JPH05121308A

JPH05121308A - 処理液塗布装置

Info

Publication number: JPH05121308A
Application number: JP30981091A
Authority: JP
Inventors: Yuji Matsuyama; 雄二松山
Original assignee: Tokyo Electron Ltd; Tokyo Electron Kyushu Ltd
Current assignee: Tokyo Electron Ltd; Tokyo Electron Kyushu Ltd
Priority date: 1991-10-29
Filing date: 1991-10-29
Publication date: 1993-05-18
Anticipated expiration: 2014-11-22
Also published as: JP2982439B2

Abstract

(57)【要約】【目的】排気バランスを良好に維持しつつ排気圧の低
下を防止し、被処理体へのミストの付着を低減する。【構成】被処理体１０に処理液を塗布する塗布部２４
からのドレインをドレインライン１８を介してドレイン
タンク２０へ流下させると共に、塗布部２４の雰囲気を
排気ライン１４を介して排気するようになされた処理液
塗布装置において、上記排気ライン１４の途中にミスト
トラップ２８を設け、上記ドレインタンク２０と上記ミ
ストトラップ２８との間に補助排気ライン３０を設け
る。これにより、塗布部２４の雰囲気を排気ライン１４
のみならずドレインライン１８、ドレインタンク２０及
び補助排気ライン３０を介して排気すると共にドレイン
タンク２０にて十分に気液分離を行う。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、処理液塗布装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】一般に、半導体製造装置の製造工程の一
部の工程において、フォトリソグラフィー技術を用い
て、回路パターンを微細なスケールに縮小してウエハ上
に塗布したフォトレジスト膜に転写し、これを現像して
所定のエッチング処理等を施すことが行われている。こ
の場合、処理装置により、ウエハ上にレジストを回転塗
布したり、或いは、露光後のレジストを現像するために
ウエハ上に現像液を塗布することが行われている。ここ
で、従来の処理液塗布装置としてレジスト塗布装置につ
いて、図８を参照して説明すると、このレジスト塗布装
置２は、スピンモータ４により回転可能に支持された回
転台６を内部に収容したコートカップ８を有しており、
この回転台６に真空チャックしたウエハ１０上に処理液
供給手段１２よりレジストを供給し得るようになってい
る。

【０００３】ウエハ１０上へのレジストの回転塗布に際
しては、発生するミスト状処理液がウエハの表裏に付着
してパーティクル等になって歩留まりの低下の原因とな
るためにコートカップ８の底部には排気ライン１４が接
続されており、内部のミスト含有雰囲気を所定の静圧で
排除すると共に、このライン１４の途中にミストトラッ
プ１６を介設してこれに流入するミストを除去するよう
になっている。また、上記コートカップ８の底部にはド
レインライン１８が接続されており、カップ８内の過剰
な処理液及び洗浄用溶媒等をドレインタンク２０へ排出
するようになっている。更に、上記ドレインライン１８
と排気ライン１４との間にはバイパスライン２２が接続
されており、ドレインライン１８側からも排気を行っ
て、上記カップ８内の雰囲気をその周辺部より均等に排
出しては排気バランスを改良するようになっている。ま
た、他の塗布装置として、実開昭５９−１９５７３３号
公報や実公平１−３７７２９号公報に示すように、排液
を貯める排液タンクから直接排気されるようになされた
構造のものも知られている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記図８に
示すような従来装置にあっては、この装置を長期間使用
したり或いは処理条件によりバイパスライン２２を介し
て処理液の原液やミストが排気ライン１４側に回り込ん
でこれがライン内壁に付着したり或いはミストラップ１
６のメッシュに付着して流路面積を狭めてしまい、この
結果、排気圧が変わることによってウエハの処理条件が
変わってしまい、例えば処理液のスプラッシュバックを
吸引しきれなくてパーティクルの増加及び歩留まりの低
下の原因となっていた。また、この場合、排気ライン１
４にマスフローコントローラ（図示せず）を設けて、こ
の静圧を調整することも行われてはいるが、いずれにし
ても上述のように排気ライン１４が閉塞してくるとマス
フローコントローラによる制御も十分に発揮されなくな
り、上記した問題点を解決し得ない。

【０００５】また、処理液の排気ライン１４側への回り
込みを防止するために、バイパスライン２２を削除する
ことも考えられるが、この場合には、コートカップ８内
の排気バランスがとれなくなって効率的な排気ができな
くなり、その結果、パーティクルが増加して歩留まりが
低下する問題があった。特に、微細化傾向が著しい今日
において、排気バランスを良くしてパーティクルの発生
を抑制することが強く望まれている。また更に、処理液
中に有機系溶媒を使用している場合には、ドレインタン
ク２０内に貯留する有害な溶媒が僅かではあるが周囲に
洩出し、このためドレインタンク２０全体を図示しない
容器で被ってこの内部雰囲気を排気しなければならなか
った。

【０００６】また、上記公報に示す従来装置にあって
は、排気チューブと排液チューブとを完全に共用してい
るために、十分な排気能力を確保できずにスプラッシュ
バックを十分に吸引排除できないという問題点があっ
た。本発明は以上のような問題点に着目し、これを有効
に解決すべく創案されたものである。本発明の目的は、
処理部の排気バランスを良好に維持したままラインの閉
塞を防止することができる処理装置を提供することにあ
る。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は、上記問題点を
解決するために、被処理体に処理液を塗布する塗布部か
らのドレインをドレインラインを介してドレインタンク
へ案内すると共に、前記塗布部内の雰囲気を排気ライン
を介して排気するようになされた処理液塗布装置におい
て、前記排気ラインにミストトラップを設け、該ミスト
トラップと前記ドレインタンクとの間に補助排気ライン
を設け、前記ドレインタンク内の雰囲気を排気するよう
に構成したものである。

【０００８】

【作用】本発明は、以上のように構成したので、塗布部
の過剰な処理液はドレインラインを介してドレインタン
ク内へ流入し、ここで完全に気液分離されて、このタン
ク内の雰囲気は補助排気ライン及びミストトラップを介
して排気ラインに吸引されることになる。このため、排
気ラインには処理液の原液が流入することがなく、しか
も塗布部の雰囲気は排気ラインのみならずドレインライ
ン、ドレインタンク及び補助排気ラインを介して排出さ
れているので排気バランスも良好に維持することが可能
となる。また、ドレインタンク内の雰囲気も直接吸引排
気されるので、安全性を大幅に向上させることができ
る。

【０００９】

【実施例】以下に、本発明に係る処理液塗布装置の一実
施例を添付図面に基づいて詳述する。図１は本発明に係
る処理液塗布装置を示す概略構成図、図２はドレインラ
インの取付部を示す拡大断面図、図３はミストトラップ
を示す斜視図、図４はミストトラップの分解状態を示す
分解図である。図示するように本実施例においては処理
液塗布装置として、例えばレジスト塗布装置２２が示さ
れており処理液としては有機溶媒を含むレジストが使用
される。尚、従来装置と同一部分には同一符号を付す。
このレジスト塗布装置２２は、上方が開放された容器状
のコートカップ８よりなる塗布部２４を有しており、こ
のコートカップ８内にはスピンモータ４により回転可能
に支持された回転台６が収容されている。そして、この
回転台６には被処理体として、例えば半導体ウエハ１０
が真空チャックにより保持されており、この上方に位置
する処理液供給手段１２によりレジストをウエハ表面上
に供給し得るように構成されている。

【００１０】上記コートカップ８の底部には、ドレイン
ガイドブロック２６を介して垂直方向に伸びるドレイン
ライン１８が接続されており、このドレインライン１８
の下端部は、例えば容量１０リットル程度のドレインタ
ンク２０へ接続されており、ウエハ処理に使用されたレ
ジスト液や裏面洗浄用溶媒等の余剰分を貯留するように
なっている。また、上記コートカップ８の底部には、例
えば直径５０ｍｍのステンレス管よりなる排気ライン１
４が接続されると共に、この排気ライン１４の途中に
は、例えばステンレス等により箱状に形成されたミスト
トラップ２８が介設されており、流入する処理液のミス
トを除去するように構成されている。この排気ライン１
４のカップへの取付口は、これに原液が流入することを
防止するためにカップ底部より僅かな距離だけ上方に位
置させて設けられている。

【００１１】そして、上記ドレインタンク２０内と上記
ミストトラップ２８内とは、例えば内径３８ｍｍ、外径
４３ｍｍのステンレス管よりなる本発明の特長とする補
助排気ライン３０により配管接続されており、ドレイン
タンク２０内上部の雰囲気を直接排気すると共に、上記
コートカップ８内の雰囲気もドレインライン１８、ドレ
インタンク２０及び補助排気ライン３０を介して排気し
得るように構成されている。上記ドレインライン１８及
び補助排気ライン３０のドレインタンク２０への取付部
はそれぞれドレインタンク天井板２０ａに並設されてお
り、ジョイントを構成するドレインブロック３２を上下
動させることにより、各ライン１８、３０を天井板２０
ａに対して同時に着脱可能にしている。

【００１２】また、上記排気ライン１４及び補助排気ラ
イン３０は、ミストトラップ２８の天井板２８ａにそれ
ぞれ取付部３４、３６を介して取付けられており、各取
付部３４、３６にはマニュアルダンパ３８、４０が開閉
可能に設けられている。そして、補助排気ライン３０の
上記取付部３６及び排気ライン１４のコートカップ８へ
の取付部８Ａには、それぞれマノメータのような静圧計
４２、４４が設けられており各ラインの静圧を測定し得
るように構成されている。また、このミストトラップ２
８より下流側の排気ライン１４は、例えば工場排気管が
使用されてこの上流側の排気ラインよりも僅かに太く、
例えば管径６５ｍｍ程度に設定されると共に、その途中
にはオートダンパ４６が開閉可能に介設されている。そ
して、このミストトラップ２８内には、上記下流側排気
ライン１４の取付部と上流側排気ライン及び補助排気ラ
イン３０の取付部３４、３６との間をほぼ区画するよう
に、天井板２８ａから鉛直方向に対して角度α、例えば
１５°だけ補助排気ライン取付部３６側に傾斜させると
共に、その下端部を底部よりある程度の距離だけ間隔を
設けてネジ等により仕切板４７が取付け固定してあり、
処理液のミストを効率的に除去し得るように構成されて
いる。尚、この仕切板４７に替えて、例えばメッシュを
設けてミストトラップ２８内を完全に仕切るようにして
もよい。

【００１３】そして、このミストトラップ２８は、図３
及び図４に示すように天井板２８ａとこの下部の箱状の
トラップ本体２８ｂとはその両側に設けたロック機構と
しての、いわゆるパチン錠４８、５０により着脱可能乃
至分解可能に構成されており、メンテナンスの容易化を
図っている。尚、図３及び図４においては仕切板を省略
している。また、このトラップ本体２８ｂの前面パネル
２８ｃには、例えば透明なテフロン板よりなる観察窓５
２が設けられると共に、この前面パネル２８Ｃはその下
部に設けたパチン錠５４及びその上部に設けた一対のロ
ーレットネジ５６、５６により着脱可能に構成されてい
る。一方、前記ドレインライン１８のコートカップ８に
対する取付部は図２に示すように構成されている。すな
わち、コートカップ８の底部のドレイン用開口部５８に
は、上部が拡径された所定の長さのステンレス管よりな
るドレインガイド６０がこれよりも管径が大きい同心状
に配置した環状のドレインガイドブロック６２により固
定されている。そして、このドレインガイドブロック６
２と上記ドレインガイド６０との間に、その上部を僅か
に拡径して段部６４が形成された管状の前記ドレインラ
イン１８が嵌装させて取付けられている。

【００１４】そして、上記段部６４の最内周部には環状
の堰６６が形成されており、この堰６６とドレインライ
ン内壁との間に溶媒流下手段としての環状の溶媒貯留溝
６８を構成している。そして、この貯留溝６８に臨ませ
て、溶媒供給パイプ７０が上記ドレインガイド６２及び
ドレインライン内壁を貫通して設けられており、上記貯
留溝６８内の溶媒をオーバーフローさせてドレインライ
ン内壁に沿って流下し得るように構成されている。

【００１５】次に、以上のように構成された本実施例の
動作について説明する。まず、実際の処理を開始するに
先立って各ラインの静圧などの処理条件を求めるため
に、コートカップ８の上部開口部に図示しない風速計或
いは差圧計等を設け、そして、排気ライン１４及びドレ
インライン１８、補助排気ライン３０を介して排気する
ことによりコートカップ８内の雰囲気をバランス良く排
出する。この状態で或いは排気を停止した状態でウエハ
１０上にレジスト液を供給し、これを回転塗布させる。
この時、コートカップ８の開口部の風速やライン取付部
３６、８Ａに設けた静圧計４２、４４での静圧を種々変
えて回転塗布を行って、例えばウエハ表面のパーティク
ルが０．２μｍ以上で５個以下の範囲及び裏面のパーテ
ィクルが０．２μｍ以上で４個以下の範囲であって、所
定の塗布膜厚プロフィールを有するようなプロセス条件
を求める。このようにして求められたプロセス条件の具
体的数値は、例えばコートカップ８の開口部に設けた風
速計の値が約５ｍ／ｓｅｃであり、各静圧計４２、４４
での値がそれぞれともに約４〜１０ｍｍＨ₂ Ｏとする。

【００１６】このようにしてプロセス条件が決定された
ならば、実際のレジスト塗布処理を行う。まず、レジス
トの回転塗布中に各静圧計４２、４４の値が上記静圧範
囲、約４〜１０ｍｍＨ₂ Ｏの範囲外に逸脱したならば、
アラームを発するようにセットしておく。レジストの塗
布方法には、回転塗布と静止塗布とがあり、一方の回転
塗布はコートカップ８内の排気を行いつつウエハ１０を
回転させた状態でこの表面にレジストを供給して遠心力
により拡散塗布する方法であり、他方の静止塗布はウエ
ハ１０上に液盛りするときにはウエハの回転を停止させ
ておくと共に排気も停止し、その後直ちに排気を開始す
ると共にウエハ１０を回転させて拡散塗布する方法であ
る。まず、前工程にて表面が清浄されたウエハ１０をア
ーム等の搬送手段（図示せず）によりコートカップ８内
の回転台６上に載置し、真空チャックにより保持させ
る。この場合、回転台６はコートカップ８に対して上方
へ相対移動し、ウエハ１０を容易に保持し得るようにな
されている。

【００１７】次に、静止塗布を行う場合には、ミストト
ラップ２８の下流側の排気ライン１４に設けたオートダ
ンパ４６を閉状態としてコートカップ８内の排気を完全
に停止させ、この状態で処理液供給手段１２からウエハ
１０上にレジスト液を所定量、例えば数ｃｃ供給する。
そして、レジスト供給後、直ちに上記オートダンパ４６
を開状態（この時点でマニュアルダンパ３８、４０はと
もに開状態になされている）にしてコートカップ８内の
雰囲気を排気ライン１４及びドレインライン１８、補助
排気ライン３０を介して排気すると共に、スピンモータ
４を駆動することによりウエハ１０を所定の回転数で回
転してレジストを拡散塗布する。また、回転塗布を行う
場合には、予め排気ライン１４のオートダンパ４６及び
マニュアルダンパ３８、補助排気ライン３０のマニュア
ルダンパ４０を全て開状態としてコートカップ８内の雰
囲気を排気すると共に、スピンモータ４を駆動すること
によりウエハ１０を所定の回転数で回転させ、この状態
で処理液供給手段１２よりウエハ１０上にレジストを供
給してこれ拡散塗布する。

【００１８】このようなレジスト塗布時に発生するレジ
ストミストのスプラッシュバックは、その大部分がメイ
ンの排気系である排気ライン１４を介してミストトラッ
プ２８に流入し、ここでミストが仕切板４７の作用によ
り除去されて下流側の排気ライン１４から工場側へ排気
される。また、過剰なレジスト原液は、ドレインライン
１８内を流下すると共に、一部のミストは補助排気ライ
ン３０の作用によりドレインライン１８内を下方に向け
て流れて行く。そして、過剰なレジスト原液はドレイン
タンク２０内に貯留して気液分離されると共にミストは
排気気流に乗ってドレインタンク２０から補助排気ライ
ン３０を介してミストトラップ２８に流入して、ここで
前述と同様にミストが除去される。

【００１９】このようにしてレジストの塗布が終了した
ならば、コートカップ８内に設けた図示しない洗浄器か
ら溶媒、例えばシンナーをウエハ１０の裏面に噴射して
裏面に付着したレジストを洗い流し、その後、ウエハ１
０の表面の周縁部に沿って約２ｍｍ程度の幅で同様に溶
媒を噴射して不要なレジストを洗い流す。この間、コー
トカップ８内の排気は連続して行われて溶媒等のミスト
を排出しており、使用済みの溶媒はドレインライン１８
を流下してドレインタンク２０内に貯留することにな
る。この時、ドレインライン１８の内壁に付着固化した
レジストは、この洗浄用溶媒により溶解されることにな
る。

【００２０】以上のようにして１枚のウエハのレジスト
塗布処理が終了するのであるが、この操作が連続して繰
り返されることになる。このようにドレインタンク２０
とミストトラップ２８とを補助排気ライン３０により接
続してドレインタンク２０内を直接排気するようにした
のでここでレジスト原液と排気気体とをほぼ確実に気液
分離することができ、従って、レジスト原液が排気ライ
ン１４側に流入固化してこの排気ライン１４及びミスト
トラップ２８を閉塞することがなく、排気圧の低下を防
止することが可能となる。特に、ミストトラップ２８内
に仕切板４７に変えてメッシュを設けた場合には、メッ
シュの詰まりを防止することができる。

【００２１】また、コートカップ８内の雰囲気は、排気
ライン１４のみならずドレインライン１８からも排出さ
れるので、排気バランスを良好に維持することができ
る。また、ドレインタンク２０内の雰囲気を、補助排気
ライン３０を介して直接排気するようにしたので、有害
な有機系の溶媒が外部に漏出することを防止することが
可能となる。更に、ミストトラップ２８への排気ライン
１４の取付部３４と補助排気ライン３０の取付部３６と
にそれぞれマニュアルダンパ３８、４０を設けたので、
これらを別個に調整することによりコートカップ８内の
排気調整を容易に行うことが可能となる。また、レジス
ト塗布の連続操作によりミストトラップ２８の内壁、ま
たはこの中の仕切板４７やメッシュ（図示せず）等にミ
ストが付着してくるが、この場合にはその状態を前面パ
ネル２８に設けた透明な観察窓から確認することができ
る。そして、所定量以上のミストの付着が生じたなら
ば、この天井板２８ａとトラップ本体２８ｂとを固定ロ
ックしているパチン錠４８を解除することによりトラッ
プ本体２８ｂを天井板２８ａから分離し、この内部を洗
浄処理する。

【００２２】従って、この天井板２８ａと各ラインとを
分離することなくトラップ本体２８ｂを洗浄することが
でき、メンテナンス作業を容易に行うことができる。ま
た、ミストトラップ２８内のミストによる僅かな汚れに
対しては、トラップ本体２８を取外すまでもなく、前面
パネル２８ｃ側に設けたパチン錠５４及びローレットネ
ジ５６、５６を解除することにより前面パネル２８ｃの
みを取外すことができ、これによりトラップ本体２８ｂ
内の内部の汚れを除去すことが可能となる。また、レジ
スト塗布処理を長期間行わない場合には、図２に示すよ
うにコートカップ８の底部からドレインガイド６２を介
してその先端部からレジスト排液が流下してこれがドレ
インライン１８の内壁に付着して固化残存し、最悪の場
合にはこのライン内を閉塞してしまう。しかしながら、
本実施例においては、ドレインガイドブロック６２に設
けた溶媒供給パイプ７０からこの内部の溶媒貯留溝６８
に溶媒を供給し、この溶媒を堰６６からオーバーフロー
させてドレインライン１８の内壁に沿って流下させて付
着したレジストを溶解除去している。また、溶媒を常
時、溶媒貯留溝６８内に貯留しているので、ドレインラ
イン１８の上端内部とドレインガイド６０の外周部との
空間を溶媒の雰囲気で充満させることができる。この
為、この空間部分におけるレジスト液の付着固化も防止
できる。

【００２３】この流下させるタイミングは、ダミーディ
スペンス操作と同じタイミング、すなわち、例えば３０
分に１回程度の割合で溶媒を流下させる。これにより、
このレジスト塗布装置を使用していない間においても、
ドレインライン内壁にレジストが付着することがなく、
このドレインライン１８を取外して洗浄するなどの煩雑
なメンテナンス作業も軽減される。尚、図２においては
ドレインライン１８の段部６４に堰６６を設けることに
より溶媒流下手段である溶媒貯留溝６８を形成したが、
これに限定されず、例えば多数の噴射孔を有するリング
状のパイプをこの段部６４の位置に設けるようにして溶
媒流下手段を形成するようにしてもよい。

【００２４】また、上記実施例にあっては、ミストトラ
ップ２８の天井板２８ａにコートカップ側の排気ライン
１４、工場側の排気ライン１４及び補助排気ライン３０
を取付けるように構成したが、これに代えて例えば図５
に示すように天井板２８ａには、コートカップ側の排気
ライン１４と補助排気ライン３０を取付け、トラップ本
体２８ｂの側壁に工場側の排気ライン１４を取付けるよ
うにしてもよい。そして、トラップ本体２８ｂ内の工場
側排気ラインの取付口には、例えばそれぞれが異なる大
きさの網目を有する３枚のメッシュ素子よりなるメッシ
ュ８１を設けるようにしてもよい。尚、上記実施例にあ
っては処理装置として有機溶媒を使用するレジスト塗布
装置について説明したが、これに限定されず、他の処理
装置、例えばレジスト露光後にこれを現像するための現
像装置であって、有機溶媒を使用する現像装置にも本発
明を適用することができるのは勿論である。

【００２５】また、現像装置の場合には、ミストトラッ
プを図６及び図７に示すように構成してもよい。例え
ば、処理液としての現像液中には極端な臭気を放つもの
もあり、この臭気が処理カップ（レジスト塗布装置のコ
ートカップに対応する）から外に漏れることを防止して
安全衛生性を向上させる必要のものもある。通常の現像
処理においては、現像液のウエハ上からの流出を防止す
るために何ら排気されていない処理カップ内にウエハを
保持し、このウエハ上に現像液を液盛りしたならばその
状態で所定時間放置し、その後、このウエハを回転して
現像液の振り切りを行うと同時に処理カップ内の排気を
開始し、現像液のスプラッシュバックを排出している。
しかしながら、上述のような極端な臭気を発するような
現像液を使用する場合には、現像時に処理カップから臭
気が外部に洩れる問題があった。

【０００２６】そこで、この問題を解決するためにミス
トトラップを図６に示すように構成する。すなわち、ミ
ストトラップ８４の天井板８４ａに処理カップ（図示せ
ず）からの排気ライン８５及び有機溶媒を使用する場合
にはドレインタンク（図示せず）からの補助排気ライン
８６を接続し、底部水平部８４ｃには途中にマニュアル
ダンパ９２を介設した、例えば管径６５ｍｍの工場側排
気ライン８３を接続している。そして、この工場側排気
ライン８３の取付口の上方にエアーシリンダ８８により
駆動されるオートダンパ９０を設け、ＯＮ／ＯＦＦ動作
により上記工場側排気ライン８３を開閉可能とする。そ
して、上記排気ライン８５及び補助排気ライン８６の取
付部に対向するミストトラップ底部８４ｄは上記底部水
平部８４ｃに向けて下方向に傾斜させて設けてあり、流
下する現像液をその方向へ案内するようになされてお
り、この傾斜底部８４ｄの下端部近傍にはドレイン管９
４を設けて内部に貯留した現像液を排出するようになっ
ている。そして、このドレイン管９４の取付口近傍には
仕切壁９５が形成されており、工場側排気ライン８３の
取付口側へドレインが流れることを阻止している。ま
た、上記傾斜底部８４ｄには、蓋体９６により開閉可能
になされた洗浄等のメンテナンス用の開口部９８が形成
されている。

【００２７】そして、このミストトラップ８４の側壁と
上記工場側排気ライン８３とを連結して、例えば管径３
５ｍｍの塩化ビニル管よりなるバイパス管１００が設け
られており、このバイパス管１００の途中にはこれを開
閉するマニュアルダンパ１０２及びこのバイパス管１０
０内の静圧を測定する静圧計１０４が設けられている。
このような構成においては、まずウエハ上に臭気を放つ
現像液を液盛りして現像処理を行う場合には、エアシリ
ンダ８８によりオートダンパ９０を下げて工場側排気ラ
イン８３の開口部を完全に閉塞すると同時にバイパス管
１００に設けたマニュアルダンパ１０２を開状態にして
僅かながら処理カップ内の雰囲気を吸引排気する。この
ように、現像時に処理カップ内の雰囲気を小流量排気す
るので、臭気が処理カップから外部に洩れず、安全衛生
性を向上させることができる。このようにして、所定時
間の現像処理が終了したならば現像液の振り切り操作を
行うと共に、オートダンパ９０を上げて工場側排気ライ
ン８３を開放し、大流量の排気を行って現像液のスプラ
ッシュバックを排除する。

【００２８】上記現像処理時には、例えばバイパス管１
００内の静圧を例えば０〜５ｍｍＨ₂ Ｏの範囲に維持
し、また、振り切り時においては工場側排気ライン８３
の静圧を例えば１００ｍｍＨ₂ Ｏ程度に設定する。上述
のようにこの実施例においては、現像時に液盛りした現
像液がウエハ上からこぼれ落ちないような僅かな静圧で
排気するようにしたので、この臭気を外部に漏らすこと
なく且つ安定した現像処理を行うことができる。尚、上
記現像装置にあっては、有機溶媒よりなる現像液を使用
する場合について説明したが、これに限定されず、従来
装置、例えば図８に示すとほぼ同様な構成の装置であっ
て有機溶媒を含有しない現像液を使用する場合にも適用
することができる。

【００２９】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば次
のような優れた作用効果を発揮することができる。塗布
部の雰囲気を排気ラインのみならずドレインライン側か
らも排気すると共に、ドレインライン側の排気を十分に
気液分離するようにしたので、排気バランスを良好に維
持しつつ排気ラインやミストトラップにて処理液が付着
することを防止することができ、従って、静圧の減少に
ともなうプロセス条件の変化が生ずることを阻止するこ
とができ、良好な塗布処理を行うことができる。また、
ドレインタンク内を排気する補助排気ラインを排気ライ
ンのミストトラップに接続するようにしたので、メンテ
ナンスを容易に行うことができるのみならず、設備費の
増加も阻止することができる。更に、ドレインタンク内
から直接排気を行うようにしたので、有機溶媒等の有害
ガスが外部に漏出することがなく、安全性を向上させる
ことができる。また、ドレインラインに溶媒流下手段を
設けた場合には、装置不使用時におけるドレインライン
内壁に対する処理液の付着固化を防止することができる
更に、ミストトラップをパチン錠等により分解可能にし
た場合には、このメンテナンスを容易に行うことがで
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る処理液塗布装置を示す概略構成図
である。

【図２】ドレインラインの取付部を示す拡大断面図であ
る。

【図３】ミストトラップを示す斜視図である。

【図４】ミストトラップの分解図状態を示す分解図であ
る。

【図５】ミストトラップの変形例を示す構成図である。

【図６】ミストトラップの他の変形例を示す構成図であ
る。

【図７】図６に示すミストトラップの概略構成図であ
る。

【図８】従来の処理液塗布装置を示す概略構成図であ
る。

【符号の説明】

４スピンモータ６回転台８コートカップ１０半導体ウエハ（被処理体）１２処理液供給手段１４排気ライン１８ドレインライン２０ドレインタンク２２レジスト塗布装置（処理液塗布装置）２４塗布部２６ドレインガイドブロック２８ミストトラップ２８ａ天井板２８ｂトラップ本体３０補助排気ライン３８、４０マニュアルダンパ４２、４４静圧計４６オートダン４７仕切板４８、５０、５４パチン錠５２観察窓６６堰６８溶媒貯留溝（溶媒流下手段）８１メッシュ１００バイパス管

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】被処理体に処理液を塗布する塗布部から
のドレインをドレインラインを介してドレインタンクへ
案内すると共に、前記塗布部内の雰囲気を排気ラインを
介して排気するようになされた処理液塗布装置におい
て、前記排気ラインにミストトラップを設け、該ミスト
トラップと前記ドレインタンクとの間に補助排気ライン
を設け、前記ドレインタンク内の雰囲気を排気するよう
に構成したことを特徴とする処理液塗布装置。
【請求項２】前記ドレインラインは、この内壁に付着
する前記処理液を除去するために、前記ドレインライン
の内壁に沿って溶媒を流下させる溶媒流下手段を有する
ことを特徴とする請求項１記載の処理液塗布装置。
【請求項３】前記排気ラインは、これに流入する前記
処理液のミストを除去するミストトラップを有すると共
に前記ミストトラップは分解可能に構成されていること
を特徴とする請求項１または請求項２記載の処理液塗布
装置。