JP2013000641A - 基板収容装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板収容装置ACMは、基板Sを保持する基板保持部10と、前記基板保持部10に保持された状態の前記基板Sを囲うカップ部20と、前記基板Sと前記カップ部20との間に異物を回収する回収液を供給する回収液供給部30とを備える。
【選択図】図1
Description
本発明によれば、回収液供給部から供給された回収液を貯留する回収液貯留部を更に備えることとしたので、供給された回収液を貯留させることができるので、貯留された状態で異物を回収することができる。
本発明によれば、カップ部が、基板の側部を囲う壁部と、壁部を支持する底部とを有し、回収液貯留部が壁部の一部と底部とを含む部分に設けられているので、当該壁部及び底部において異物を回収することができる。
本発明によれば、第一ノズルから回収液貯留部に向けて回収液が吐出されるため、吐出による回収液の流れを形成することができる。これにより、回収液貯留部に付着する異物を洗い流すことができる。
本発明によれば、第一ノズルが基板保持部に設けられているので、基板保持部から回収液貯留部に回収液が吐出されることになる。これにより、基板保持部から回収液貯留部までの間において異物を洗い流すことができる。
本発明によれば、回収液貯留部が基板の外周に沿って環状に形成されており、回収液供給部が回収液貯留部の周方向に向けて回収液を吐出する第二ノズルを有するので、回収液貯留部の周方向に回収液の流れを形成することができる。これにより、回収された異物が沈殿して溜まるのを防ぐことができる。
本発明によれば、第二ノズルが複数設けられ、複数の第二ノズルが回収液貯留部の周方向に等しいピッチで配置されるので、回収液の流れを回収液貯留部の周方向に均一に形成することができる。
本発明によれば、異物を含んだ回収液を排出部から排出することができるので、装置内から異物を除去することができる。
本発明によれば、カップ部で囲まれた空間を吸引することができるので、カップ部で囲まれた空間から吸引によって気体、回収液や異物などを除去することができる。
本発明によれば、吸引部がカップ部を介して外側に接続された吸引経路を有するので、当該吸引経路を介して回収液や異物などを除去することができる。
本発明によれば、吸引経路に気液分離部が設けられるので、吸引された物質の中から回収液を分離することができる。
本発明によれば、気液分離部に到達して分離された回収液が回収液供給へ送ることができるので、回収液を再利用することができる。
本発明によれば、カップ部が基板の側部を囲う壁部を有し、壁部へ向けて洗浄液を吐出する洗浄液ノズルが設けられるので、壁部を清浄化することができる。
本発明によれば、洗浄液として回収液と同一種類の液体が用いられるので、洗浄液を用いて異物を回収することができる。また、洗浄液及び回収液の供給源を共通化することができる。
本発明によれば、吸着部から基板の周囲に向けて気流を形成することができるので、異物が基板へ向けて飛散してくるのを防ぐことができる。
本発明によれば、基板保持部によって基板の温度を調整することができるので、基板の温度を収容目的に応じた温度に設定することができる。
図1は、本実施形態に係る塗布装置CTRの構成を示す図である。
図1に示すように、塗布装置CTRは、基板収容装置ACM及び塗布ノズルCNZを有している。塗布装置CTRは、基板収容装置ACMに収容される基板Sに対して、塗布ノズルCNZを用いて液状体を塗布する装置である。塗布装置CTRは、水平面に平行な床面に載置されて用いられる。塗布ノズルCNZとしては、例えばスプレーノズルや、スリットノズル、スピンコート用の滴下ノズルなど、種々のノズルを用いることができる。
また、壁部22の外周側には、排気部24が設けられている。排気部24は、カップ部20によって囲まれた空間Kの気体を排出すると共に、壁部22の表面に付着した塗布液を流し出す役割をする。なお、排気部24が設けられない構成であっても構わない。排気部24には、トラップ部24a及び24bが設けられている。当該トラップ部24a及び24bにより、排気部24に排出された成分のうち気体成分の少なくとも一部が開口部24cへ送出され、液体成分が開口部24dへ送られる。トラップ部24a及び24bでは、気体成分の一部を液化させる機能をも有している。この場合、液化された成分については、開口部24dへ送られる。なお、排気部24の開口部24cは、吸引部50に接続されている。また、排気部24の開口部24dは、廃液回収部(不図示)又は供給源34へ送られる。
図5に示すように、吸引部50は、配管部50a〜50f、気液分離部51及びオゾン洗浄部52を有する。
図1及び図2に示すように、プレート61は、基板Sの周囲を囲うように円環状に形成されている。プレート61は、平坦に形成された液受面61aを有している。図1に示す状態では、プレート61は、基板保持部10に保持された状態の基板Sの+Z側の第一面Saと液受面61aとが面一になる第一位置PS1に配置されている。プレート61は、基板保持部10に保持された基板Sの外周との間に隙間を空けて配置されている。なお、気体噴射部13の噴出口13aは、基板Sの−Z側の第二面Sb側から当該隙間に向けられている。
まず、基板Sを不図示の搬送機構によって基板収容装置ACMに収容する。収容された基板Sは、吸着部11上に載置される。その後、制御部CONTは、吸着部11上に基板Sを吸着させる。
例えば、制御部CONTは、第一ノズル31から回収液を吐出させる際に、図5に示すように、第二ノズル32から回収液Qを吐出させるようにしても構わない。この場合、第二ノズル32が回収液貯留部40の周方向に向けて回収液Qを吐出するので、回収液貯留部40の周方向(反時計回りの方向)に回収液Qの流れを形成することができる。これにより、回収された異物が沈殿して溜まるのを防ぐことができる。
図6は、塗布装置CTRの他の動作例を示す図である。図6に示すように、制御部CONTが、昇降部60に設けられたプレート61を第二位置PS2に配置させ、第一ノズル31から回収液Qを吐出させるようにしても構わない。この場合、回収液Qは、プレート61の液受面61aに供給され、液受面61aが回収液Qによって洗浄される。
図8に示すように、制御部CONTは、洗浄ノズル33を用いて、カップ部20の壁部22や折り返し部22aに向けて洗浄液QRを噴射させる。この動作により、壁部22及び折り返し部22aが洗浄液QRによって洗浄される。
また、当該洗浄液が広い範囲に流れるように、例えば壁部22に洗浄液が濡れ広がりやすくなる材料などをコーティングする構成であっても構わない。また、洗浄液が壁部22の内周方向に流れるように、壁部22に凹凸などが形成された構成であっても構わない。また、壁部22の近傍に刷毛などを配置させ、当該刷毛を用いて洗浄液を塗布する構成としても構わない。また、壁部22に紙や布などを配置させ、洗浄液を当該紙や布に浸み込ませることで、洗浄液を広い範囲に濡れ広がらせる構成としても構わない。
Claims (16)
- 基板を保持する基板保持部と、
前記基板保持部に保持された状態の前記基板を囲うカップ部と、
前記基板と前記カップ部との間に異物を回収する回収液を供給する回収液供給部と
を備える基板収容装置。 - 前記回収液供給部から供給された前記回収液を貯留する回収液貯留部を更に備える
請求項1に記載の基板収容装置。 - 前記カップ部は、前記基板の側部を囲う壁部と、前記壁部を支持する底部とを有し、
前記回収液貯留部は、前記壁部の一部と前記底部とを含む部分に設けられている
請求項2に記載の基板収容装置。 - 前記回収液供給部は、前記回収液貯留部に向けて前記回収液を吐出する第一ノズルを有する
請求項2又は請求項3に記載の基板収容装置。 - 前記第一ノズルは、前記基板保持部に設けられている
請求項4に記載の基板収容装置。 - 前記回収液貯留部は、前記基板の外周に沿って環状に形成されており、
前記回収液供給部は、前記回収液貯留部の周方向に向けて前記回収液を吐出する第二ノズルを有する
請求項2から請求項5のうちいずれか一項に記載の基板収容装置。 - 前記第二ノズルは、複数設けられ、
複数の前記第二ノズルは、前記回収液貯留部の周方向に等しいピッチで配置されている
請求項6に記載の基板収容装置。 - 前記回収液貯留部は、前記回収液を排出する排出部を有する
請求項2から請求項7のうちいずれか一項に記載の基板収容装置。 - 前記カップ部で囲まれた空間を吸引する吸引部
を更に備える請求項1から請求項8のうちいずれか一項に記載の基板収容装置。 - 前記吸引部は、前記カップ部を介して外側に接続された吸引経路を有する
請求項9に記載の基板収容装置。 - 前記吸引部は、前記吸引経路に設けられた気液分離部を有する
請求項10に記載の基板収容装置。 - 前記気液分離部に到達して分離された前記回収液を前記回収液供給部へ送る送り部
を更に備える請求項11に記載の基板収容装置。 - 前記カップ部は、前記基板の側部を囲う壁部を有し、
前記壁部へ向けて洗浄液を吐出する洗浄液ノズルを更に備える
請求項1から請求項12のうちいずれか一項に記載の基板収容装置。 - 前記洗浄液として、前記回収液と同一種類の液体が用いられる
請求項13に記載の基板収容装置。 - 前記基板保持部は、前記基板の裏面を吸着する吸着部を有し、
前記吸着部は、前記基板の周囲に向けて気体を噴射する気体噴射部を有する
請求項1から請求項14のうちいずれか一項に記載の基板収容装置。 - 前記基板保持部は、前記基板の温度を調整する温調部を有する
請求項1から請求項15のうちいずれか一項に記載の基板収容装置。
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