JP6164826B2 - 洗浄装置 - Google Patents
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- B08B3/02—Cleaning by the force of jets or sprays
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Description
ここで、異なる大きさの網目を持つネット35によって洗浄処理を実施したところ、表1に示すような結果が得られた。ここでは、ネット35の一例として、大日本プラスチックス株式会社製のネトロン(登録商標)とタキロン株式会社製のトリカルネット(登録商標)を使用した。ネトロン及びトリカルネットは、高密度ポリエチレンを主原料とするプラスチック材料を網目状に成形したプラスチックネットである。また実験では、ネトロンは呼称D6の1種類、トリカルネットは呼称N−2、N−3、N−9の3種類を使用して実験した。
2 ケース
3 テーブルカバー
4 保持テーブル
5 洗浄ノズル
6 モータ
17 洗浄水の膜
25 排水口
31 底板
32 側板
33 穴
35 ネット
W 板状ワーク
Claims (1)
- 板状ワークを保持する保持テーブルと、該保持テーブルの中心を軸に回転させるモータと、該保持テーブルが保持する板状ワークを洗浄する流体を噴出させる洗浄ノズルと、該保持テーブルの下面を囲繞するテーブルカバーと、を少なくとも備えた洗浄装置であって、
該テーブルカバーは、該保持テーブルの下部周囲を囲い複数の穴を備えた底板と、該底板に連結され該底板の外周から垂直方向に立ち上がる側板と、からなる箱形状で形成され、該底板の上に網目でシート状のネットを敷設させ、
洗浄中に発生した噴霧を該ネットの網目で捕捉させて、該底板と該ネットの間に噴霧が溜まる洗浄装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012266185A JP6164826B2 (ja) | 2012-12-05 | 2012-12-05 | 洗浄装置 |
CN201310627856.7A CN103846243B (zh) | 2012-12-05 | 2013-11-29 | 清洗装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012266185A JP6164826B2 (ja) | 2012-12-05 | 2012-12-05 | 洗浄装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014112588A JP2014112588A (ja) | 2014-06-19 |
JP6164826B2 true JP6164826B2 (ja) | 2017-07-19 |
Family
ID=50854630
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012266185A Active JP6164826B2 (ja) | 2012-12-05 | 2012-12-05 | 洗浄装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6164826B2 (ja) |
CN (1) | CN103846243B (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI667081B (zh) * | 2018-05-10 | 2019-08-01 | 弘塑科技股份有限公司 | 清洗裝置及方法 |
CN109622469A (zh) * | 2018-12-05 | 2019-04-16 | 贵州盘江矿山机械有限公司 | 一种用于综采液压支架冲洗的平台 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60161767A (ja) * | 1984-01-31 | 1985-08-23 | Nec Corp | 自動回転塗布機 |
JP3377121B2 (ja) * | 1994-01-18 | 2003-02-17 | 株式会社ディスコ | スピンナー洗浄装置 |
JP2001068402A (ja) * | 1999-08-31 | 2001-03-16 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
US20040224524A1 (en) * | 2003-05-09 | 2004-11-11 | Applied Materials, Inc. | Maintaining the dimensions of features being etched on a lithographic mask |
JP4803592B2 (ja) * | 2006-06-16 | 2011-10-26 | 東京エレクトロン株式会社 | 液処理装置および液処理方法 |
KR100901495B1 (ko) * | 2007-10-11 | 2009-06-08 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 및 그 세정 방법 |
JP5006274B2 (ja) * | 2008-06-25 | 2012-08-22 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置 |
JP5461236B2 (ja) * | 2010-02-26 | 2014-04-02 | 株式会社高田工業所 | 半導体基板の処理装置 |
KR101172591B1 (ko) * | 2010-05-11 | 2012-08-08 | 주식회사 케이씨텍 | 화학 기계식 연마 시스템의 기판의 헹굼 건조 장치 |
CN202238724U (zh) * | 2011-10-11 | 2012-05-30 | 大久制作(大连)有限公司 | 防溅液自动基板清洗机 |
-
2012
- 2012-12-05 JP JP2012266185A patent/JP6164826B2/ja active Active
-
2013
- 2013-11-29 CN CN201310627856.7A patent/CN103846243B/zh active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2014112588A (ja) | 2014-06-19 |
CN103846243B (zh) | 2018-06-01 |
CN103846243A (zh) | 2014-06-11 |
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