JP4692997B2 - 処理装置及び処理方法 - Google Patents
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6,7,8,9,10,11 処理装置
30 貯留タンク
31 回収回路
32 調整回路
33 供給回路
40 補充機構
52 気液分離機構
W ウェハ
Claims (6)
- 貯留タンクに所定の割合で複数の処理原液を補充し,該貯留タンク内の複数の処理原液が混合された処理液を基板に供給して処理する処理装置において,
処理原液を前記貯留タンクに補充する補充機構と,処理原液の補充を制御するコントローラと,基板を処理した処理液を前記貯留タンクに回収させる回収回路を備え,
前記補充機構は,一の処理原液を連続して前記貯留タンクに補充し続ける一方で,他の一の処理原液を所定の時間毎に数回に渡って断続して前記貯留タンクに補充することを特徴とする,処理装置。 - 前記一の処理原液が純水であり,前記他の一の処理原液がフッ酸であることを特徴とする,請求項1に記載の処理装置。
- 前記基板を回転自在に保持する保持手段と,前記保持手段に保持された基板に処理液を供給する供給手段を備えていることを特徴とする,請求項1または2に記載の処理装置。
- 前記貯留タンク内の処理液を調整する調整回路と,前記貯留タンク内の処理液を基板に供給する供給回路とを設けたことを特徴とする,請求項1〜3のいずれかに記載の処理装置。
- 前記回収回路の途中に,気液分離機構を配置したことを特徴とする,請求項1〜4のいずれかに記載の処理装置。
- 貯留タンクに貯留された複数の処理原液が混合された処理液を基板に対して供給する処理方法において,
一の処理原液を連続して前記貯留タンクに補充し続ける一方で,他の一の処理原液を所定の時間毎に数回に渡って断続して前記貯留タンクに補充し,貯留タンクに補充した処理原液を混合して生成した処理液を基板に供給することを特徴とする,処理方法。
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