TWI568502B - Substrate storage device - Google Patents

Description

基板收容裝置

本發明是關於一種基板收容裝置。

作為於基板塗佈液狀體的塗佈技術，眾所周知，例如在具備杯等的基板收容裝置內收容基板，且在被收容於該基板收容裝置的狀態之下並將液狀體從噴嘴吐出至基板上的構造(例如，參照專利文獻1)。

專利文獻1：日本特開平03-026370號公報

然而，在上述構造中，進行塗佈動作之際，有塗佈液呈霧狀地飛散的情形。若霧狀地飛散的塗佈液附著於裝置內部中的基板以外之部分，則有污染裝置的問題。

鑒於如上的事項，本發明是在於提供一種能夠清淨化裝置內的環境的基板收容裝置作為目的。

本發明的第一形態的基板收容裝置，具備：基板保持部、及杯狀部、以及回收液供給部；該基板保持部，是用以保持基板；該杯狀部，是用以包圍被保持於上述基板保持部之狀態的上述基板；該回收液供給部，是用以供給：將異物回收於上述基板與上述杯狀部之間的回收液。

依照本發明，使得來自回收液供給部的回收液被供給於基板與杯狀部之間之故，因而能夠回收基板與杯狀部之 間的異物。藉此，能夠將裝置的環境作成清淨化。

上述基板收容裝置，是更具備：儲存從上述回收液供給部所供給之上述回收液的回收液儲存部。

依照本發明，更具備：儲存從回收液供給部所供給之回收液的回收液儲存部之故，因而能夠儲存所供給的回收液，因此，在被儲存的狀態之下能夠回收異物。

在上述基板收容裝置中，上述杯狀部是具有：包圍上述基板之側部的壁部，及支承上述壁部的底部，上述回收液儲存部，是設置於：包括上述壁部的一部分與上述底部的部分。

依照本發明，杯狀部是具有：包圍基板之側部的壁部，及支承壁部的底部，而回收液儲存部，是設置於：包括壁部的一部分與底部的部分之故，因而能夠在該壁部及底部回收異物。

在上述基板收容裝置中，上述回收液供給部，是具有朝向上述回收液儲存部吐出上述回收液的第一噴嘴。

依照本發明，從第一噴嘴朝向回收液儲存部吐出回收液之故，因而能夠形成由吐出所產生的回收液的流動。藉此，能夠洗掉附著於回收液儲存部的異物。

上述基板收容裝置，是上述第一噴嘴是被設置於上述基板保持部。

依照本發明，第一噴嘴是被設置於基板保持部之故，因而使回收液從基板保持部被吐出至回收液儲存部。藉此，在基板保持部直到回收液儲存部為止之間能夠洗掉異 物。

在上述基板收容裝置中，上述回收液儲存部，是沿著上述基板的外周形成為環狀，上述回收液供給部，是具有朝向上述回收液儲存部的周方向吐出上述回收液的第二噴嘴。

依照本發明，回收液儲存部是沿著基板的外周形成為環狀，回收液供給部是具有朝向回收液儲存部的周方向吐出回收液的第二噴嘴之故，因而在回收液儲存部的周方向能夠形成回收液的流動。藉此，能夠防止被回收的異物沈澱而積存的情形。

在上述基板收容裝置中，上述第二噴嘴，設置有複數個，上述複數第二噴嘴，是以相等間距被配置於上述回收液儲存部的周方向。

依照本發明，第二噴嘴是設置有複數個，複數第二噴嘴是以相等間距被配置於回收液儲存部的周方向之故，因而在回收液儲存部的周方向能夠均勻地形成回收液的流動。

在上述基板收容裝置中，上述回收液儲存部，是具有排出上述回收液的排出部。

依照本發明，能夠從排出部排出含有異物的回收液之故，因而能夠從裝置內除去異物。

上述基板收容裝置，是更具備：用以對由上述杯狀部所包圍之空間進行吸引的吸引部。

依照本發明，能夠吸引以杯狀部所包圍的空間之故， 因而從以杯狀部所包圍之空間藉由吸引就能夠除去氣體、回收液或是異物等。

在上述基板收容裝置中，上述吸引部具有經由上述杯狀部而連接於外側的吸引路徑。

依照本發明，吸引部具有經由杯狀部被連接於外側的吸引路徑之故，因而經由該吸引路徑能夠除去回收液或是異物等。

在上述基板收容裝置中，上述吸引部具有設置於上述吸引路徑的氣液分離部。

依照本發明，在吸引路徑設有氣液分離部之故，因而能夠從被吸引的物質中分離回收液。

上述基板收容裝置，是更具備：將到達上述氣液分離部而被分離的上述回收液傳送到上述回收液供給部的傳送部。

依照本發明，使得到達氣液分離部而被分離的回收液能夠傳送到回收液供給部之故，因而能夠再利用回收液。

上述基板收容裝置，上述杯狀部，具有包圍上述基板側部的壁部，更具備：朝向上述壁部吐出洗淨液的洗淨液噴嘴。

依照本發明，杯狀部具有包圍基板側部的壁部，更具備：朝向壁部吐出洗淨液的洗淨液噴嘴之故，因而能夠將壁部作成清淨化。

在上述基板收容裝置中，作為上述洗淨液，是使用與上述回收液同一種類的液體。

依照本發明，作為洗淨液使用與回收液同一種類的液體之故，因而使用洗淨液就能夠回收異物。還有，能夠將洗淨液與回收液的供給源作成共通化。

在上述基板收容裝置中，上述基板保持部，具有吸附上述基板背面的吸附部，上述吸附部，具有朝向上述基板的周圍噴射氣體的氣體噴射部。

依照本發明，能夠從吸附部朝向基板周圍形成氣流之故，因而能夠防止異物朝向基板飛散的情形。

在上述基板收容裝置中，上述基板保持部，具有用以調整上述基板溫度的調溫部。

依照本發明，藉由基板保持部能夠調整基板溫度之故，因而能夠將基板設定在因應於收容目的溫度。

依照本發明，能夠將裝置內的環境予以清淨化。

以下，參照圖式，來說明本發明的實施形態。

第1圖是表示本實施形態的塗佈裝置CTR的構造的圖式。

如第1圖所示地，塗佈裝置CTR，是具有基板收容裝置ACM及塗佈噴嘴CNZ。塗佈裝置CTR，是對於被收容於基板收容裝置ACM的基板S，使用塗佈噴嘴CNZ來塗佈液狀體的裝置。塗佈裝置CTR，是被載置於平行於水平面的底面而被使用。作為塗佈噴嘴CNZ，例如可使用噴嘴(spray nozzle)、細縫噴嘴、旋塗(spin coat)用的滴下 噴嘴等，各種噴嘴。

以下，在說明本實施形態的塗佈裝置CTR的構造之際，作成使用X Y Z正交座標系統。在此，將水平面上的一方向作為X方向，並將平行於該水平面而正交於X方向之方向作為Y方向，且將垂直方向作為Z方向。還有，針對於X方向周圍、Y方向周圍、及Z方向周圍的各方向，有表記為θ X方向、θ Y方向、及θ Z方向的情形。

基板收容裝置ACM是具有：基板保持部10、杯狀部20、回收液供給部30、回收液儲存部40、吸引部50、升降部60及控制部CONT。第2圖是表示由+Z側觀看塗佈裝置CTR時的構造的圖式。還有，在第2圖中，為了容易判別圖式，以一點鏈線表示升降部60的構造。

如第1圖及第2圖所示地，基板保持部10是具有：吸附部11、調溫部12及氣體噴射部13。吸附部11是配置於杯狀部20的內部中位於Z方向觀看中央部。吸附部11是成為藉由吸引機構進行吸引動作的構造。

吸附部11中+Z側的一面11a，是保持基板S的保持面。保持面11a是平坦地形成成為平行於X Y平面。吸附部11是被配置於基台10a上。

調溫部12，是用以調整被吸附於吸附部11的基板S之溫度。調溫部12，是具有未予圖示之加熱機構或是冷卻機構。該加熱機構及冷卻機構的動作，是藉由控制部CONT可加以控制。調溫部12，是經由未予圖示之固定構件被安裝於吸附部11的-Z側之一面。

氣體噴射部13，是朝向被吸附於吸附部11的狀態下之基板S的周圍予以噴射氣體(例如氮氣體等)。氣體噴射部13，是具有被形成於吸附部11之側面的噴射口13a。該噴射口13a，是朝向吸附部11的徑方向之外側被開口。該噴射口，是經由氣體流路13b被連接於未予圖示的氣體供給源。

氣體流路13b，是朝向吸附部11的徑方向之外側對於水平方向傾斜於+Z側。所以，氣體噴射部13，是於基板S之周圍形成朝向徑方向之外側且+Z側的氣流。藉由該氣流，能夠防止異物接近於基板S的背面。

杯狀部20，是配置成包圍藉由基板保持部10所保持的基板S。杯狀部20，是具有底部21及壁部22。杯狀部20，是在Z方向觀看被形成圓形狀。在底部21，朝向-Z側形成有傾斜部21a。如第2圖所示地，傾斜部21a，是沿著基台10a的外周面被形成圓環狀。

如第1圖及第2圖所示地，壁部22，是包圍基板保持部10之周圍的方式被形成圓筒狀。如第1圖所示地，在壁部22的+Z側端部，形成有折疊部22a。折疊部22a，是在杯狀部20的Z方向觀看朝向中央部側被形成。

回收液供給部30，是具有：第一噴嘴31、第二噴嘴32、洗淨液噴嘴33及供給源34。回收液供給部30是供給回收基板S與杯狀部20之間的異物的回收液。作為回收液，舉例有純水、由塗佈噴嘴所供給之液狀體的溶媒等。

第一噴嘴31是安裝於基台10a。第一噴嘴31是對於 基台10a朝向外側。具體而言，第一噴嘴31是朝向杯狀部20的底部21。第一噴嘴31是用來洗淨設於升降部60的板部61的液承受面61a(下述)。第一噴嘴31是朝向底部21來吐出回收液。第一噴嘴31是以大致相等間距被配置於基台10a之周方向。所以，成為回收液普遍地供給於液承受面61a的一周全面。還有，作成從第一噴嘴31噴射空氣的構造也可以。

第二噴嘴32是被形成於基台10a的外周面。第二噴嘴32是朝向杯狀部20的底部21。第二噴嘴32是對於底部21吐出回收液。第二噴嘴32是朝向基台10a之外周面的周方向。具體而言，如第2圖所示地，朝向繞反時鐘之方向。所以，藉由從第二噴嘴32所吐出的回收液，在底部21使得回收液的流動成為被形成於繞反時鐘。第二噴嘴32是以相等間距被配置於底部21的周方向。所以，回收液的流動被形成成為大致相等的速度於底部21的一周全面。

洗淨液噴嘴33是被配置於底部21的傾斜部21a。洗淨液噴嘴33是朝向杯狀部20的壁部22。洗淨液噴嘴33是朝向壁部22吐出洗淨液。作為該洗淨液除了純水、由塗佈噴嘴所供給的液狀體的溶媒之外，還能夠使用例如臭氧水等。

洗淨液噴嘴33是被設置成對於XY平面傾斜方向可調整角度。所以，由折疊部22a直到壁部22的-Z側為止的範圍能夠調整洗淨液噴嘴33的方向。還有，藉由調整 洗淨液噴嘴33的角度，將洗淨液供給於設在升降部60的氣體調整構件62(下述)，也能夠洗淨該氣體調整構件62。洗淨液噴嘴33是以大致相等間距被配置於底部21的周方向。所以，在壁部22使洗淨液普遍地供給於周方向的一周全面。

供給源34是例如被配置於杯狀部20的外部。供給源34是將回收液供給於第一噴嘴31及第二噴嘴32。如此地，因以第一噴嘴31與第二噴嘴32使得回收液的供給源作成共通化，因此與各別地設置供給源的情形相比較，能夠節省空間。還有也能夠減輕維修所費的工夫。另外，供給源34是將洗淨液供給於洗淨液噴嘴33。在作為回收液及洗淨液使用同一種類的液體時，針對於洗淨液噴嘴33也能夠共通化供給源。

更且，供給源34是將淨化乾空氣供給於空氣噴出口35。該空氣噴出口35是設置複數於基台10a中的第一噴嘴31之+Z側。複數空氣噴出口35是以大致相等間距被配置於基台10a的周方向。各空氣噴出口35是用以乾燥設於升降部60的板部61的液承受面61a(下述)。各空氣噴出口35是朝向於底部21。還有，作成由空氣噴出口35噴出上述回收液的構造也可以。

回收液儲存部40是具有液承受部41及排出部42。液承受部41是被形成於包括杯狀部20的底部21，與壁部22的-Z側部分的部分。液承受部41是承受由第一噴嘴31被吐出的回收液，或是承受由第二噴嘴32被吐出的回收 液等的部分。藉由使得液承受部41維持承受回收液的狀態之下，回收液被儲存於回收液儲存部40。液承受部41中之外周部分的+Z側端部41a，是被配置於比第二噴嘴32還位於-Z側。

排出部42是被形成於杯狀部20的底部21的開口部。排出部42是將被儲存於液承受部41的回收液排出至杯狀部20的外側。排出部42是被形成於傾斜部21a的底面。所以，承受液承受部41的回收液經由傾斜部21a成為容易被排出。在排出部42連接於未予圖示的排出路徑。在排出部42設有未予圖示的開閉閥。藉由閉塞該開閉閥，使得回收液被儲存於回收液儲存部40。還有，藉由開放開閉閥，使得回收液由排出部42被排出。

又，在壁部22的外周側，設有排氣部24。排氣部24是藉由杯狀部20所包圍的空間K的氣體，而且有流出附著於壁部22表面的塗佈液的作用。還有，未設有排氣部24的構造也可以。在排氣部24設有閘部24a及24b。藉由該閘部24a及24b，被排出至排氣部24的成分中氣體成分的至少一部分被送出至開口部24c，使得液體成分被送到開口部24d。在閘部24a及24b，也具有將氣體成分的一部分予以液化的功能。該情形，針對於被液化的成分，被傳送至開口部24d。還有，排氣部24的開口部24c，是被連接於吸引部50。還有，排氣部24的開口部24d，是被傳送至廢液回收部(未予圖示)或是供給源34。

吸引部50是經由排氣部24，來吸引藉由杯狀部20所 包圍的空間K。吸引部50是被連接於排氣部24的開口部24c。還有，吸引部50是經由該開口部24c及閘部24a、24b被連接於空間K。第3圖是表示吸引部50的構造的圖式。

如第5圖所示地，吸引部50是具有配管部50a~50f、氣液分離部51及臭氧洗淨部52。

配管部50a是被連接於杯狀部20。配管部50a是從外側被連接於壁部22。經由配管部50a，使得存在於杯狀部20內部的吸引對象物被吸引至杯狀部20的外側。配管部50a是被連接於氣液分離部51。

氣液分離部51是具有閘部51a。氣液分離部51是被吸引的杯狀部20內的吸引對象物之中，將液體成分藉由閘部51a送到配管部50b，而且將氣體成分送到配管部50c。還有，閘部51a也具有液化氣體成分的一部分的功能，也有將被液化的成分送到配管部50b的情形。在配管部50c設有風扇，藉由工廠排氣等，將送到配管部50c的氣體成分排氣至外部。

配管部50b是被連接於臭氧洗淨部52。臭氧洗淨部52是具有臭氧發生裝置52a及洗淨槽52b。在臭氧發生裝置52a所發生的臭氧氣體，是藉由被設於洗淨槽52b的未予圖示的放氣管接觸於液體成分。藉由該臭氧氣體，使得液體成分被分解成溶劑與抗蝕劑。還有，上述臭氧洗淨部52是並不一定被設置也可以。

洗淨槽52b是將洗淨後的液體成分送到配管部50e。 配管部50e是被連接於上述的供給源34。被送到配管部50e的液體成分是經由該配管部50e被送到上述供給源34。還有，針對於使用於洗淨的臭氧氣體，經由在配管部50f被排出。更且，在配管部50b分岐有配管部50d而被連接。配管部50d是連接於廢液回收部(未予圖示)。被送到配管部50b的液體成分的一部分，是經由該配管部50d被排出。

回到第1圖，升降部60，是具有板部61、氣流調整構件62、連結構件63、升降導件64及驅動部65。

如第1圖及第2圖所示地，板部61是包圍基板S的周圍的方式形成為圓環狀。板部61是具有平坦地所形成的液承受面61a。在表示於第1圖的狀態之下，板部61是被配置於使得被保持於基板保持部10之狀態的基板S的+Z側的第一面Sa與液承受面61a成為平面相同的第一位置PS1。板部61是隔開間隙被配置於與被保持於基板保持部10的基板S外周之間。還有，氣體噴射部13的噴出口13a是由基板S的-Z側的第二面Sb側朝向該間隙。

氣流調整構件62是調整通過基板S外周之氣體的流動。氣流調整構件62是包圍基板S周圍的方式形成為圓環狀。氣流調整構件62是包圍板部61的方式被配置於該板部61的外側。氣流調整構件62是藉由連結構件63與板部61一體地被連結。氣流調整構件62是使得通過基板S外周的氣體朝向吸引部50流動的方式被形成彎曲。

升降導件64是朝向Z方向平行地設置。板部61是藉 由驅動部65的驅動動作，設置成沿著升降導件64朝向Z方向能夠移動。藉由板部61朝向Z方向移動，針對於與該板部61一體地被連結的氣流調整部也能夠朝向Z方向移動。

板部61是例如能夠移動至Z方向的第二位置PS2及第三位置PS3。第二位置PS2是被設置於由第一噴嘴31所噴射的回收液的軌道上。因此，當板部61被配置於第二位置PS2時，則由第一噴嘴31噴射回收液，就能夠進行板部61的洗淨的情形。還有，第三位置PS3是板部61的待機位置。

將如上述地所構成的塗佈裝置CTR的動作加以說明。

首先，將基板S藉由未予圖示之搬運機構收容於基板收容裝置ACM。被收容的基板S，是被載置於吸附部11上。之後，控制部CONT是將基板S吸附於吸附部11上。

吸附基板S之後，控制部CONT是藉由調溫部12一面調整基板S的溫度，一面由氣體噴射部13噴射出氣體。還有，控制部CONT是用以開始吸引部50的動作。更且，控制部CONT是將升降部60配置於第一位置PS1。藉由升降部60被配置於第一位置PS1，來自氣體噴射部13的氣體，是通過基板S的側部，且經由氣流調整構件62流到吸引部50。又，使得板部61的液承受面61a與基板S的第一面Sa成為相同平面狀態。

在該狀態之下，如第4圖所示地，控制部CONT是由第一噴嘴31吐出回收液Q。回收液Q是在Z方向觀看下，逐漸填滿於被設置於基板S與杯狀部20的壁部22之間的回收液儲存部40。在該狀態之下，控制部CONT是使用塗佈噴嘴CNZ而將液狀體的塗佈膜R形成於基板S的第一面Sa上。

當使用塗佈噴嘴CNZ形成塗佈膜R之際，就有液狀體成霧狀飛散的情形。當此種霧狀液狀體附著於杯狀部20時，杯狀部20就成為污損之狀態。對於此，依照本實施形態，來自第一噴嘴31的回收液被供給於基板S與杯狀部20的壁部22之間之故，因而即使有霧狀液狀體飛散到基板S與杯狀部20之間的情形，也能夠回收該液狀體。還有，並不被限定於液狀體，針對於灰塵或塵埃等也能夠加以回收。藉此，能夠將裝置環境予以清淨化。

本發明的技術範圍是並不被限定於上述實施形態者，在未超越本案發明的趣旨的範圍之下能夠作成適當變更。

例如，控制部CONT是由第一噴嘴31吐出回收液之際，如第5圖所示地，作成由第二噴嘴32吐出回收液Q也可以。該情形，第二噴嘴32朝向回收液儲存部40的周方向吐出回收液Q之故，因而能夠在回收液儲存部40的周方向(繞反時鐘的方向)形成回收液Q的流動。藉此，能夠防止被回收的異物會沈澱而積存的情形。

還有，同時地進行來自第一噴嘴31的回收液的吐出動作，與來自第二噴嘴32的回收液的吐出動作也可以， 或是以不相同的時機來進行也可以。

更且，在上述實施形態中，例示藉由回收液Q來回收杯狀部20的液狀體Q的構造加以說明，惟並不被限定於此。

第6圖是表示塗佈裝置CTR的其他動作例的圖式。如第6圖所示地，控制部CONT是將設於升降部60的板部61配置於第二位置PS2，且作成自第一噴嘴31吐出回收液Q也可以。該情形，回收液Q是供給於板部61的液承受面61a，且液承受面61a藉由回收液Q被洗淨。

更且，控制部CONT是洗淨液承受面61a之後，由空氣噴出口35噴射空氣也可以。該情形，空氣是在液承受面61a上流動，且除掉殘留在液承受面61a的回收液Q。還有，藉由空氣之流動，來蒸發回收液Q的一部分。如此地，能夠將液承受面61a上予以乾燥。

第7圖是表示塗佈裝置CTR的其他動作例的圖式。洗淨板部61時，如第7圖所示地，控制部CONT是於回收液儲存部40儲存回收液Q的狀態之下，將板部61移動至第三位置PS3。藉由此動作，板部61成為被浸漬於回收液Q之狀態，使得液承受面61a藉由回收液Q被洗淨。

浸漬板部61之際，因應於浸漬有該板部61的體積使得回收液Q的液面移動到+Z側，且超過回收液儲存部40之外壁的+Z側的端部41a，而成為溢出到吸引部50的情形。在本實施形態中，液承受部41中位於外周部分的+Z側端部41a，是比第二噴嘴32還要配置於-Z側之故，因 而能夠避免使回收液Q填滿第二噴嘴32的情形。

還有，在上述實施形態的塗佈裝置CTR中，進行說明使用洗淨噴嘴33的動作。第8圖是表示洗淨噴嘴33的動作的圖式。

如第8圖所示地，控制部CONT是使用洗淨噴嘴33，朝向杯狀部20的壁部22或是折疊部22a進行噴射洗淨液QR。藉由此動作，使壁部22及折疊部22a藉由洗淨液QR被洗淨。

在第8圖中，除了上述的實施形態的構造以外，還在壁部22設有開口部22b。在開口部22b，連接有洗淨液供給部23。控制部CONT是藉由自洗淨液供給部23供給洗淨液QR，使得洗淨液QR由開口部22b垂到壁部22。藉由此動作，壁部22被洗淨。

還有，該洗淨液能夠流動在廣泛範圍的方式，例如將用以使洗淨液容易濕潤擴散的材料等予以塗佈於壁部22的構造也可以。還有，洗淨液為能夠流在壁部22的內周方向的方式，有凹凸等形成於壁部22的構造也可以。還有，在壁部22的近旁配置刷子等，而使用該刷子來塗佈洗淨液的構造也可以。還有，在壁部22配置紙或是布料等，且將洗淨液浸漬於該紙或是布料，作成將洗淨液濕潤擴散於廣範圍的構造也可以。

CTR‧‧‧塗佈裝置

ACM‧‧‧基板收容裝置

CNZ‧‧‧塗佈噴嘴

S‧‧‧基板

CONT‧‧‧控制部

K‧‧‧空間

Q‧‧‧回收液

R‧‧‧塗佈膜

10‧‧‧基板保持部

10a‧‧‧基台

11‧‧‧吸附部

11a‧‧‧保持面

12‧‧‧調溫部

13‧‧‧氣體噴射部

13a‧‧‧噴射口

13b‧‧‧氣體流路

20‧‧‧杯狀部

21‧‧‧底部

21a‧‧‧傾斜部

22‧‧‧壁部

30‧‧‧回收液供給部

31‧‧‧第一噴嘴

32‧‧‧第二噴嘴

33‧‧‧洗淨液噴嘴

34‧‧‧供給源

35‧‧‧空氣噴出口

40‧‧‧回收液儲存部

41‧‧‧液承受部

42‧‧‧排出部

50‧‧‧吸引部

50a~50f‧‧‧配管部

51‧‧‧氣液分離部

第1圖是表示本發明的實施形態的塗佈裝置的構造的 斷面圖。

第2圖是表示本實施形態的塗佈裝置的構造的俯視圖。

第3圖是表示本實施形態的塗佈裝置的一部分的構造的圖式。

第4圖是表示本實施形態的塗佈裝置的動作的圖式。

第5圖是表示本實施形態的塗佈裝置的動作的圖式。

第6圖是表示本實施形態的塗佈裝置的其他動作例的圖式。

第7圖是表示本實施形態的塗佈裝置的其他動作例的圖式。

第8圖是表示本實施形態的塗佈裝置的其他構造及其他動作例的圖式。

10‧‧‧基板保持部

10a‧‧‧基台

11‧‧‧吸附部

12‧‧‧調溫部

13‧‧‧氣體噴射部

13a‧‧‧噴射口

13b‧‧‧氣體流路

20‧‧‧杯狀部

21‧‧‧底部

21a‧‧‧傾斜部

22‧‧‧壁部

22a‧‧‧折疊部

24‧‧‧排氣部

24a、24b‧‧‧閘部

24c、24d‧‧‧開口部

30‧‧‧回收液供給部

31‧‧‧第一噴嘴

32‧‧‧第二噴嘴

33‧‧‧洗淨液噴嘴

34‧‧‧供給源

35‧‧‧空氣噴出口

40‧‧‧回收液儲存部

41‧‧‧液承受部

41a‧‧‧端部

42‧‧‧排出部

50‧‧‧吸引部

60‧‧‧升降部

61‧‧‧板部

61a‧‧‧液承受面

62‧‧‧氣流調整構件

63‧‧‧連結構件

64‧‧‧升降導件

65‧‧‧驅動部

CTR‧‧‧塗佈裝置

ACM‧‧‧基板收容裝置

CNZ‧‧‧塗佈噴嘴

S‧‧‧基板

CONT‧‧‧控制部

K‧‧‧空間

PS1‧‧‧第一位置

PS2‧‧‧第二位置

PS3‧‧‧第三位置

Sa‧‧‧第一面

Sb‧‧‧第二面

Claims (16)

1. 一種基板收容裝置，具備：基板保持部、及杯狀部、及回收液供給部、以及板部；該基板保持部，是用以保持基板；該杯狀部，是用以包圍被保持於上述基板保持部之狀態的上述基板；該回收液供給部，是用以供給：將異物回收於上述基板與上述杯狀部之間的回收液；該板部，是具有平坦地所形成的液承受面，在上述基板的周圍設置成：在被保持在上述基板保持部之狀態的前述基板的第一面與上述液承受面成為平面相同。
2. 如申請專利範圍第1項所述的基板收容裝置，其中，更具備：儲存從上述回收液供給部所供給之上述回收液的回收液儲存部。
3. 如申請專利範圍第2項所述的基板收容裝置，其中，上述杯狀部是具有：包圍上述基板之側部的壁部，及支承上述壁部的底部，上述回收液儲存部，是設置於：包括上述壁部的一部分與上述底部的部分。
4. 如申請專利範圍第2項或第3項所述的基板收容裝置，其中，上述回收液供給部，是具有朝向上述回收液儲存部吐 出上述回收液的第一噴嘴。
5. 如申請專利範圍第4項所述的基板收容裝置，其中，上述第一噴嘴是被設置於上述基板保持部。
6. 如申請專利範圍第2項或第3項所述的基板收容裝置，其中，上述回收液儲存部，是沿著上述基板的外周形成為環狀，上述回收液供給部，是具有朝向上述回收液儲存部的周方向吐出上述回收液的第二噴嘴。
7. 如申請專利範圍第6項所述的基板收容裝置，其中，上述第二噴嘴，是設置有複數個，上述複數第二噴嘴，是以相等間距被配置於上述回收液儲存部的周方向。
8. 如申請專利範圍第2項或第3項所述的基板收容裝置，其中，上述回收液儲存部，是具有排出上述回收液的排出部。
9. 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述的基板收容裝置，其中，更具備：用以對由上述杯狀部所包圍之空間進行吸引的吸引部。
10. 如申請專利範圍第9項所述的基板收容裝置，其中， 上述吸引部具有經由上述杯狀部而連接於外側的吸引路徑。
11. 如申請專利範圍第10項所述的基板收容裝置，其中，上述吸引部，具有設置於上述吸引路徑的氣液分離部。
12. 如申請專利範圍第11項所述的基板收容裝置，其中，更具備：將到達上述氣液分離部而被分離的上述回收液傳送到上述回收液供給部的傳送部。
13. 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述的基板收容裝置，其中，上述杯狀部，具有包圍上述基板側部的壁部，更具備：朝向上述壁部吐出洗淨液的洗淨液噴嘴。
14. 如申請專利範圍第13項所述的基板收容裝置，其中，作為上述洗淨液，是使用與上述回收液同一種類的液體。
15. 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述的基板收容裝置，其中，上述基板保持部，具有吸附上述基板背面的吸附部，上述吸附部，具有朝向上述基板的周圍噴射氣體的氣體噴射部。
16. 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述的 基板收容裝置，其中，上述基板保持部，具有用以調整上述基板溫度的調溫部。