のインナーカップに接続されて
いるバルブのみ開放とし、他のバルブを閉じることによ
り、排気ファン５６による排気動作は、接続されている
インナーカップにのみ作用することになり、当該インナ
ーカップからのみ排気される。このように、ドレインパ
イプと排気ダクト６ａ〜６ｄは上記したように１つにま
とめて設けるものに限らず、別々に設けてもよいし、各
インナーカップにおいて１個ではなく、複数個設けても
よい。図１の位置での処理中は最上段のインナーカップ
５ａのドレインパイプと排気ダクト６ａの排気動作のみ
可能とするようにバルブを開放し、他のバルブは閉じる
ように制御しているので、インナーカップ５ａの排気ガ
スが他のインナーカップ５ｂ，５ｃ，５ｄに吸入される
ことがない。

【００１２】上記処理が終了すると、図２のターンテー
ブル上下駆動機構１０４の固定ベース上下駆動シリンダ
４５の下降駆動によってターンテーブル３は図１におい
て一段だけ下に移動し、図１において一点鎖線Ｂで示す
ようにガラス原盤２の外周端が２段目のインナーカップ
５ｂの開口９ｂに対向する位置に来る。同時に液供給ノ
ズル４も図３に示されるノズル上下駆動手段１０５によ
って下降し、ガラス盤２への液吐出に最適な位置に来
る。この位置では最初の位置とは別の処理が行われ、別
の液供給ノズル４から処理に応じた液が供給される。同
様に廃液および排気ガスはインナーカップ５ｂに回収さ
れ、ドレイン及び排気ダクト６ｂから排出される。以下
同様に、残りの２つのインナーカップ５ｃ，５ｄに対し
て図１の一点鎖線Ｃ及びＤで示される位置にガラス原盤
２とターンテーブル３が位置して所定の処理が行われ
る。

【００１３】このようにインナーカップ５ａ〜５ｄの数
だけ対応する所定の処理が繰り返される。インナーカッ
プ５ａ〜５ｄの使用順番はランダムでもよい。インナー
カップ５ａ〜５ｄではそれぞれ専用の処理が実施されて
一つのインナーカップ内で異なった処理の液が混じり合
うことがなく、インナーカップ内で好ましくない化学反
応が起こることがない。好ましくない反応とは、人体に
有害な物質や、フォトレジストの感度を低下させるなど
工程の品質に影響を与える物質の生成、またはガラス原
盤表面にのみ期待している導電膜の形成がインナーカッ
プ内でも生じるなどのことをいう。また、ドレインパイ
プ６ａ〜６ｄはそれぞれ別々の回収タンクまたは配管経
路を有しており、廃液が混じり合うことがなく、それぞ
れに必要な廃液処理が行える。一般に無機のアルカリ性
と酸性の廃液は一緒にして中和処理を施す。また、有機
系の廃液はタンクで回収して産業廃棄物として処理をす
る。導電化処理の工程では、ニッケル等の金属イオンを
含んだ廃液が出るのでこれらは、金属イオンを吸着して
イオン濃度を規定値以下にした後中和して廃棄する。な
お、上記第１実施形態のノズル上下駆動手段１０５とタ
ーンテーブル上下駆動機構１０４は以下の他の実施形態
にも適宜適用することができる。

【００１４】図１は複数のインナーカップがターンテー
ブル３の回転軸方向に並べられた例である。これに対し
て、図４にインナーカップが水平方向に並べられた本発
明の第２実施形態にかかる光ディスク原盤処理方法を実
施するための処理装置を示す。図４において、チャンバ
ー１１の中に、ガラス原盤１２を載置して回転させるタ
ーンテーブル１３と、インナーカップ１５ａ、１５ｂが
設けられている。１４は２本の液供給ノズルである。イ
ンナーカップ１５ａ，１５ｂは図５のインナーカップ駆
動装置１０６で駆動される。すなわち、インナーカップ
１５ａ，１５ｂはインナーカップ連結部材８１によって
一体に連結されており、右側のインナーカップ１５ｂは
インナーカップ駆動部材８２に連結されている。この駆
動部材８２は、インナーカップ駆動シリンダ８３により
図５の左右方向に移動させられ、この駆動部材８２の左
右方向の移動に伴いインナーカップ１５ａ，１５ｂも左
右方向に移動する。この処理方法の動作について説明す
ると、ガラス盤１２の外周端がインナーカップ１５ａの
開口１９ａに対向する位置Ｅでノズル１４から処理液を
かけられて所定の処理が行われる。その後、ガラス盤１
２は矢印のように下側に実線位置Ｆまで下降する。次
に、インナーカップ１５ａと１５ｂが図５に示されるイ
ンナーカップ駆動装置１０６によって図４において矢印
のように左側に移動し、インナーカップ１５ｂがインナ
ーカップ１５ａの元の位置までくる。次にガラス盤１２
は一点鎖線の位置Ｅまで上昇し、インナーカップ１５ｂ
の開口１９ｂに対向する位置Ｅで次の処理が行われる。
図４ではドレインパイプと排気ダクトは省略されている
が、廃液、排気に関する処理は図１の場合と同じであ
る。

【００１５】図６に第１，第２実施形態より改良された
本発明の第３実施形態にかかる光ディスク原盤処理方法
及び処理装置を示す。図６で、２１はチャンバー、２２
ａ、２２ｂはガラス原盤、２３はターンテーブル、２６
ａ，２６ｂはドレインパイプ及び排気ダクトである。こ
の第３実施形態では、インナーカップ内周端の開口部分
２９ａ、２９ｂの形状が上記の例と異なっている。つま
り、各インナーカップ２５ａ，２５ｂの上面２７ａ，２
７ｂの内径寸法はガラス原盤２２の外径より大きく、イ
ンナーカップ２５ａ，２５ｂの下面２８ａ，２８ｂの内
径はガラス原盤２２の外径より小さくなっている。ガラ
ス原盤２２は、図７に示されるように、原盤搬送ロボッ
ト１０８により搬送される。この搬送ロボット１０８
は、一例としての屈腕型ロボットであり、そのロボット
本体７１には複数の腕、すなわち、第１アーム７２、第
２アーム７３、第３アーム７４が互いに連結され、ロボ
ット本体７１に対して上下動可能にかつ回転可能に支持
されている。第１アーム７２の上にはガラス原盤２２が
載置支持されており、ロボット本体７１内の駆動部材の
駆動により、第２アーム７３及び第３アーム７４が回転
してインナーカップ側に延びるように移動して、第１ア
ーム７２が矢印７６の方向に移動するとともに矢印７５
の方向に下降することにより、ターンテーブル２３の上
の所定位置にガラス原盤２２を搬送して載置することが
できる。

【００１６】動作について説明すると、まず、ガラス原
盤２２はチャンバー２１外の２２ａの位置から図７に示
される搬送ロボット１０８でターンテーブル２３の上に
載置される。次にターンテーブル２３が下降し、インナ
ーカップ２５ａの開口２９ａにガラス原盤２２の外周端
が対向する一点鎖線で示された位置Ｈにくる。ここで、
ガラス原盤２２は液供給ノズル２４から必要な液の供給
を受けて所定の処理がなされる。処理終了後、ターンテ
ーブル２３は元の位置Ｇまでに上昇する。ここで再び図
示されないロボットがガラス原盤２２を取りに来る。ロ
ボットはチャンバー２１外のガラス原盤２２を２２ｂに
示す位置まで移動させる。このとき、ターンテーブル２
３は一点鎖線で示す位置Ｉまで下降しており、再びロボ
ットがガラス原盤２２をチャンバー２１外の位置２２ｂ
からターンテーブル２３上に載置する。次に、ターンテ
ーブル２３が一点鎖線で示された位置Ｊまで下降して、
インナーカップ２５ｂの開口２９ｂにガラス原盤２２を
対向させ、次の処理を実施する。この時も液供給ノズル
２４は図３に示されたようなノズル上下駆動手段１０５
によって下降し、ガラス原盤２２への液抽出に最適な位
置に来ている。廃液および排気の動作に関しては図１で
述べた通りである。この構造では、ガラス原盤２２の外
周端からこぼれ落ちた液は必ずガラス原盤２２に対向す
るインナーカップ２５ａ又は２５ｂに回収されるため、
他のインナーカップ２５ｂ又は２５ａに飛び散ったり、
チャンバー２１の底に溜まったりすることがなく、異種
液との干渉を確実に防ぐことができる。上記した実施形
態ではインナーカップとガラス原盤の一方を移動させて
いるが、これはいずれを動かすようにしてもよい。上記
原盤回転装置の他の例としては、図８に示すように、回
転軸３０に３個又は４個の原盤支持アーム３１を取り付
け、これらの原盤支持アーム３１により原盤２を上下及
び横方向に位置規制して支持するようにしてもよい。

【００１７】上記実施形態にかかる光ディスク原盤処理
方法及び処理装置では、マスタリングの数種の工程の
内、湿式処理を施すものを一つのチャンバー１，１１，
２１内で行うことが可能であり、以下の効果を有する。 （１）インナーカップ５ａ〜５ｄ，１５ａ，１５ｂ，２
５ａ，２５ｂが複数設けられているため、それぞれの処
理時に発生する余分な処理液を専用のインナーカップで
回収することができ、別工程の処理液が混じり合うこと
がない。そのため、品質や人体に影響を及ぼす副生成物
の発生を防ぐことができる。また、原盤２，１２，２
２、例えばガラス原盤の表面への導電膜の付与を目的と
した無電解メッキ工程において、前処理液とメッキ液の
両方が付着することが防止でき、チャンバーやインナー
カップなどガラス原盤以外への導電膜の生成を防ぐこと
ができる。 （２）インナーカップ５ａ〜５ｄ，１５ａ，１５ｂ，２
５ａ，２５ｂにはそれぞれ専用のドレインパイプと排気
ダクト６ａ〜６ｄ，２６ａ，２６ｂを接続することがで
き、廃液および廃液に伴い発生する排気ガスの回収も分
別して回収できるので互いに混じり合うことがなく、各
廃液および排気ガスに応じた後処理が行える。例えば、
排気について、一般ガスと有機系ガスなどを分離して回
収し、後処理を行うことができる。また、各インナーカ
ップに設けることができる排気ダクトは処理中のインナ
ーカップのみ排気動作が可能に設定できるので、処理中
の処理液より発生した気体が他のインナーカップに吸収
されることなく効率よく排気ガスを回収できる。 （３）数種類の処理を一つのチャンバー内で行うことが
できるため、装置を小型にすることができかつ装置の製
作コストも安くできる。 （４）複数のインナーカップをそれぞれ取り外し可能に
設置すれば、各インナーカップは一種類もしくは同種類
の薬液しか付着していないのでメンテナンスや洗浄が容
易に行える。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の第１の実施形態にかかる光ディスク
原盤処理方法を実施するための処理装置の一部断面図で
ある。

【図２】 本発明の第１実施形態にかかる処理装置のタ
ーンテーブル上下駆動機構の説明図である。

【図３】 上記第１実施形態にかかる処理装置のノズル
上下機構の説明図である。

【図４】 本発明の第２の実施形態にかかる光ディスク
原盤処理方法を実施するための処理装置の一部断面図で
ある。

【図５】 第２実施形態にかかる処理装置のインナーカ
ップ駆動装置の説明図である。

【図６】 本発明の第３の実施形態にかかる光ディスク
原盤処理方法を実施するための処理装置の一部断面図で
ある。

【図７】 上記第３実施形態の処理装置のガラス原盤搬
送ロボットの説明図である。

【図８】 本発明の他の実施形態にかかる光ディスク原
盤処理方法を実施するための処理装置のターンテーブル
の変形例である原盤支持アームに原盤を支持した状態の
一部断面図である。

【符号の説明】

１，１１，２１ チャンバー ２，１２，２２ ガラス原盤 ３，１３，２３ ターンテーブル ４，１４，２４ 液供給ノズル ５ａ〜５ｄ，１５ａ，１５ｂ，２５ａ，２５ｂ インナ
ーカップ ６ａ〜６ｄ，２６ａ，２６ｂ ドレインパイプ及び排気
ダクト ７ａ〜７ｄ，２７ａ，２７ｂ インナーカップ上面 ８ａ〜８ｄ，２８ａ，２８ｂ インナーカップ下面 ９ａ〜９ｄ，１９ａ，１９ｂ，２９ａ，２９ｂ インナ
ーカップ開口 ２２ａ 第３の実施形態における上側挿入位置のガラス
原盤 ２２ｂ 第３の実施形態における下側挿入位置のガラス
原盤 ３１ 原盤支持アーム １０４ ターンテーブル上下駆動機構 １０５ ノズル上下駆動手段 １０６ インナーカップ駆動装置 １０８ 原盤ロボット

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 原盤（２，１２，２２）を回転可能に載
   置する原盤回転装置（３，１３，２３，１０）と、上記
   原盤の表面に処理液を供給する複数の液供給ノズル
   （４，１４，２４）と、１つのチャンバー（１，１１，
   ２２）内でかつ上記回転する原盤の外周に配置され、内
   周端に上記原盤の外周端に対向する開口（９ａ〜９ｄ，
   １９ａ，１９ｂ，２９ａ，２９ｂ）を形成し、かつ、上
   記回転する原盤表面より遠心力で飛散した処理液を回収
   する複数の処理液回収容器（５ａ〜５ｄ，１５ａ，１５
   ｂ，２５ａ，２５ｂ）とを備えた光ディスク原盤処理装
   置を使用して、原盤に上記処理液を供給して所定の処理
   を行う、光ディスク原盤処理方法であって、 上記原盤を上記処理液回収容器まで相対的に移動させて
   該処理液回収容器の上記開口と上記原盤の外周端が対向
   するように位置させたのち、上記ノズルから上記処理液
   を上記原盤に供給して所定の処理を行い、その後、上記
   原盤を次の処理液回収容器まで相対的に移動させて該処
   理液回収容器の上記開口と上記原盤の外周端が対向する
   ように位置させたのち、上記とは異なるノズルから処理
   液を上記原盤に供給して上記とは別の所定の処理を行う
   ようにしたことを特徴とする光ディスク原盤処理方法。
2. 【請求項２】 上記処理液回収容器が上記回転装置の回
   転軸方向に複数個重ねて設けられており、上記処理液回
   収容器の上記開口と上記原盤の外周端が対向するように
   順次相対的に上記回転軸方向に移動させて位置させたの
   ち、上記ノズルから上記処理液を上記原盤に供給して所
   定の処理をそれぞれ行う請求項１に記載の光ディスク原
   盤処理方法。
3. 【請求項３】 上記処理液回収容器が平面状に複数個設
   けられており、上記処理液回収容器の上記開口と上記原
   盤の外周端が対向するように順次相対的に移動させて位
   置させたのち、上記ノズルから上記処理液を上記原盤に
   供給して所定の処理をそれぞれ行う請求項１に記載の光
   ディスク原盤処理方法。
4. 【請求項４】 上記原盤の処理中は、上記原盤外周端に
   対向している処理液回収容器のみ排気可能状態とする請
   求項１〜３のいずれかに記載の光ディスク原盤処理方
   法。
5. 【請求項５】 上記処理液回収容器の内周端において開
   口部分を形成する上下二枚の曲面の内、上面の内径が上
   記原盤径より大きく、下面の内径が上記原盤径より小さ
   い請求項１〜４のいずれかに記載の光ディスク原盤処理
   方法。
6. 【請求項６】 原盤（２，１２，２２）を載置して回転
   させる原盤回転装置（３，１３，２３，１０）と、 上記原盤の表面に処理液を供給する複数の液供給ノズル
   （４，１４，２４）と、 １つのチャンバー（１，１１，２２）内でかつ上記回転
   する原盤の外周に配置され、内周端に上記原盤の外周端
   に対向する開口（９ａ〜９ｄ，１９ａ，１９ｂ，２９
   ａ，２９ｂ）を形成し、かつ、上記回転する原盤表面よ
   り遠心力で飛散した処理液を回収する複数の処理液回収
   容器（５ａ〜５ｄ，１５ａ，１５ｂ，２５ａ，２５ｂ）
   とを備え、 上記各処理液回収容器の上記開口と上記原盤の外周端が
   順次対向するように相対的に移動可能であるとともに、
   上記液供給ノズルを上記原盤の位置に応じて移動可能で
   あるようにしたことを特徴とする光ディスク原盤処理装
   置。
7. 【請求項７】 上記処理液回収容器が上記回転装置の回
   転軸方向に複数個重ねて設けられている請求項６に記載
   の光ディスク原盤処理装置。
8. 【請求項８】 上記処理液回収容器が平面状に複数個設
   けられている請求項６に記載の光ディスク原盤処理装
   置。
9. 【請求項９】 上記処理液回収容器には、廃液を回収タ
   ンクに導くドレインパイプと排気ダクト（６ａ〜６ｄ）
   が一つまたは複数個設けられており、上記原盤の処理中
   は、上記原盤外周端に対向している処理液回収容器のみ
   排気可能状態とする請求項６〜８のいずれかに記載の光
   ディスク原盤処理装置。
10. 【請求項１０】 上記処理液回収容器の内周端において
    開口部分を形成する上下二枚の曲面の内、上面の内径が
    上記原盤径より大きく、下面の内径が上記原盤径より小
    さい請求項６〜９のいずれかに記載の光ディスク原盤処
    理装置。