JP3433215B2 - 洗浄装置 - Google Patents
洗浄装置Info
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Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、洗浄停止モードにおい
て、管路中などにバクテリアが発生するのを有効に防止
し、純度の高い超純水を用いて洗浄処理を行うことがで
きる洗浄装置に関する。 【０００２】 【従来の技術】たとえば、ＬＣＤ（Liquid Crystals Di
splay) の製造過程においては、成膜後、レジスタ剥離
後、および、ラビング処理後などに、基板に付着した
り、残存したりしているゴミなどを洗浄する洗浄処理が
行われる。このとき、洗浄効果を高めるために、基板の
付着物（汚染）の種類に応じた洗浄方法を行う洗浄装置
を用いて洗浄が行われる。一般的に、洗浄装置では、超
純水を洗浄液として用いて、基板の洗浄を行う。 【０００３】超純水は、一般に比抵抗が１０ＭΩ・ｃｍ
以上の純水を指し、無機物微粒子、有機物、微生物、溶
存ガスなどの含有量が、通常の純水に比べてはるかに少
ない高純度の水である。したがって、超純水を用いて洗
浄を行う洗浄装置では、その洗浄処理の効果を高めるた
めに、シャワーリング停止時において、たとえば、バク
テリアなどの微生物が超純水中に発生し純度が低下する
のを防止する構成を有している。 【０００４】図２は、従来の洗浄装置を説明するための
図である。図２に示すように、超純水製造装置４から超
純水が管路８６を介して洗浄装置７０に流出される。洗
浄装置７０は、洗浄モードにおいて、管路８６を介して
流入された超純水が、フィルタ７２の方向に切り換えら
れた切換部７６によって、管路８２を介してフィルタ７
２に流出される。超純水は、フィルタ７２でろ過され、
管路８４およびシャワーノズル部７４を介して、基板８
０に対してシャワーリングされる。そして、基板８０に
対してシャワーリングされた超純水は、排出口７８から
排出される。 【０００５】また、洗浄装置７０は、洗浄停止モードに
おいて、管路８６を介して超純水製造装置４から流入さ
れた超純水が、管路８８の方向に切り換えられた切換部
７６によって、管路８８を介して、超純水製造装置４に
再び流出される。このように洗浄装置７０では、洗浄停
止モードにおいて、超純水の流れを停止させることな
く、超純水を管路８６、切換部７６、管路８８および超
純水製造装置４を巡回させる。そのため、洗浄装置７０
では、洗浄停止モードにおいて、流れが停止された状態
で超純水中に発生しやすいバクテリアなどが、管路８６
内の超純水中に発生することを防止することができる。 【０００６】 【発明が解決しようとする課題】しかし、上述した洗浄
装置７０では、シャワーリング停止モードにおいて、管
路８６内にバクテリアが発生することは防止できるが、
超純水が巡回していない管路８２内、フィルタ７２内、
管路８４内などにバクテリアが発生し、超純水の純度が
低下する場合がある。この超純水の純度が低下は、ＬＣ
Ｄ製造過程における、基板の洗浄処理の効果を低め、不
良なＬＣＤが製造される原因となる。また、半導体の製
造過程において、超純水を用いて基板の洗浄を行う場合
にも同様な問題が生じる。 【０００７】上述した従来技術の問題に鑑み、本発明
は、ＬＣＤ製造過程における、洗浄処理の効果を高め、
特性の優れたＬＣＤを製造することを可能にする洗浄装
置を提供することを目的とする。 【０００８】 【課題を解決するための手段】上述した従来技術の問題
を解決し上述した目的を達成するために、本発明の洗浄
装置は、洗浄停止モードにおいても純水の流れが継続し
て維持され、バクテリアなどが発生しないように構成さ
れる。 【０００９】本発明の洗浄装置は、純水をろ過するフィ
ルタ手段と、洗浄モードにおいて、該フィルタ手段と対
象物に純水をシャワーリングする流出口との間に純水流
出経路を確立し、洗浄停止モードにおいて、前記フィル
タ手段を含む純水巡回経路を確立すると共に、前記フィ
ルタ手段から流出した純水の一部を前記流出口に流出さ
せ、残りの純水を前記純水巡回経路を巡回させる切換手
段とを有する。 【００１０】 【００１１】 【作用】本発明の洗浄装置では、洗浄モードにおいて、
フィルタ手段と流出口との間に純水流出経路が確立さ
れ、例えば、純水製造装置からの純水がフィルタ手段に
てろ過され、流出口から対象物に対してシャワーリング
される。一方、本発明の洗浄装置では、洗浄停止モード
において、前記フィルタ手段を含む純水巡回経路が確立
され、前記純水が、該確立された純水巡回経路を、巡回
して流れる。また、当該洗浄停止モードにおいて、例え
ば、前記純水流出経路および純水巡回経路の双方が確立
され、前記フィルタ手段から流出した純水の一部を前記
流出口から流出させ、残りの純水が前記純水巡回経路
を、巡回して流れる。 【００１２】本発明の洗浄装置によれば、洗浄停止モー
ドにおいてフィルタ手段、配管並びに流出口などに生じ
るバクテリアの発生を有効に防止し、洗浄モードにおい
て高純度の超純水を用いて、対象物の洗浄を効果的に行
うことができる。 【００１３】 【実施例】第１実施例について説明する。図１は、本実
施例の洗浄装置の構成図である。本実施例の洗浄装置２
は、対象物としてのＬＣＤ基板１２の洗浄を行う装置で
あって、図１に示すように、フィルタ手段としてのフィ
ルタ６、切換部８および流出口としてのシャワーノズル
１０で構成される。フィルタ６と切換部８とが管路２４
を介して接続され、切換部８とシャワーノズル１０とが
管路２８を介して接続されている。 【００１４】超純水製造装置４は、超純水を製造して流
出し、また、洗浄装置２からの超純水を流入し、流入し
た超純水に対して、たとえば、ろ過などを行い、超純水
中に含まれる不純物を除去し、ろ過された超純水を再び
流出する。また、超純水製造装置４の流出口とフィルタ
６とが管路２０を介して接続され、超純水製造装置４の
流入口と切換部８とが管路２２を介して接続されてい
る。超純水製造装置４で製造される超純水は、一般に比
抵抗が１０ＭΩ・ｃｍ以上の純水を指し、無機物微粒
子、有機物、微生物、溶存ガスなどの含有量が、通常の
純水に比べてはるかに少ない高純度の水である。 【００１５】洗浄装置２の洗浄モードにおける動作につ
いて説明する。超純水製造装置４にて製造された超純水
が管路２０を介してフィルタ６に流出される。フィルタ
６に流入された超純水は、フィルタ６にてろ過されて超
純水中に含まれる不純物が除去され、ろ過された超純水
が管路２４を介して切換部８に流出される。切換部８に
流入された超純水は、切換部８から管路２８を介してシ
ャワーノズル１０に流出され、ＬＣＤ基板１２にシャワ
ーリングされる。ＬＣＤ基板１２は、超純水でシャワー
リングされ、たとえば、表面の付着物が除去される。Ｌ
ＣＤ基板１２にシャワーリングされた超純水は、排出口
１４から外部に排出される。 【００１６】洗浄装置２の洗浄停止モードにおける動作
について説明する。超純水製造装置４にて製造された超
純水が管路２０を介してフィルタ６に流出される。フィ
ルタ６に流入された超純水は、フィルタ６にてろ過され
て超純水中に含まれる不純物が除去され、ろ過された超
純水が管路２４を介して切換部８に流出される。切換部
８に流入された超純水は、切換部８から管路２２を介し
て超純水製造装置４に流出される。 【００１７】超純水製造装置４に流出された超純水は、
たとえば、超純水製造装置４でろ過されて不純物が除去
され、ろ過された超純水が再び管路２０を介して超純水
製造装置４に流出される。つまり、超純水製造装置４の
洗浄停止モードにおいては、超純水は、純水流出経路と
しての、管路２２、超純水製造装置４、管路２０、フィ
ルタ６、管路２４および切換部８を巡回し継続して流
れ、流れが停止することはない。そのため、洗浄装置２
では、洗浄停止モードにおいて、超純水製造装置４、管
路２０、フィルタ６、管路２４、切換部８および管路２
２中にバクテリアなどが発生することを防止し、再度、
洗浄モードを開始した際に、高純度の超純水を用いて効
果的なシャワーリングを行うことができ、優れた特性の
ＬＣＤを製造することが可能である。 【００１８】第２実施例について説明する。本実施例の
洗浄装置の構成は、図１に示す上述した第１実施例の洗
浄装置の構成と同一であるが、切換部８の動作が第１実
施例の洗浄装置と異なる。切換部８の洗浄モードにおけ
る動作は、上述した第１実施例の洗浄装置の洗浄モード
における動作と同じである。 【００１９】洗浄装置の洗浄停止モードにおける動作に
ついて説明する。超純水製造装置４にて製造された超純
水が管路２０を介してフィルタ６に流出される。フィル
タ６に流入された超純水は、フィルタ６にてろ過されて
超純水中に含まれる不純物が除去され、ろ過された超純
水が管路２４を介して切換部８に流出される。 【００２０】切換部８に流入された超純水のうち、一部
が切換部８から漏れ（リークし）て管路２８を介して、
シャワーノズル１０から流出される。また、切換部８に
流入された超純水のうち、上記シャワーノズル１０から
流出される超純水以外の超純水は、上述した第１実施例
の洗浄停止モードの場合と同様に、管路２２、超純水製
造装置４、管路２０、フィルタ６、管路２４および切換
部８を巡回し継続して流され、超純水の流れを停止する
ことはない。 【００２１】上述したように、本実施例の洗浄装置で
は、洗浄停止モードにおいて、超純水は、管路２２、超
純水製造装置４、管路２０、フィルタ６、管路２４およ
び切換部８を停止することなく巡回して流れ、これらに
おいて、超純水の純度を低下させるバクテリアの発生を
防止することができ、優れた特性のＬＣＤを製造するこ
とが可能である。さらに、本実施例の洗浄装置では、洗
浄停止モードにおいて、切換部８からの超純水がわずか
であるが、管２８およびシャワーノズル１０を介して流
出されるため、管路２８およびシャワーノズル１０にお
けるバクテリアの発生も防止することができ、再度、洗
浄モードを開始した際に、高純度の超純水を用いて効果
的なシャワーリングを行うことができ、優れた特性のＬ
ＣＤを製造することが可能である。 【００２２】本発明は、上述した実施例に限定されず、
たとえば、半導体の製造過程において、基板の洗浄を行
う洗浄装置でもよい。 【００２３】 【発明の効果】本発明の洗浄装置によれば、洗浄停止モ
ードにおいて配管などに生じるバクテリアの発生を有効
に防止し、洗浄モードにおいて高純度の超純水を用い
て、対象物の洗浄を効果的に行うことができる。本発明
の洗浄装置の洗浄装置を、ＬＣＤ製造過程および半導体
製造過程における基板の洗浄に用いれば、優れた特性の
ＬＣＤおよび半導体を製造することが可能である。
て、管路中などにバクテリアが発生するのを有効に防止
し、純度の高い超純水を用いて洗浄処理を行うことがで
きる洗浄装置に関する。 【０００２】 【従来の技術】たとえば、ＬＣＤ（Liquid Crystals Di
splay) の製造過程においては、成膜後、レジスタ剥離
後、および、ラビング処理後などに、基板に付着した
り、残存したりしているゴミなどを洗浄する洗浄処理が
行われる。このとき、洗浄効果を高めるために、基板の
付着物（汚染）の種類に応じた洗浄方法を行う洗浄装置
を用いて洗浄が行われる。一般的に、洗浄装置では、超
純水を洗浄液として用いて、基板の洗浄を行う。 【０００３】超純水は、一般に比抵抗が１０ＭΩ・ｃｍ
以上の純水を指し、無機物微粒子、有機物、微生物、溶
存ガスなどの含有量が、通常の純水に比べてはるかに少
ない高純度の水である。したがって、超純水を用いて洗
浄を行う洗浄装置では、その洗浄処理の効果を高めるた
めに、シャワーリング停止時において、たとえば、バク
テリアなどの微生物が超純水中に発生し純度が低下する
のを防止する構成を有している。 【０００４】図２は、従来の洗浄装置を説明するための
図である。図２に示すように、超純水製造装置４から超
純水が管路８６を介して洗浄装置７０に流出される。洗
浄装置７０は、洗浄モードにおいて、管路８６を介して
流入された超純水が、フィルタ７２の方向に切り換えら
れた切換部７６によって、管路８２を介してフィルタ７
２に流出される。超純水は、フィルタ７２でろ過され、
管路８４およびシャワーノズル部７４を介して、基板８
０に対してシャワーリングされる。そして、基板８０に
対してシャワーリングされた超純水は、排出口７８から
排出される。 【０００５】また、洗浄装置７０は、洗浄停止モードに
おいて、管路８６を介して超純水製造装置４から流入さ
れた超純水が、管路８８の方向に切り換えられた切換部
７６によって、管路８８を介して、超純水製造装置４に
再び流出される。このように洗浄装置７０では、洗浄停
止モードにおいて、超純水の流れを停止させることな
く、超純水を管路８６、切換部７６、管路８８および超
純水製造装置４を巡回させる。そのため、洗浄装置７０
では、洗浄停止モードにおいて、流れが停止された状態
で超純水中に発生しやすいバクテリアなどが、管路８６
内の超純水中に発生することを防止することができる。 【０００６】 【発明が解決しようとする課題】しかし、上述した洗浄
装置７０では、シャワーリング停止モードにおいて、管
路８６内にバクテリアが発生することは防止できるが、
超純水が巡回していない管路８２内、フィルタ７２内、
管路８４内などにバクテリアが発生し、超純水の純度が
低下する場合がある。この超純水の純度が低下は、ＬＣ
Ｄ製造過程における、基板の洗浄処理の効果を低め、不
良なＬＣＤが製造される原因となる。また、半導体の製
造過程において、超純水を用いて基板の洗浄を行う場合
にも同様な問題が生じる。 【０００７】上述した従来技術の問題に鑑み、本発明
は、ＬＣＤ製造過程における、洗浄処理の効果を高め、
特性の優れたＬＣＤを製造することを可能にする洗浄装
置を提供することを目的とする。 【０００８】 【課題を解決するための手段】上述した従来技術の問題
を解決し上述した目的を達成するために、本発明の洗浄
装置は、洗浄停止モードにおいても純水の流れが継続し
て維持され、バクテリアなどが発生しないように構成さ
れる。 【０００９】本発明の洗浄装置は、純水をろ過するフィ
ルタ手段と、洗浄モードにおいて、該フィルタ手段と対
象物に純水をシャワーリングする流出口との間に純水流
出経路を確立し、洗浄停止モードにおいて、前記フィル
タ手段を含む純水巡回経路を確立すると共に、前記フィ
ルタ手段から流出した純水の一部を前記流出口に流出さ
せ、残りの純水を前記純水巡回経路を巡回させる切換手
段とを有する。 【００１０】 【００１１】 【作用】本発明の洗浄装置では、洗浄モードにおいて、
フィルタ手段と流出口との間に純水流出経路が確立さ
れ、例えば、純水製造装置からの純水がフィルタ手段に
てろ過され、流出口から対象物に対してシャワーリング
される。一方、本発明の洗浄装置では、洗浄停止モード
において、前記フィルタ手段を含む純水巡回経路が確立
され、前記純水が、該確立された純水巡回経路を、巡回
して流れる。また、当該洗浄停止モードにおいて、例え
ば、前記純水流出経路および純水巡回経路の双方が確立
され、前記フィルタ手段から流出した純水の一部を前記
流出口から流出させ、残りの純水が前記純水巡回経路
を、巡回して流れる。 【００１２】本発明の洗浄装置によれば、洗浄停止モー
ドにおいてフィルタ手段、配管並びに流出口などに生じ
るバクテリアの発生を有効に防止し、洗浄モードにおい
て高純度の超純水を用いて、対象物の洗浄を効果的に行
うことができる。 【００１３】 【実施例】第１実施例について説明する。図１は、本実
施例の洗浄装置の構成図である。本実施例の洗浄装置２
は、対象物としてのＬＣＤ基板１２の洗浄を行う装置で
あって、図１に示すように、フィルタ手段としてのフィ
ルタ６、切換部８および流出口としてのシャワーノズル
１０で構成される。フィルタ６と切換部８とが管路２４
を介して接続され、切換部８とシャワーノズル１０とが
管路２８を介して接続されている。 【００１４】超純水製造装置４は、超純水を製造して流
出し、また、洗浄装置２からの超純水を流入し、流入し
た超純水に対して、たとえば、ろ過などを行い、超純水
中に含まれる不純物を除去し、ろ過された超純水を再び
流出する。また、超純水製造装置４の流出口とフィルタ
６とが管路２０を介して接続され、超純水製造装置４の
流入口と切換部８とが管路２２を介して接続されてい
る。超純水製造装置４で製造される超純水は、一般に比
抵抗が１０ＭΩ・ｃｍ以上の純水を指し、無機物微粒
子、有機物、微生物、溶存ガスなどの含有量が、通常の
純水に比べてはるかに少ない高純度の水である。 【００１５】洗浄装置２の洗浄モードにおける動作につ
いて説明する。超純水製造装置４にて製造された超純水
が管路２０を介してフィルタ６に流出される。フィルタ
６に流入された超純水は、フィルタ６にてろ過されて超
純水中に含まれる不純物が除去され、ろ過された超純水
が管路２４を介して切換部８に流出される。切換部８に
流入された超純水は、切換部８から管路２８を介してシ
ャワーノズル１０に流出され、ＬＣＤ基板１２にシャワ
ーリングされる。ＬＣＤ基板１２は、超純水でシャワー
リングされ、たとえば、表面の付着物が除去される。Ｌ
ＣＤ基板１２にシャワーリングされた超純水は、排出口
１４から外部に排出される。 【００１６】洗浄装置２の洗浄停止モードにおける動作
について説明する。超純水製造装置４にて製造された超
純水が管路２０を介してフィルタ６に流出される。フィ
ルタ６に流入された超純水は、フィルタ６にてろ過され
て超純水中に含まれる不純物が除去され、ろ過された超
純水が管路２４を介して切換部８に流出される。切換部
８に流入された超純水は、切換部８から管路２２を介し
て超純水製造装置４に流出される。 【００１７】超純水製造装置４に流出された超純水は、
たとえば、超純水製造装置４でろ過されて不純物が除去
され、ろ過された超純水が再び管路２０を介して超純水
製造装置４に流出される。つまり、超純水製造装置４の
洗浄停止モードにおいては、超純水は、純水流出経路と
しての、管路２２、超純水製造装置４、管路２０、フィ
ルタ６、管路２４および切換部８を巡回し継続して流
れ、流れが停止することはない。そのため、洗浄装置２
では、洗浄停止モードにおいて、超純水製造装置４、管
路２０、フィルタ６、管路２４、切換部８および管路２
２中にバクテリアなどが発生することを防止し、再度、
洗浄モードを開始した際に、高純度の超純水を用いて効
果的なシャワーリングを行うことができ、優れた特性の
ＬＣＤを製造することが可能である。 【００１８】第２実施例について説明する。本実施例の
洗浄装置の構成は、図１に示す上述した第１実施例の洗
浄装置の構成と同一であるが、切換部８の動作が第１実
施例の洗浄装置と異なる。切換部８の洗浄モードにおけ
る動作は、上述した第１実施例の洗浄装置の洗浄モード
における動作と同じである。 【００１９】洗浄装置の洗浄停止モードにおける動作に
ついて説明する。超純水製造装置４にて製造された超純
水が管路２０を介してフィルタ６に流出される。フィル
タ６に流入された超純水は、フィルタ６にてろ過されて
超純水中に含まれる不純物が除去され、ろ過された超純
水が管路２４を介して切換部８に流出される。 【００２０】切換部８に流入された超純水のうち、一部
が切換部８から漏れ（リークし）て管路２８を介して、
シャワーノズル１０から流出される。また、切換部８に
流入された超純水のうち、上記シャワーノズル１０から
流出される超純水以外の超純水は、上述した第１実施例
の洗浄停止モードの場合と同様に、管路２２、超純水製
造装置４、管路２０、フィルタ６、管路２４および切換
部８を巡回し継続して流され、超純水の流れを停止する
ことはない。 【００２１】上述したように、本実施例の洗浄装置で
は、洗浄停止モードにおいて、超純水は、管路２２、超
純水製造装置４、管路２０、フィルタ６、管路２４およ
び切換部８を停止することなく巡回して流れ、これらに
おいて、超純水の純度を低下させるバクテリアの発生を
防止することができ、優れた特性のＬＣＤを製造するこ
とが可能である。さらに、本実施例の洗浄装置では、洗
浄停止モードにおいて、切換部８からの超純水がわずか
であるが、管２８およびシャワーノズル１０を介して流
出されるため、管路２８およびシャワーノズル１０にお
けるバクテリアの発生も防止することができ、再度、洗
浄モードを開始した際に、高純度の超純水を用いて効果
的なシャワーリングを行うことができ、優れた特性のＬ
ＣＤを製造することが可能である。 【００２２】本発明は、上述した実施例に限定されず、
たとえば、半導体の製造過程において、基板の洗浄を行
う洗浄装置でもよい。 【００２３】 【発明の効果】本発明の洗浄装置によれば、洗浄停止モ
ードにおいて配管などに生じるバクテリアの発生を有効
に防止し、洗浄モードにおいて高純度の超純水を用い
て、対象物の洗浄を効果的に行うことができる。本発明
の洗浄装置の洗浄装置を、ＬＣＤ製造過程および半導体
製造過程における基板の洗浄に用いれば、優れた特性の
ＬＣＤおよび半導体を製造することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】第１実施例の洗浄装置の構成図である。
【図２】従来の洗浄装置の構成図である。
【符号の説明】
２，７０・・・洗浄装置
４・・・超純水製造装置
６，７２・・・フィルタ
８，７６・・・切換部
１０，７４・・・シャワーノズル
１２，８０・・・ＬＣＤ基板
１４，７８・・・排出口
２０，２２，２４，２６，２８，８０，８４，８６，８
８・・・配管
８・・・配管
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ
Ｇ０３Ｆ 7/16 Ｇ０３Ｆ 7/16
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
B08B 3/14
B01D 35/16
B08B 3/10
C02F 1/44
G02F 1/13 101
G03F 7/16
Claims (1)
- (57)【特許請求の範囲】 【請求項１】純水をろ過するフィルタ手段と、洗浄モー
ドにおいて、該フィルタ手段と対象物に純水をシャワー
リングする流出口との間に純水流出経路を確立し、洗浄
停止モードにおいて、前記フィルタ手段を含む純水巡回
経路を確立すると共に、前記フィルタ手段から流出した
純水の一部を前記流出口に流出させ、残りの純水を前記
純水巡回経路を巡回させる切換手段とを有することを特
徴とする洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06980093A JP3433215B2 (ja) | 1993-03-29 | 1993-03-29 | 洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06980093A JP3433215B2 (ja) | 1993-03-29 | 1993-03-29 | 洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06277638A JPH06277638A (ja) | 1994-10-04 |
| JP3433215B2 true JP3433215B2 (ja) | 2003-08-04 |
Family
ID=13413186
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP06980093A Expired - Fee Related JP3433215B2 (ja) | 1993-03-29 | 1993-03-29 | 洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3433215B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6159282B2 (ja) | 2014-03-27 | 2017-07-05 | 株式会社荏原製作所 | 基板処理装置、および基板処理装置の配管洗浄方法 |
-
1993
- 1993-03-29 JP JP06980093A patent/JP3433215B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06277638A (ja) | 1994-10-04 |
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