JP2013004659A - 塗布装置及び塗布方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板を保持する基板保持部と、前記基板保持部に保持された前記基板の第一面に噴霧状の液状体を吐出するノズルと、前記基板保持部に保持された前記基板の外周に前記第一面とは反対の第二面又は前記基板の端部へ向けて気体を噴出する気体噴出部と、前記基板保持部に保持された前記基板に対して前記ノズルから前記液状体が吐出されている状態で、前記気体噴出部に前記気体を噴出させる制御部とを備える。
【選択図】図1
Description
本発明によれば、平坦に形成された液受面を有し基板保持部に保持された状態の基板の第一面と液受面とが面一になるように基板の周囲に設けられたプレートを更に備えるので、基板の周縁部における液状体の塗布状態を向上させることができる。
本発明によれば、基板保持部に保持された基板の外周との間に隙間を空けてプレートが配置されており、気体噴出部には第二面側に配置され隙間に向けられた気体噴出口が設けられるので、当該隙間から第一面側へ気体を噴出させることができる。気体の流れる勢いを強めることができるため、噴霧状の液状体が第二面側に回りこむのをより確実に防ぐことができる。
本発明によれば、プレートが基板を囲うように環状に形成されているので、基板の周縁部の一周に亘って満遍なく液状体の塗布状態を向上させることができる。
本発明によれば、プレートを重力方向に移動させることができるので、基板の保持状態に応じて適切な位置にプレートを配置させることができる。
本発明によれば、基板保持部に保持された基板よりも重力方向の下側に設けられ、プレートに洗浄液を供給する洗浄液ノズルを更に備えるので、基板に洗浄液が付着しないようにプレートを洗浄することができる。
本発明によれば、基板の外周を通過した気体の流れを調整する気流調整部材を更に備えるので、噴霧状の液状体が拡散するのを防ぐことができる。
本発明によれば、気流調整部材が基板保持部に保持された状態の基板及びプレートを囲うように環状に形成されているので、基板からプレートに回り込むように気流を調整することができる。
本発明によれば、気流調整部材がプレートと一体的に設けられているため、気流調整部材をプレートと一体的に移動させることができる。これにより、基板の保持状態に応じて適切な位置に気流調整部材を配置させることができる。
本発明によれば、気流調整部材が、基板の外周を通過した気体が排出口へ向けて流れるように傾けられているため、噴霧状の液状体を気流と共に排出口へ移動させることができる。
図1は、本実施形態に係る塗布装置CTRの構成を示す図である。
図1に示すように、塗布装置CTRは、基板収容装置ACM、塗布ノズルCNZ及び制御部CONTを有している。塗布装置CTRは、基板収容装置ACMに収容される基板Sに対して、塗布ノズルCNZを用いて液状体を塗布する装置である。塗布装置CTRは、水平面に平行な床面に載置されて用いられる。塗布ノズルCNZとしては、例えば噴霧状の液状体を吐出するスプレーノズルが用いられている。
また、壁部22の外周側には、排気部24が設けられている。排気部24は、カップ部20によって囲まれた空間Kの気体を排出すると共に、壁部22の表面に付着した塗布液を流し出す役割をする。なお、排気部24が設けられない構成であっても構わない。排気部24には、トラップ部24a及び24bが設けられている。当該トラップ部24a及び24bにより、排気部24に排出された成分のうち気体成分の少なくとも一部が開口部24cへ送出され、液体成分が開口部24dへ送られる。トラップ部24a及び24bでは、気体成分の一部を液化させる機能をも有している。この場合、液化された成分については、開口部24dへ送られる。なお、排気部24の開口部24cは、吸引部50に接続されている。また、排気部24の開口部24dは、廃液回収部(不図示)又は供給源34へ送られる。
図5に示すように、吸引部50は、配管部50a〜50f、気液分離部51及びオゾン洗浄部52を有する。
図1及び図2に示すように、プレート61は、基板Sの周囲を囲うように円環状に形成されている。プレート61は、平坦に形成された液受面61aを有している。図1に示す状態では、プレート61は、基板保持部10に保持された状態の基板Sの第一面Saと液受面61aとが面一になる第一位置PS1に配置されている。
まず、基板Sを不図示の搬送機構によって基板収容装置ACMに収容する。収容された基板Sは、吸着部11上に載置される。その後、制御部CONTは、吸着部11上に基板Sを吸着させる。
例えば、制御部CONTは、第一ノズル31から回収液を吐出させる際に、図5に示すように、第二ノズル32から回収液Qを吐出させるようにしても構わない。この場合、第二ノズル32が回収液貯留部40の周方向に向けて回収液Qを吐出するので、回収液貯留部40の周方向(反時計回りの方向)に回収液Qの流れを形成することができる。これにより、回収された異物が沈殿して溜まるのを防ぐことができる。
図6は、塗布装置CTRの他の動作例を示す図である。図6に示すように、制御部CONTが、昇降部60に設けられたプレート61を第二位置PS2に配置させ、第一ノズル31から回収液Qを吐出させるようにしても構わない。この場合、回収液Qは、プレート61の液受面61aに供給され、液受面61aが回収液Qによって洗浄される。
図8に示すように、制御部CONTは、洗浄ノズル33を用いて、カップ部20の壁部22や折り返し部22aに向けて洗浄液QRを噴射させる。この動作により、壁部22及び折り返し部22aが洗浄液QRによって洗浄される。
Claims (11)
- 基板を保持する基板保持部と、
前記基板保持部に保持された前記基板の第一面に噴霧状の液状体を吐出するノズルと、
前記基板保持部に保持された前記基板の外周に前記第一面とは反対の第二面又は前記基板の端部へ向けて気体を噴出する気体噴出部と、
前記基板保持部に保持された前記基板に対して前記ノズルから前記液状体が吐出されている状態で、前記気体噴出部に前記気体を噴出させる制御部と
を備える塗布装置。 - 平坦に形成された液受面を有し、前記基板保持部に保持された状態の前記基板の前記第一面と前記液受面とが面一になるように前記基板の周囲に設けられたプレート
を更に備える請求項1に記載の塗布装置。 - 前記プレートは、前記基板保持部に保持された前記基板の前記外周との間に隙間を空けて配置されており、
前記気体噴出部は、前記第二面側に配置され前記隙間に向けられた気体噴出口を有する
請求項2に記載の塗布装置。 - 前記プレートは、前記基板を囲うように環状に形成されている
請求項2又は請求項3に記載の塗布装置。 - 前記プレートを重力方向に移動させる移動部
を更に備える請求項2から請求項4のうちいずれか一項に記載の塗布装置。 - 前記基板保持部に保持された前記基板よりも重力方向の下側に設けられ、前記プレートに洗浄液を供給する洗浄液ノズル
を更に備える請求項2から請求項5のうちいずれか一項に記載の塗布装置。 - 前記基板の外周を通過した前記気体の流れを調整する気流調整部材
を更に備える請求項1から請求項6のうちいずれか一項に記載の塗布装置。 - 平坦に形成された液受面を有し、前記基板保持部に保持された状態の前記基板の前記第一面と前記液受面とが面一になるように前記基板の周囲に設けられたプレート
を更に備え、
前記気流調整部材は、前記基板保持部に保持された状態の前記基板及び前記プレートを囲うように環状に形成されている
請求項7に記載の塗布装置。 - 平坦に形成された液受面を有し、前記基板保持部に保持された状態の前記基板の前記第一面と前記液受面とが面一になるように前記基板の周囲に設けられたプレート
を更に備え、
前記気流調整部材は、前記プレートと一体的に設けられている
請求項7又は請求項8に記載の塗布装置。 - 前記基板の前記外周を通過した前記気体を排出する排気口
を更に備え、
前記気流調整部材は、前記基板の前記外周を通過した前記気体が前記排気口へ向けて流れるように傾けられている
請求項7から請求項9のうちいずれか一項に記載の塗布装置。 - 基板保持部に保持された基板の第一面に噴霧状の液状体を吐出する吐出ステップと、
前記吐出ステップが行われている状態で、前記基板保持部に保持された前記基板の外周に前記第一面とは反対の第二面又は前記基板の端部へ向けて前記気体を噴出する気体噴出ステップと
を含む塗布方法。
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