KR101460272B1 - 노즐 어셈블리 및 이를 포함하는 기판 처리 장치, 그리고 이를 이용한 기판 처리 방법 - Google Patents

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Abstract

기판 처리 장치가 개시된다. 기판 처리 장치는 기판을 지지하며, 회전 가능한 척; 상기 척을 감싸며, 기판의 회전으로 비산되는 약액을 회수하는 용기; 스프레이 방식으로 상기 약액을 기판으로 분사하는 제1스프레이 노즐을 포함하며, 선단에 상기 제1스프레이 노즐이 장착되는 암; 및 상기 제1스프레이 노즐과 함께 상기 암의 선단에 장착되며, 상기 약액을 스프레이 방식으로 기판으로 분사하는 제2스프레이 노즐을 포함하되, 상기 제1스프레이 노즐과 상기 제2스프레이 노즐은 약액의 토출 라인이 서로 겹치지 않게 다른 직선상에 놓이도록 엇갈려 배치된다.

Description

노즐 어셈블리 및 이를 포함하는 기판 처리 장치, 그리고 이를 이용한 기판 처리 방법{NOZZLE ASSEMBLY, SUBSTRATE TREATING APPARATUS INCLUDING THE ASSEMBLY, AND SUBSTRATE TREATING METHOD USING THE ASSEMBLY}
본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 노즐을 포함하는 기판 처리 장치에 관한 것이다.
일반적으로 평판 표시 소자 제조나 반도체 제조 공정에서 유리 기판이나 웨이퍼를 처리하는 공정에는 감광액 도포 공정(photoresist coating process), 현상 공정(developing process), 식각 공정(etching process), 애싱 공정(ashing process) 등 다양한 공정이 수행된다.
각 공정에는 기판에 부착된 각종 오염물을 제거하기 위해, 약액(chemical) 또는 순수(deionized water)를 이용한 세정 공정(wet cleaning process)과 기판 표면에 잔류하는 약액 또는 순수를 건조시키기 위한 건조(drying process) 공정이 수행된다.
한국 공개특허 제10-2011-0116471호에는 세정 장치가 개시된다. 세정 장치는 세정을 위해 세정액을 공급하는 세정액 공급 노즐과, 건조를 위해 유기 용제를 공급하는 유기용제 분사 노즐과 건조 가스를 분사하는 건조 가스 분사 노즐을 포함한다.
세정액은 액상으로 기판으로 제공되며, 화학반응으로 기판상에 도포된 막을 제거한다. 상술한 기술에 의할 경우, 세정액 사용량이 많아 공정 처리 비용이 증가한다. 그리고 에칭 공정으로 포토레지스트막에 형성된 크러스터 레이어(crust laywer) 제거가 용이하지 않다.
한국 공개특허 제10-2011-0116471호
본 발명은 약액 사용으로 인한 공정 처리 비용을 절감할 수 있는 기판 처리 장치를 제공한다.
또한, 본 발명은 기판상에 도포된 막을 효과적으로 제거할 수 있는 기판 처리 장치를 제공한다.
또한, 본 발명은 약액 재사용률을 향상시킬 수 있는 기판 처리 장치가 제공된다.
본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치는 기판을 지지하며, 회전 가능한 척; 상기 척을 감싸며, 기판의 회전으로 비산되는 약액을 회수하는 용기; 및 스프레이 방식으로 약액을 기판으로 분사하는 제1스프레이 노즐을 포함한다.
또한, 선단에 상기 제1스프레이 노즐이 장착되는 암; 및 상기 제1스프레이 노즐과 함께 상기 암의 선단에 장착되며, 상기 약액과 동일한 약액을 스프레이 방식으로 기판으로 분사하는 제2스프레이 노즐을 더 포함할 수 있다.
또한, 상기 제1스프레이 노즐과 상기 제2스프레이 노즐은 약액의 토출 라인이 동일 직선상에 놓이도록 일직선상에 배치될 수 있다.
또한, 상기 제1스프레이 노즐과 상기 제2스프레이 노즐은 약액의 토출 라인이 서로 다른 직선상에 놓이도록 엇갈려 배치될 수 있다.
또한, 상기 제1스프레이 노즐은 기판의 반경에 상응하거나 그보다 작은 토출 영역으로 약액을 분사할 수 있다.
또한, 상기 제1스프레이 노즐은 기판으로 분사되는 약액의 입사각이 기판의 상면과 수직하게 되도록 배치될 수 있다.
또한, 상기 제1스프레인 노즐은 기판으로 분사되는 약액의 입사각이 기판의 상면과 예각을 이루도록 비스듬히 경사지게 배치될 수 있다.
또한, 상기 약액과 동일한 약액을 액상으로 기판으로 토출하는 스윙 노즐; 및 약액이 토출되는 동안 상기 스윙 노즐을 기판의 상부에서 스윙 이동시키는 스윙 노즐 구동부를 더 포함할 수 있다.
또한, 상기 용기는 상기 척을 감싸며, 링 형상의 제1유입구를 형성하는 제1회수통; 및 상기 제2회수통을 감싸며, 상기 제1유입구의 상부에 링 형상의 제2유입구를 형성하는 제2회수통을 가지고, 상기 제1회수통과 연결되며, 상기 제1회수통으로 유입된 약액을 재사용을 위해 회수되는 회수 라인; 상기 제2회수통과 연결되며, 상기 제2회수통으로 유입된 약액을 폐기하는 폐액 라인; 상기 제1스프레이 노즐에서 분사된 약액이 상기 제1유입구로 유입되고, 상기 스윙 노즐에서 분사된 약액이 제2유입구로 유입되도록 상기 척과 상기 용기 중 어느 하나를 승강시키는 제어부를 더 포함할 수 있다.
또한, 상기 용기 내부에 발생된 흄을 흡입하여 외부로 배기하는 배기관을 더 포함하되, 상기 배기관의 흡입 압력은 상기 스윙 노즐에서 약액을 분사하는 공정보다 상기 스프레이 노즐에서 약액을 분사하는 공정에서 더 클 수 있다.
또한, 상기 용기의 외측에 위치하며, 상기 스프레이 노즐이 기판으로 약액을 토출하기 전 약액이 예비 토출되는 프리 디스펜스부를 더 포함하되, 상기 프리 디스펜스부는 내부에 공간이 형성되며, 상부벽에 상기 스프레이 노즐이 삽입되는 홀이 형성된 하우징; 상기 하우징의 내부에 제공되며, 분사된 약액의 타력을 분산시키는 메쉬; 상기 하우징의 내부로 토출된 약액을 외부로 배출하는 배출 라인; 및 상기 하우징의 내부에 머무르는 약액의 미세 입자를 외부로 배기시키는 배기 포트를 포함할 수 있다.
본 발명에 따른 기판 처리 방법은 회전하는 기판의 상부에서 스윙 노즐이 스윙 이동하며 약액을 액상으로 토출하는 제1차 스트립 단계; 회전하는 기판의 상부에서 스프레이 노즐이 상기 약액과 동일한 약액을 스프레이 방식으로 1차 분사하는 제2차 스트립 단계; 및 회전하는 기판으로 순수를 공급하여 기판에 잔류하는 약액을 제거하는 세정 단계를 포함한다.
또한, 상기 제2차 스트립 단계 후, 회전하는 기판의 상부에서 상기 스프레이 노즐이 상기 약액과 동일한 약액을 스프레이 방식으로 2차 분사하는 제3차 스트립 단계를 더 포함하되, 상기 제3차 스트립 단계에서 기판의 회전 속도는 상기 제2차 스트립 단계보다 빠를 수 있다.
또한, 상기 스프레이 노즐이 상기 기판으로 약액을 분사하기 전, 프리 디스펜스부에서 약액을 일정량 예비 분사하는 프리 디스펜스 단계를 더 포함할 수 있다.
또한, 상기 척을 감싸는 용기는 링 형상의 제1유입구와, 상기 제1유입구의 상부에 형성된 링 형상의 제2유입구를 가지며, 상기 제1차 스트립 단계에서 기판으로 토출된 약액은 상기 제2유입구로 유입되고, 상기 제2차 스트립 단계에서 기판으로 분사된 약액은 제1유입구로 유입되며, 상기 제1유입구로 유입된 약액은 회수 라인을 통해 회수되고, 상기 제2유입구로 유입된 약액은 폐액 라인을 통해 폐기될 수 있다.
또한, 상기 용기에 연결된 배기관이 상기 용기 내부에 발생된 미스트를 흡입하여 외부로 배기하되, 상기 배기관의 흡입 압력은 상기 제2차 스트립 단계보다 상기 제1차 스트립 단계에서 더 클 수 있다.
또한, 상기 스프레이 노즐은 그 길이방향이 기판의 상면에 수직하게 배치되어 약액을 분사할 수 있다.
또한, 상기 스프레이 노즐은 그 길이방향이 상하방향에 대해 비스듬히 경사지게 배치되어 약액을 분사할 수 있다.
또한, 상기 스프레이 노즐은 하나의 암에 장착되는 제1스프레이 노즐과 제2스프레이 노즐을 가지며, 상기 제1스프레이 노즐과 상기 제2스프레이 노즐은 약액의 토출 라인이 동일 직선상에 놓이도록 약액을 분사할 수 있다.
또한, 상기 스프레이 노즐은 하나의 암에 장착되는 제1스프레이 노즐과 제2스프레이 노즐을 가지며, 상기 제1스프레이 노즐과 상기 제2스프레이 노즐은 약액의 토출 라인이 서로 다른 직선상에 놓이도록 약액을 분사할 수 있다.
본 발명의 실시예에 따른 노즐 어셈블리는 액상의 약액을 기판으로 공급하는 스윙 노즐; 선단에 상기 스윙 노즐이 장착되며, 상기 스윙 노즐을 스윙 이동시키는 스윙 노즐 암; 상기 액상과 동일한 약액을 스프레이 방식으로 기판으로 공급하는 스프레이 노즐; 및 선단에 상기 스프레이 노즐이 장착되는 스프레이 노즐 암을 포함한다.
또한, 상기 스프레이 노즐은 상기 스프레이 노즐 암의 선단에 장착되는 제1 및 제2 스프레이 노즐을 가지며, 상기 제1스프레이 노즐과 상기 제2스프레이 노즐은 약액의 분사 영역이 겹치지 않도록 배치될 수 있다.
또한, 상기 스프레이 노즐은 약액의 토출라인이 기판 상면에 수직하도록 배치될 수 있다.
또한, 상기 스프레이 노즐은 약액의 토출라인이 기판 상면과 예각을 이루도록 비스듬히 경사지게 배치될 수 있다.
본 발명에 의하면, 액상으로 약액이 1차 공급되고, 스프레이 방식으로 약액이 2차 공급되어 포토레지스트막을 제거하므로, 약액 공급량이 감소된다.
또한, 본 발명에 의하면, 약액과의 화학반응, 기판의 회전력, 그리고 스프레이 방식으로 분사된 미세 입자의 타력으로 잔류막이 효과적으로 제거된다.
또한, 본 발명에 의하면, 포토레지스트막의 1차 제거에 사용된 약액과 2차 제거에 사용된 약액이 분리 회수되므로, 약액 재사용률이 향상된다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치를 나타내는 평면도이다.
도 2는 도 1의 실시예에 따른 기판 처리 장치를 간략하게 나타내는 단면도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 스프레이 노즐의 배치를 나타내는 도면이다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 스프레이 노즐의 배치를 나타내는 도면이다.
도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 스프레이 노즐을 나타내는 도면이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따라 제1 및 제2스프레이 노즐이 배치되는 모습을 나타내는 도면이다.
도 7은 도 6의 노즐로부터 분사된 약액이 기판상에 형성하는 토출 라인을 나타내는 도면이다.
도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따라 제1 및 제2스프레이 노즐이 배치되는 모습을 나타내는 도면이다.
도 9는 도 9의 노즐로부터 분사된 약액이 기판상에 형성하는 토출 라인을 나타내는 도면이다.
도 10은 본 발명의 또 다른 실시예에 따라 제1 및 제2스프레이 노즐이 배치되는 모습을 나타내는 도면이다.
도 11는 도 10의 노즐로부터 분사된 약액이 기판상에 형성하는 토출 라인을 나타내는 도면이다.
도 12는 도 1의 프리 디스펜스부를 나타내는 단면도이다.
도 13은 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 방법을 나타내는 표이다.
도 14는 본 발명의 실시예에 따른 제1차 스트립 단계를 나타내는 도면이다.
도 15는 본 발명의 실시예에 따른 제2차 스트립 공정을 나타내는 도면이다.
이하, 본 발명의 실시 예를 첨부된 도면들을 참조하여 더욱 상세히 설명한다. 본 발명의 실시 예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래의 실시 예들로 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시 예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해 과장되었다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치를 나타내는 평면도고, 도 2는 도 1의 실시예에 따른 기판 처리 장치를 간략하게 나타내는 단면도이다.
도 1 및 도 2를 참조하며, 기판 처리 장치(1)는 기판 세정 공정에 제공된다. 세정 공정은 애싱 공정이 완료된 기판을 세정할 수 있다. 기판 처리 장치(10)는 지지 부재(100), 약액 회수 부재(200), 약액 공급 부재(300), 순수 공급 부재(400), 그리고 건조 가스 공급부재(500)를 포함한다.
지지 부재(100)는 공정 처리에 제공된 기판(W)을 지지하고, 약액 회수 부재(200)는 기판(W)의 회전으로 비산하는 약액을 회수한다. 약액 공급 부재(300)는 기판(W)으로 약액을 공급하고, 순수 공급 부재(400)는 순수(DI Water)를 공급하여 기판(W)에 잔류하는 약액을 제거한다. 건조 가스 공급부재(500)는 건조 가스를 공급하여 기판(W)을 건조한다. 이하, 각 구성에 대해 상세하게 설명한다.
지지 부재(100)는 기판(W)을 지지한다. 지지 부재(100)는 척(110), 지지핀(120), 척킹핀(130), 지지축(140), 그리고 지지축 구동기(150)를 포함한다.
척(110)은 소정 두께를 갖는 원형 판으로, 기판(W)보다 큰 반경을 가진다. 척(110)의 상면은 하면보다 큰 직경을 가지며, 측면은 상면에서 하면으로 갈수로 점차 직경이 작아지도록 경사진다.
척(110)의 상면에는 지지핀(120)과 척킹핀(130)이 제공된다. 지지핀(120)은 척(110)의 상면으로부터 상부로 돌출되며, 상단에 기판(W)이 놓인다. 지지핀(120)은 복수 개 제공되며, 척(110)의 상면에 서로 이격하여 배치된다. 지지핀(120)은 적어도 3개 이상 제공되며, 기판(W)의 서로 다른 영역을 지지한다.
척킹핀(130)은 척(110)의 상면으로부터 상부로 돌출되며, 기판(W)의 측부를 지지한다. 척킹핀(130)은 복수 개 제공되며, 척(110)의 가장자리영역을 따라 링 형상으로 배치된다. 척킹핀(130)들은 척(110)이 회전할 때 원심력에 의해 기판(W)이 척(110)의 측방향으로 이탈되는 것을 방지한다. 척킹핀(130)들은 척(110)의 반경 방향을 따라 직선 이동할 수 있다. 척킹핀(130)들은 기판(W)의 로딩 또는 언로딩시 척(110)의 중심에서 멀어지는 방향으로 직선이동하고, 기판(W)의 척킹시 척(110)의 중심방향으로 직선이동하여 기판(W)의 측부를 지지한다.
지지축(140)은 척(110)의 하부에서 척(110)을 지지한다. 지지축(140)은 중공 축(hollow shaft)으로, 회전력을 척(110)에 전달한다. 지지축(140)의 하단에는 지지축 구동기(150)가 제공된다. 지지축 구동기(150)는 지지축(140)과 척(110)을 회전시키는 회전력을 발생시킨다. 지지축 구동기(150)는 척(110)의 회전 속도를 조절할 수 있다.
약액 회수 부재(200)는 기판(W)으로 공급된 약액을 회수한다. 약액 회수 부재(200)는 용기(210), 회수 라인(261), 폐액 라인(265), 승강부(271) 그리고 배기관(275)를 포함한다.
용기(210)는 기판(W)의 회전으로 비산되는 약액이 외부로 튀거나 공정시 발생한 흄이 외부로 유출되는 것을 방지한다. 용기(210)는 상부가 개방되고, 내부에 척(110)이 위치할 수 있는 공간이 형성된다.
용기(210)는 공정 단계에 따라 기판으로 공급된 액들을 분리하여 회수할 수 있는 회수통(211, 212, 213)들을 가진다. 실시예에 의하면, 회수통(211, 212, 213)들은 3개 제공되며, 각 회수통을 제1회수통(211), 제2회수통(212), 그리고 제3회수통(213)이라 칭한다.
제1 내지 제3회수통(211, 212, 213)은 환형 통으로, 제1회수통(211)은 척(110)의 둘레를 감싸고, 제2회수통(212)은 제1회수통(211)의 둘레를 감싸고, 제3회수통(213)은 제2회수통(212)의 둘레를 감싼다. 용기(210)에는 상술한 제1 내지 제3회수통(211, 212, 213)의 배치로 유입구(221, 222, 223)들이 형성된다. 유입구(221, 222, 223)들은 링 형상으로 척(110)의 둘레를 따라 제공된다. 제1회수통(211)은 제1유입구(221)를 형성한다. 제2회수통(212)은 제1유입구(221)의 상부에 제2유입구(222)를 형성한다. 그리고 제3회수통(213)은 제2유입구(222)의 상부에 제3유입구(223)를 형성한다. 기판(W)의 회전으로 비산하는 약액은 유입구(221, 222, 223)들 중 어느 하나로 유입되고, 회수통(211, 212, 213)들에 회수된다.
회수통(211, 212, 213)들의 바닥벽에는 배출관(225, 226, 227)이 제공된다. 배출관(225, 226, 227)은 끝단이 회수통(211, 212, 213)의 바닥벽과 동일 높이에 위치하며, 회수통(211, 212, 213)에 회수된 약액이 외부로 배출되는 통로로 제공된다. 제1회수통(211)에는 제1배출관(225)이 제공되고, 제2회수통(212)에는 제2배출관(226)이 제공되고, 제3회수통(213)에는 제3배출관(227)이 제공된다.
제3회수통(213)의 바닥벽에는 배기관(275)이 추가 제공된다. 배기관(275)은 끝단이 제3회수통(213)의 바닥벽보다 높게 위치한다. 배기관(275)은 용기(210) 내에 발생한 흄이 외부로 배기되는 통로로 제공된다. 배기관(275)은 배기 라인(276)을 통해 펌프(277)와 연결된다. 펌프(277)는 배기관(275)에 진공압을 인가한다. 펌프(277)에서 인가되는 진공압은 공정 단계에 따라 상이할 수 있다. 이로 인해, 배기관(275)이 흄을 흡입하는 흡입 압력이 달라진다.
회수 라인(261)은 제1배출관(225)과 회수 탱크(262)를 연결한다. 제1배출관(225)으로 유입된 약액은 회수 라인(261)을 거쳐 회수 탱크(262)에 저장된다. 회수 탱크(262)에 저장된 약액을 재생 과정을 거쳐 공정에 재사용된다.
폐액 라인(265)은 제2배출관(226)과 폐액 탱크(266)를 연결한다. 제2배출관(226)으로 유입된 약액은 폐액 라인(265)을 거쳐 폐액 탱크(266)에 저장된다. 폐액 탱크(266)에 저장된 약액은 재사용되지 않고 폐기된다.
승강부(271)는 용기(210)에 대한 척(110)의 상대 높이가 조절되도록 용기(210)를 상하방향으로 이동시킨다. 승강부(271)는 기판(W)이 척(110)에 로딩되거나, 척(110)으로부터 기판(W)이 언로딩될 때 척(110)이 용기(210)의 상부로 돌출되도록 용기(210)를 하강시킨다. 그리고 공정 진행 시, 공정 단계에 따라 약액이 분리되어 유입구(221, 222, 223)들 중 어느 하나에 유입되도록 용기(210)를 승강시킨다. 승강기(271)는 기판(W)이 유입구(221, 222, 223)들 중 어느 하나에 대응하는 높이에 위치하도록 용기(210)를 승강시킨다.
약액 공급 부재(300)는 기판(W)으로 약액을 공급한다. 약액 공급 부재(300)는 스윙 노즐(311), 스윙 노즐 암(313), 스윙 노즐 지지 로드(315), 스윙 노즐 구동기(317), 스프레이 노즐(321), 스프레이 노즐 암(323), 스프레이 노즐 지지 로드(325), 스프레이 노즐 구동기(327), 약액 공급 라인(331), 약액 저장 탱크(333), 그리고 프리 디스펜스부(pre-dispense part, 340)를 포함한다.
스윙 노즐(311)은 약액을 액상으로 토출한다. 스윙 노즐(311)의 저면에는 토출구가 형성된다. 스윙 노즐 암(313)은 일 방향으로 길이가 길게 제공되는 암으로, 선단에 스윙 노즐(311)이 장착된다. 스윙 노즐 암(313)은 스윙 노즐(311)을 지지한다. 스윙 노즐 암(313)의 후단에는 스윙 노즐 지지 로드(315)가 장착된다. 스윙 노즐 지지 로드(315)는 스윙 노즐 암(313)의 하부에 위치하며, 스윙 노즐 암(313)에 수직하게 배치된다.
스윙 노즐 구동기(317)는 스윙 노즐 지지 로드(315)의 하단에 제공된다. 스윙 노즐 구동기(317)는 스윙 노즐 지지 로드(315)의 길이 방향 축을 중심으로 스윙 노즐 지지 로드(315)를 회전시킨다. 스윙 노즐 지지 로드(315)의 회전으로 스윙 노즐 암(313)과 스윙 노즐(311)이 스윙 노즐 지지 로드(315)를 축으로 스윙 이동한다. 스윙 노즐(311)은 용기(210)의 외측과 내측 사이를 스윙 이동할 수 있다. 그리고, 스윙 노즐(311)은 기판(W)의 중심과 가장 자리영역 사이 구간을 스윙이동하며 약액을 토출할 수 있다.
스프레이 노즐(321)은 스프레이 방식으로 약액을 분사한다. 약액 공급 라인(322)을 통해 약액이 토출구로 공급되고, 토출구에서 분사된 약액은 공기 중에서 미세 입자로 넓게 퍼져나간다. 분사된 약액은 기판(W)의 반경에 상응하거나 그보다 작은 토출 영역으로 퍼져나갈 수 있다. 스프레이 노즐(321)에 공급되는 약액은 유량 제어가 가능하며, 토출구까지 독립된 유로를 유지한다. 스프레이 노즐(321)은 약액 분사 후 컷 오프(cut off) 기능이 확실히 유지되어 기판(W)으로 약액 드롭(drop)이 발생되지 않는다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 스프레이 노즐의 배치를 나타내는 도면이다.
도 3을 참조하면, 스프레이 노즐(321)은 기판(W)의 상면에 수직하게 세워져 약액(L)을 분사한다. 약액의 입사각은 기판(W)의 상면과 수직하게 되도록 배치된다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 스프레이 노즐의 배치를 나타내는 도면이다.
도 4를 참조하면, 스프레이 노즐(321)은 상부에서 바라볼 때 웨이퍼의 회전 방향에 대해 접선 방향으로, 웨이퍼의 상부에 배치될 수 있다. 이때 스프레이 노즐(321)은 웨이퍼의 회전방향에 대해 하향 경사지게 배치될 수 있다. 스프레이 노즐(321)은 그 길이방향이 기판(W)의 상면과 예각(θ)을 이루며, 분사되는 약액의 입사각은 기판(W)의 상면과 예각을 이룬다.
다시 도 2를 참조하면, 스프레이 노즐 암(323)은 일 방향으로 길이가 길게 제공되는 암으로, 선단에 스프레이 노즐(321)이 장착된다. 스프레이 노즐 암(323)은 스프레이 노즐(321)을 지지한다. 스프레이 노즐 암(323)의 후단에는 스프레이 노즐 지지 로드(325)가 장착된다. 스프레이 노즐 지지 로드(325)는 스프레이 노즐 암(323)의 하부에 위치하며, 스프레이 노즐 암(323)에 수직하게 배치된다.
스프레이 노즐 구동기(327)는 스프레이 노즐 지지 로드(325)의 하단에 제공된다. 스프레이 노즐 구동기(327)는 스프레이 노즐 지지 로드(325)의 길이 방향 축을 중심으로 스프레이 노즐 지지 로드(325)를 회전시킨다. 스프레이 노즐 지지 로드(325)의 회전으로, 스프레이 노즐 암(323)과 스프레이 노즐(321)은 스프레이 노즐 지지 로드(325)를 축으로 스윙 이동한다. 스프레이 노즐(321)은 용기(210)의 외측과 내측 사이를 스윙 이동할 수 있다.
도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 스프레이 노즐을 나타내는 도면이다.
도 5를 참조하면, 스프레이 노즐 암(323)의 선단에는 2개의 스프레이 노즐(321a, 321b)이 장착된다. 제1스프레이 노즐(321a)과 제2스프레이 노즐(321b)은 연결 로드(329)에 양단에 지지되며, 서로 나란하게 배치된다. 제1스프레이 노즐(321a)은 제1공급 라인(322a)으로부터 약액(L1)이 공급되고, 제2스프레이 노즐(321b)은 제2공급 라인(322b)으로부터 약액(L2)이 공급된다. 제1스프레이 노즐(321a)과 제2스프레이 노즐(321b)의 토출구에서는 각각 스프레이 방식으로 약액(L1, L2)이 분사된다. 제1스프레이 노즐(321a)과 제2스프레이 노즐(321b)은 독립된 유로를 통해 약액(L1, L2)이 토출구까지 공급되므로 약액 분사 후 컷 오프 기능이 확실히 유지된다. 이는 약액 분사 후 약액이 기판(W)으로 드롭되는 것을 방지한다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따라 제1 및 제2스프레이 노즐이 배치되는 모습을 나타내고, 도 7은 도 6의 노즐로부터 분사된 약액이 기판상에 형성하는 토출 라인을 나타내는 도면이다.
도 6 및 도 7을 참조하면, 제1스프레이 노즐(321a)과 제2스프레이 노즐(321b)은 약액 토출 라인(L1, L2)이 서로 다른 직선상에 놓이도록 엇갈려 배치된다. 제1스프레이 노즐(321a)은 기판(W)의 중심에 인접하여 약액 토출 라인(L1)을 형성하고, 제2스프레이 노즐(321b)은 기판(W)의 가장자리에 인접하여 약액 토출 라인(L2)을 형성한다.
제1스프레이 노즐(321a)에서 형성되는 약액 토출 라인(L1)과 제2스프레이 노즐(321b)에서 형성되는 약액 토출 라인(L2)은 나란하게 배치될 수 있다. 노즐(321a, 321b)들에서 스프레이 방식으로 분사된 약액은 약액 토출 라인(L1, L2)의 길이방향으로 퍼져나가므로, 노즐(321a, 321b)들의 길이보다 큰 폭으로 기판(W)에 공급된다. 제1스프레이 노즐(321a)과 제2스프레이 노즐(321b)은 서로 다른 직선상에서 엇갈려 배치되므로, 약액 토출 라인(L1, L2)이 겹치지 않을 수 있다.
도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따라 제1 및 제2스프레이 노즐이 배치되는 모습을 나타내고, 도 9는 도 9의 노즐로부터 분사된 약액이 기판상에 형성하는 토출 라인을 나타내는 도면이다.
도 8 및 도 9를 참조하면, 제1스프레이 노즐(321a)과 제2스프레이 노즐(321b)은 약액 토출 라인(L1, L2)이 동일 직선상에 놓이도록 일직선상에 배치된다. 제1스프레이 노즐(321a)과 제2스프레이 노즐(321b)은 기판(W)의 반경 방향으로 일직선상에 배치될 수 있다. 제1스프레이 노즐(321a)은 기판(W)의 중심에 인접하여 약액 토출 라인(L1)을 형성하고, 제2스프레이 노즐(321b)은 기판(W)의 가장자리에 인접하여 약액 토출 라인(L2)을 형성한다. 이 경우, 각 노즐(321a, 321b)에서 분사된 약액은 기판(W)으로 공급되는 과정에서 약액 토출 라인(L1, L2)의 일부가 겹쳐진다. 약액 토출 라인(L1, L2)이 겹치는 영역(A)은 제1스프레이 노즐(321a)과 제2스프레이 노즐(321b) 사이에서 발생하며, 약액 입자들이 서로 충돌한다. 약액 토출 라인(L1, L2)이 겹쳐지는 영역(A)에서는 기판 세정이 잘 이루어지지 않고, 많은 양의 미스트가 발생할 수 있다.
도 10은 본 발명의 또 다른 실시예에 따라 제1 및 제2스프레이 노즐이 배치되는 모습을 나타내고, 도 11는 도 10의 노즐로부터 분사된 약액이 기판상에 형성하는 토출 라인을 나타내는 도면이다.
도 10 및 도 11을 참조하면, 제1스프레이 노즐(321c)과 제2스프레이 노즐(321d)은 기판(W)의 중심을 기준으로 소정 각도를 이루도록 배치된다. 제1스프레이 노즐(321a)과 제2스프레이 노즐(321d)은 각각 기판(W)의 반경과 동일 선상에 배치될 수 있다. 제1스프레이 노즐(321a)은 기판(W)의 중심에 인접 위치하고, 제2스프레이 노즐(321b)은 기판(W)의 가장자리에 인접 위치한다. 제1스프레이 노즐(321c)에서 형성되는 약액 토출 라인(L3)과 제2스프레이 노즐(321d)에서 형성되는 약액 토출 라인(L4)은 엇갈려 배치되므로, 약액 토출 라인(L3, L4)이 겹치지 않는다.
다시 도 1 및 2를 참조하면, 약액 공급 라인(331)은 일단이 약액 저장 탱크(333)와 연결되고, 타단이 두 갈래로 분리되어 스윙 노즐(311)과 스프레이 노즐(321)에 연결된다. 약액 저장 탱크(333)에 저장된 약액은 약액 공급 라인(331)을 통해 스윙 노즐(311)과 스프레이 노즐(321) 각각에 공급된다. 스윙 노즐(311)과 스프레인 노즐(321)은 동일한 약액을 기판(W)으로 공급한다.
프리 디스펜스부(340)는 스프레이 노즐(321)의 이동 경로 상에서 용기(210)의 외측에 위치한다. 스프레이 노즐(321)은 기판(W)으로 약액을 분사하기 전에 약액 공급 라인(331)에 잔류하는 약액과, 약액 공급 라인(331)으로 최초 일정시간 동안 새롭게 공급되는 약액을 프리 디스펜스부(340)에서 배출한다. 약액 공급 라인(331)에 잔류하는 약액과 최초 공급되는 약액은 공정 온도보다 낮은 온도로 유지된다. 스프레인 노즐(321)은 프리 디스펜스부(340)에서 일정 시간 동안 약액을 토출하므로서, 공정 온도로 유지되는 약액을 기판(W)으로 공급할 수 있다.
도 12는 도 1의 프리 디스펜스부를 나타내는 단면도이다.
도 12를 참조하면, 프리 디스펜스부(340)는 하우징(341), 메쉬(344), 배출 라인(346), 그리고 배기 포트(348)를 포함한다.
하우징(341)은 내부에 공간이 형성되며, 상부벽에 홀(341a)이 형성된다. 홀(341a)은 스프레이 노즐(321a, 321b)이 삽입되는 공간으로, 스프레이 노즐(321a, 321b) 개수에 대응하여 형성된다. 하우징(341)의 내부에는 메쉬(344)가 제공된다. 메쉬(344)에는 미세 홀들이 형성된다. 배출 라인(346)은 하우징(341)의 하부벽과 연결되며, 하우징(341)으로 토출된 약액을 외부로 배출한다. 배기 포트(348)는 하우징(341)의 측벽과 연결되며, 하우징(341) 내부에 발생한 흄을 외부로 배기한다.
스프레이 노즐(321a, 321b)은 홀(341a)에 삽이되고 토출구가 하우징(341)의 내부에 위치한 상태에서 일정 시간 동안 약액을 토출한다. 약액은 메쉬(344)와 부딪히면서 타력이 분산된다. 메쉬(344)로 인해 약액의 튐 현상이 감소한다. 약액의 토출 과정에서 하우징(341) 내부에 발생된 흄은 배기 포트(348)를 통해 외부로 배기된다. 메쉬(344)와 배기 포트(348)에 의해 노즐(321a, 321b) 토출구의 역오염이 방지될 수 있다. 하우징(341)으로 토출된 약액은 배출 라인(346)을 통해 외부로 배출된다.
순수 공급 부재(400)는 약액 처리가 완료된 기판(W)으로 순수(DI Water)를 공급한다. 기판(W)에 잔류하는 약액은 순수로 치환된다. 순수 공급 부재(400)는 순수를 분사하는 순수 분사 노즐(410)을 포함한다. 순수 분사 노즐(410)은 용기(210)의 상단에 고정 설치될 수 있다. 순수 분사 노즐(410)은 복수 개 제공될 수 있으며, 회전하는 기판(W)으로 각각 순수를 분사한다.
건조 가스 공급부재(500)는 순수 공급 후, 기판(W)으로 건조 가스를 공급한다. 건조 가스 공급부재(500)는 건조 가스를 분사하는 가스 분사 노즐(510)과, 가스 분사 노즐(510)을 지지하는 지지암(520)을 포함한다. 지지암(520)의 회전으로 가스 분사 노즐(510)은 스윙 이동하며 건조 가스를 공급한다.
도 13은 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 방법을 나타내는 표이다.
도 13을 참조하면, 기판 처리 방법은 세정 공정을 수행한다. 본 실시예에서는 기판상에 도포된 포토레지스트막(이하 PR막이라 한다)을 제거하는 공정을 예를 들어 설명한다. 세정 공정은 에칭 공정과 애싱 공정이 수행된 후 진행된다. 세정 공정은 복수의 공정 단계로 이루어진다. 실시예에 의하면, 세정공정은 제1차 스트립 단계(S10), 노즐 교차 단계(S20), 제2차 스트립 단계(S30), 제3차 스트립 단계(S40), 순수 치환 단계(S50), 순수 스프레이 세정 단계(S60), 순수 세정 단계(S70), 그리고 건조 단계(S80)가 순차적으로 수행된다.
도 14는 본 발명의 실시예에 따른 제1차 스트립 단계를 나타내는 도면이다.
도 13 및 도 14를 참조하면, 제1차 스트립 단계(S10)에서 용기(210)는 제2유입구(222)와 기판(W)이 대응하는 높이에 위치한다. 기판(W)은 지지축 구동기(150)의 구동으로 소정 속도로 회전한다. 스윙 노즐(311)은 기판(W)의 상부로 이동하여 액상의 약액(L)을 기판(W)으로 공급한다. 약액(L)은 기판(W) 상면을 충분히 도포할 수 있는 양으로 공급된다. 약액(L)은 약 10초 동안 공급될 수 있다. 약액(L)은 기판(W)에 도포된 PR막을 제거한다. PR막은 약액(L)과의 화학반응과 원심력에 의해 제거된다. 기판(W)이 고속, 예컨대 500RPM 이상으로 회전하는 경우 화학반응이 충분히 일어나지 못하므로, 500RPM 이하로 회전된다. 실시예에 의하면, 기판(W)은 150~300RPM 속도로 회전할 수 있다. 기판(W)은 평균 250RPM 속도로 회전할 수 있다. 약액(L)은 기판(W)의 회전으로 비산하여 제2유입구(222)로 유입되며, 제2회수통(212)에 회수된다. 제1차 스트립 단계(S10)에서 PR막은 대부분 제거된다. 실험에 의하면, 제1차 스트립 단계(S10)에서 PR막은 약 80%가 제거되며, 큰 입자의 부산물이 발생한다. 부산물은 약액(L) 속에 포함되어 약액(L)과 함께 제2회수통(212)에 회수된다. 회수된 약액(L)은 부산물이 많이 포함되므로 재사용이 어렵다. 약액(L)은 제2배출관(226)으로 유입되고, 폐액 라인(265)을 통해 폐기된다. 제1차 스트립 단계에서 용기(210) 내에 발생한 흄은 배기관(275)을 통해 외부로 배기된다.
제1차 스트립 단계(S10)가 완료되면, 스프레이 노즐(321)은 프리 디스펜스부(340)에 약액(L)을 일부 토출한다. 약액 공급 라인(322)에 잔류하는 약액과 최초 공급되는 약액은 하우징(341)으로 토출된다. 스프레이 노즐(321)은 프리 디스펜스부(340)에 약액을 일부 토출 후, 기판(W) 상부로 이동하며, 스윙 노즐(311)은 대기 위치로 복귀한다(S20). 스윙 노즐(311)과 스프레이 노즐(321)의 교차가 진행되는 동안, 지지축 구동기(150)는 기판(W)의 회전속도를 감속한다. 실시예에 의하면, 노즐 교차는 약 1~2초 내에 이루어지며, 지지축 구동기(150)는 기판(W)의 회전 속도를 20~50RPM으로 감속한다. 기판(W)의 회전 속도 감속으로 기판(W)의 상면에는 수막이 유지될 수 있다. 수막은 기판(W) 상면이 공기 중에 노출되는 것을 방지하여 약액 건조를 예방한다.
도 15는 본 발명의 실시예에 따른 제2차 스트립 공정을 나타내는 도면이다.
도 15을 참조하면, 제2차 스트립 단계(S30)에서 용기(210)는 제1유입구(221)와 기판(W)이 대응하는 높이에 위치한다. 기판(W)은 제1차 스트립 단계(S10)와 동일한 속도로 회전될 수 있다. 기판(W)은 150~300RPM 속도로 회전할 수 있다. 기판(W)은 평균 250RPM 속도로 회전할 수 있다. 제2차 스트립 단계(S30)은 스프레이 노즐(321)이 스프레이 방식으로 약액(L)을 기판(W)으로 공급한다. 약액(L)은 제1차 스트립 단계(S10)보다 긴 시간 동안 공급될 수 있다. 실시예에 의하면, 약액(L)은 약 50초 동안 분사될 수 있다. 약액(L)의 미세 입자는 1차 제거된 PR막을 물리적으로 타력하고, PR막과 화학 반응을 일으킨다. PR 막은 미세입자의 물리적인 타력, 화학 반응 그리고 원심력에 의해 제거된다. PR막이 제거되는 과정에서 작은 입자의 부산물이 발생한다. 약액(L)의 미세입자가 기판(W)을 타력하므로 패턴 손상이 발생되지 않는다.
약액(L)은 기판(W)의 회전으로 비산하여 제1유입구(221)로 유입되며, 제1회수통(211)에 회수된다. 회수된 약액에는 부산물이 일부 포함되나, 이는 재생 공정으로 제거가능한 수준이다. 제1회수통(211)에 회수된 약액(L)은 제1배출관(225)과 회수 라인(261)을 통해 약액 회수 탱크(262)로 회수된다.
제2차 스트립 단계(S30) 후, 제3차 스트립 단계(S40)가 진행된다. 용기(210)는 제2스트립 단계(S30)에서와 동일 높이에 위치한다. 기판(W)은 제2차 스트립 단계(S30)보다 빠른 속도로 회전된다. 기판(W)은 500~1500RPM으로 회전한다. 기판(W)은 평균 1000RPM으로 회전할 수 있다. 스프레이 노즐(321)은 스프레이 방식으로 약액(L)을 기판(W)으로 분사한다. 약액(L)은 제2차 스트립 단계(S30)보다 짧은 시간 동안 분사될 수 있다. 약액(L)은 약 30초 동안 분사될 수 있다. 약액(L)은 기판(W)상에 잔류하는 PR막을 제거한다. 약액(L)은 에칭 공정으로 PR막에 형성된 크러스터 레이어(crust layer)를 제거할 수 있다. 크러스트 레이어는 에칭 공정으로 PR 막에 형성되며, 애싱 공정에서 제거가 용이하지 않다.
PR막과 크러스트 레이어는 약액(L)과의 화학반응, 원심력, 그리고 약액 입자의 물리적인 타력으로 제거된다. 제3차 스트립 단계(S40)에서 기판(W)은 빠른 속도로 회전하므로, 원심력과 물리적인 타력이 강화된다. 이로 인해 PR막과 크러스트 레이어가 용이하게 제거된다.
약액(L)은 기판(W)의 회전으로 비산되어 제1유입구(221)로 유입된다. 약액(L)은 제1회수통(211)에 회수되고, 제1배출관(225)과 회수 라인(261)을 거쳐 재사용을 위해 회수된다. 제2차 스트립 단계(S30)와 제3차 스트립 단계(S40)에서 사용된 약액은 제1차 스트립 단계(S10)에서 사용된 약액과 분리 회수되고 독립된 회수라인(261)을 거쳐 송액되므로, 약액 재활용이 효과적으로 이루어질 수 있다.
제2차 및 제3차 스트립 단계(S30, S40)에서 용기(210) 내에 발생한 흄은 배기관(275)을 통해 외부로 배기된다. 제2차 및 제3차 스트립 단계(S30, S40)에서 약액은 미세 입자 형태로 분사되므로, 용기(210) 내에는 많은 양의 흄이 발생한다. 배기관(275)은 제1차 스트립 단계(S10)보다 높은 흡입 압력으로 흄을 흡입한다.
제3차 스트립 단계(S40) 후, 순수 치환 단계(S50)가 수행된다. 용기(210)는 제3유입구(223)가 기판에 대응하는 높이에 위치한다. 기판(W)은 제3차 스트립 단계(S40)보다 빠른 속도로 회전된다. 기판(W)은 1000~1800RPM으로 회전한다. 기판(W)은 평균 1500RPM으로 회전할 수 있다. 순수 공급 노즐(410)은 기판(W)으로 순수를 공급한다. 순수는 제3차 스트립 단계(S40)와 동일한 시간 동안 공급될 수 있다. 순수는 약 30초 동안 공급될 수 있다. 순수는 기판(W)에 잔류하는 약액과 치환되며, 약액을 제거한다. 순수는 기판(W)의 회전으로 비산으로 제3유입구(223)로 유입되며, 제3회수통으로 회수된다.
순수 스프레이 세정 단계(S60)는 순수로 치환된 기판(W)으로 스프레이 방식으로 순수를 분사한다. 기판(W)은 순수 치환 단계보다 느린 속도로 회전한다. 기판(W)은 500~1500RPM으로 회전할 수 있다. 기판(W)은 평균 1000RPM으로 회전할 수 있다. 순수는 45초 동안 공급될 수 있다. 기판(W)으로 분사된 순수 입자는 기판상의 잔류 물질과 파티클을 제거한다.
순수 스프레이 세정 단계(S60)가 완료된 후, 순수 세정 단계(S70)가 수행된다. 기판(W)은 순수 스프레이 세정 단계(S60)와 동일한 속도로 회전한다. 순수는 액상으로 기판(W)으로 공급된다. 순수는 5초 동안 공급될 수 있다.
순수 세정 단계(S70) 완료 후, 건조 단계(S80)가 수행된다. 기판(W)은 고속 회전한다. 기판(W)은 1000~1800RPM으로 회전할 수 있다. 기판(W)은 평균 1500RPM으로 회전할 수 있다. 회전하는 기판(W)으로 건조 가스가 공급된다. 가스는 약 20초 동안 공급될 수 있다. 기판(W)의 고속 회전과 건조 가스의 공급으로 기판이 건조된다.
이상의 상세한 설명은 본 발명을 예시하는 것이다. 또한 전술한 내용은 본 발명의 바람직한 실시 형태를 나타내어 설명하는 것이며, 본 발명은 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 즉 본 명세서에 개시된 발명의 개념의 범위, 저술한 개시 내용과 균등한 범위 및/또는 당업계의 기술 또는 지식의 범위내에서 변경 또는 수정이 가능하다. 저술한 실시예는 본 발명의 기술적 사상을 구현하기 위한 최선의 상태를 설명하는 것이며, 본 발명의 구체적인 적용 분야 및 용도에서 요구되는 다양한 변경도 가능하다. 따라서 이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니다. 또한 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 한다.
10: 기판 처리 장치 100: 지지 부재
110: 척 120: 지지핀
130: 척킹핀 140: 지지축
150: 지지축 구동기 210: 용기
211: 제1회수통 212: 제2회수통
213: 제3회수통 221: 제1유입구
222: 제2유입구 223: 제3유입구
261: 회수 라인 265: 폐액 라인
271: 승강부 275: 배기관
300: 약액 공급 부재 311: 스윙 노즐
313: 스윙 노즐 암 321: 스프레이 노즐
323: 스프레이 노즐 암 340: 프리 디스펜스부
400: 순수 공급 부재 500: 건조 가스 공급부재

Claims (24)

  1. 기판을 지지하며, 회전 가능한 척;
    상기 척을 감싸며, 기판의 회전으로 비산되는 약액을 회수하는 용기;
    스프레이 방식으로 상기 약액을 기판으로 분사하는 제1스프레이 노즐;
    선단에 상기 제1스프레이 노즐이 장착되는 암; 및
    상기 제1스프레이 노즐과 함께 상기 암의 선단에 장착되며, 상기 약액을 스프레이 방식으로 기판으로 분사하는 제2스프레이 노즐을 포함하되,
    상기 제1스프레이 노즐과 상기 제2스프레이 노즐은 상기 약액의 토출 라인이 서로 겹치지 않게 다른 직선상에 놓이도록 엇갈려 배치되는 기판 처리 장치.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 제1스프레이 노즐은 기판의 반경에 상응하거나 그보다 작은 토출 영역으로 약액을 분사하는 기판 처리 장치.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 제1스프레이 노즐은 기판으로 분사되는 약액의 입사각이 기판의 상면과 수직하게 되도록 배치되는 기판 처리 장치.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 제1스프레이 노즐은 기판으로 분사되는 약액의 입사각이 기판의 상면과 예각을 이루도록 비스듬히 경사지게 배치되는 기판 처리 장치.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 약액과 동일한 약액을 액상으로 기판으로 토출하는 스윙 노즐; 및
    약액이 토출되는 동안 상기 스윙 노즐을 기판의 상부에서 스윙 이동시키는 스윙 노즐 구동부를 더 포함하는 기판 처리 장치.
  9. 제 8 항에 있어서,
    상기 용기는
    상기 척을 감싸며, 링 형상의 제1유입구를 형성하는 제1회수통; 및
    상기 제1회수통을 감싸며, 상기 제1유입구의 상부에 링 형상의 제2유입구를 형성하는 제2회수통을 가지고,
    상기 제1회수통과 연결되며, 상기 제1회수통으로 유입된 약액을 재사용을 위해 회수되는 회수 라인;
    상기 제2회수통과 연결되며, 상기 제2회수통으로 유입된 약액을 폐기하는 폐액 라인;
    상기 제1스프레이 노즐에서 분사된 약액이 상기 제1유입구로 유입되고, 상기 스윙 노즐에서 분사된 약액이 제2유입구로 유입되도록 상기 척과 상기 용기 중 어느 하나를 승강시키는 제어부를 더 포함하는 기판 처리 장치.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 용기 내부에 발생된 흄을 흡입하여 외부로 배기하는 배기관을 더 포함하되,
    상기 배기관의 흡입 압력은 상기 스윙 노즐에서 약액을 분사하는 공정보다 상기 스프레이 노즐에서 약액을 분사하는 공정에서 더 큰 기판 처리 장치.
  11. 제 1 항에 있어서,
    상기 용기의 외측에 위치하며, 상기 스프레이 노즐이 기판으로 약액을 토출하기 전 약액이 예비 토출되는 프리 디스펜스부를 더 포함하되,
    상기 프리 디스펜스부는
    내부에 공간이 형성되며, 상부벽에 상기 스프레이 노즐이 삽입되는 홀이 형성된 하우징;
    상기 하우징의 내부에 제공되며, 분사된 약액의 타력을 분산시키는 메쉬;
    상기 하우징의 내부로 토출된 약액을 외부로 배출하는 배출 라인; 및
    상기 하우징의 내부에 머무르는 약액의 미세 입자를 외부로 배기시키는 배기 포트를 포함하는 기판 처리 장치.
  12. 회전하는 기판의 상부에서 스윙 노즐이 스윙 이동하며 약액을 액상으로 토출하는 제1차 스트립 단계;
    회전하는 기판의 상부에서 스프레이 노즐이 상기 약액과 동일한 약액을 스프레이 방식으로 1차 분사하는 제2차 스트립 단계;
    상기 제2차 스트립 단계 후, 회전하는 기판의 상부에서 상기 스프레이 노즐이 상기 약액과 동일한 약액을 스프레이 방식으로 2차 분사하는 제3차 스트립 단계; 및
    회전하는 기판으로 순수를 공급하여 기판에 잔류하는 약액을 제거하는 세정 단계를 포함하되,
    상기 제3차 스트립 단계에서 기판의 회전 속도는 상기 제2차 스트립 단계에서 기판의 회전속도보다 빠른 기판 처리 방법.
  13. 삭제
  14. 제 12 항에 있어서,
    상기 스프레이 노즐이 상기 기판으로 약액을 분사하기 전, 프리 디스펜스부에서 약액을 일정량 예비 분사하는 프리 디스펜스 단계를 더 포함하는 기판 처리 방법.
  15. 제 12 항에 있어서,
    상기 기판을 감싸는 용기는 링 형상의 제1유입구와, 상기 제1유입구의 상부에 형성된 링 형상의 제2유입구를 가지며,
    상기 제1차 스트립 단계에서 기판으로 토출된 약액은 상기 제2유입구로 유입되고, 상기 제2차 스트립 단계에서 기판으로 분사된 약액은 제1유입구로 유입되며,
    상기 제1유입구로 유입된 약액은 회수 라인을 통해 회수되고,
    상기 제2유입구로 유입된 약액은 폐액 라인을 통해 폐기되는 기판 처리 방법.
  16. 제 15 항에 있어서,
    상기 용기에 연결된 배기관이 상기 용기 내부에 발생된 미스트를 흡입하여 외부로 배기하되,
    상기 배기관의 흡입 압력은 상기 제2차 스트립 단계보다 상기 제1차 스트립 단계에서 더 큰 기판 처리 방법.
  17. 제 12 항에 있어서,
    상기 스프레이 노즐은 그 길이방향이 기판의 상면에 수직하게 배치되어 약액을 분사하는 기판 처리 방법.
  18. 제 12 항에 있어서,
    상기 스프레이 노즐은 그 길이방향이 상하방향에 대해 비스듬히 경사지게 배치되어 약액을 분사하는 기판 처리 방법.
  19. 제 12 항에 있어서,
    상기 스프레이 노즐은 하나의 암에 장착되는 제1스프레이 노즐과 제2스프레이 노즐을 가지며,
    상기 제1스프레이 노즐과 상기 제2스프레이 노즐은 약액의 토출 라인이 동일 직선상에 놓이도록 약액을 분사하는 기판 처리 방법.
  20. 제 12 항에 있어서,
    상기 스프레이 노즐은 하나의 암에 장착되는 제1스프레이 노즐과 제2스프레이 노즐을 가지며,
    상기 제1스프레이 노즐과 상기 제2스프레이 노즐은 약액의 토출 라인이 서로 다른 직선상에 놓이도록 약액을 분사하는 기판 처리 방법.
  21. 삭제
  22. 삭제
  23. 삭제
  24. 삭제
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