JP4138504B2 - 基板処理装置 - Google Patents

基板処理装置 Download PDF

Info

Publication number
JP4138504B2
JP4138504B2 JP2003005897A JP2003005897A JP4138504B2 JP 4138504 B2 JP4138504 B2 JP 4138504B2 JP 2003005897 A JP2003005897 A JP 2003005897A JP 2003005897 A JP2003005897 A JP 2003005897A JP 4138504 B2 JP4138504 B2 JP 4138504B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
liquid
processing
tank
discharge nozzle
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP2003005897A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2004006631A (ja
Inventor
光明 芳谷
浩司 豊田
永二 山下
聡 鈴木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Screen Holdings Co Ltd
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Screen Holdings Co Ltd
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Screen Holdings Co Ltd, Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd filed Critical Screen Holdings Co Ltd
Priority to JP2003005897A priority Critical patent/JP4138504B2/ja
Priority to KR1020030016824A priority patent/KR100593709B1/ko
Priority to TW092106633A priority patent/TWI224369B/zh
Priority to CNB03107541XA priority patent/CN1280876C/zh
Publication of JP2004006631A publication Critical patent/JP2004006631A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4138504B2 publication Critical patent/JP4138504B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Images

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
この発明は、フラットパネルディスプレイ(FPD)用ガラス基板、半導体ウエハ、プリント基板等の基板を搬送しながら基板に対し洗浄、現像、エッチング、剥離などの処理を施す基板処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
FPD、半導体デバイス、プリント配線板などの製造プロセスにおいて、例えば、薬液を用いて基板を処理した後に、基板を純水で洗浄して、基板に付着した薬液を純水に置換する場合に、搬送ローラによって基板を1枚ずつ水平方向へ搬送しつつ基板上へ純水を吐出して水洗する水平搬送式処理装置が使用される。この処理装置の概略構成の1例を図14に模式的に示す。
【0003】
図14に示した処理装置は、搬入口12および搬出口(図示せず)を有する水洗処理槽10を備え、水洗処理槽10の内部には、図示していないが複数の搬送ローラが並列して配設されている。また、水洗処理槽10の内部には、二点鎖線で示す基板1の搬送路Lを挟んでその上・下両側に、基板1の上・下両面に純水を吹き付ける純水吐出ノズル14がそれぞれ複数個列設されている。水洗処理槽10の搬入口12側には、水洗処理槽10に隣接して薬液処理槽16が設置されており、薬液処理槽16の内部には、基板1の搬送路Lを挟んでその上・下両側に、基板1の上・下両面に薬液を吹き付ける薬液吐出ノズル18がそれぞれ複数個列設されている。そして、基板1は、薬液処理槽16内から搬入口12を通って水洗処理槽10内へ搬入され、搬送ローラにより支持されて水平方向へ搬送されて、水洗処理槽10内から搬出口を通って搬出され、次の乾燥処理部(図示せず)へ搬送されるようになっている。
【0004】
また、水洗処理槽10の底部には、基板1上から水洗処理槽10の内底部に流れ落ちた液が流出する液回収口52が形設されており、その液回収口52に液回収用配管54が連通接続されている。液回収用配管54は、回収液56を貯留する回収タンク58に流路接続されている。また、回収タンク58には、送液用配管60の一端が連通接続され、送液用配管60の先端は、図示していないが純水吐出ノズル14に連通接続されている。この送液用配管60には、フィルタ62およびポンプ64がそれぞれ介挿されている。また、図示していないが、回収タンク58には、純水を補充するための純水供給用配管が接続されている。
【0005】
上記した構成の処理装置では、薬液処理槽16内から上面に薬液2が付着した基板1が水洗処理槽10内へ搬入されてくると、水洗処理槽10内において搬送ローラによって基板1が搬送されつつ純水吐出ノズル14から基板1の上・下両面へ純水が吹き付けられて、基板1の上面に付着した薬液2が純水と置換される。この際、基板1面に吹き付けられた純水は、基板1の上面に付着した薬液2と共に水洗処理槽10の内底部に流下する。水洗処理槽10の内底部に流下した純水と薬液との混合液は、水洗処理槽10の内底部上を液回収口52に向かって流れ、液回収口52から液回収用配管54を通って回収タンク58内へ流入する。そして、回収タンク58内に貯留された回収液56は、送液用配管60を通って純水吐出ノズル14へ戻され再利用される。このように、純水は循環させながら使用される。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
上記したように純水と薬液との混合液を循環させながら基板の処理を行う装置においては、純水と薬液との混合液が再利用されて基板1に付着した薬液と置換されるため、薬液の濃度が次第に高くなり、次第に置換効率が低下することになる。また、薬液を含む液が液回収用配管54、回収タンク58および送液用配管60を通って循環させられるため、回収タンク58の内面、液回収用配管54や送液用配管60の内面、ポンプ64の内部などが汚される、といった問題点がある。
【0007】
一方、基板1上から水洗処理槽10の内底部に流下した純水と薬液との混合液を水洗処理槽10内から廃液として排出するようにすると、廃液量が多くなって廃液処理に費用がかかり、また、純水の使用量も増えてランニングコストが多くかかる、といった問題点がある。
【0008】
この発明は、以上のような事情に鑑みてなされたものであり、純水等の処理液の利用効率を高く維持して処理液の使用量を低減させ、廃液量も少なくすることができるとともに、処理効率を高く維持し、液の循環経路における各部材の汚染も最小限に抑えることができる基板処理装置を提供することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】
請求項1に係る発明は、処理槽内において搬送手段により基板を水平方向へ搬送しつつ処理液吐出手段から基板上へ処理液を吐出して基板を処理する基板処理装置において、前記搬送手段によって基板を、基板の搬送方向と直交する方向において水平面に対し傾斜させた姿勢で搬送するとともに、前記処理液吐出手段を、基板の搬送方向に列設された複数の吐出ノズルで構成し、前記処理槽の内底面上の、傾斜して搬送される基板の低くなった側の縁辺の直下位置付近に、基板の搬送方向に沿って仕切り板を立設し、その仕切り板で処理槽の内底部を仕切って、前記吐出ノズルから吐出され基板面を経由せずにそのまま流下する処理液を回収する回収槽部と吐出ノズルから基板上へ吐出され基板上を低くなった側へ流れて縁辺から流れ落ちる使用済みの処理液を受ける排液槽部とに区画し、前記搬送手段によって搬送される基板が前記吐出ノズルの設置位置を通過しているときに、吐出ノズルから基板上へ吐出されて基板上から流れ落ちる処理液を前記排液槽部が受けるとともに、前記搬送手段によって搬送される基板が前記吐出ノズルの設置位置を通過していないときに、吐出ノズルから吐出され基板面を経由せずにそのまま流下する処理液を前記回収槽部が回収し、前記回収槽部内に回収された処理液を前記吐出ノズルへ戻す液循環系を備えるとともに、前記排液槽部内へ流下した使用済みの処理液を排出する排液路を備えたことを特徴とする。
【0011】
請求項2に係る発明は、請求項1記載の基板処理装置において、前記仕切り板の上端が、傾斜して搬送される基板の低くなった側の縁辺に近接するように配置されたことを特徴とする。
【0012】
請求項3に係る発明は、処理槽内において搬送手段により基板を水平姿勢で水平方向へ搬送しつつ処理液吐出手段から基板上へ処理液を吐出して基板を処理する基板処理装置において、前記処理液吐出手段を、基板の搬送方向に列設された複数の吐出ノズルで構成し、前記処理槽の内底面上の、搬送される基板の両側の縁辺の直下位置付近に、基板の搬送方向に沿ってそれぞれ仕切り板を立設し、その各仕切り板で処理槽の内底部をそれぞれ仕切って、前記吐出ノズルから吐出され基板面を経由せずにそのまま流下する処理液を回収する回収槽部と吐出ノズルから基板上へ吐出され基板上を両側へ流れて両縁辺からそれぞれ流れ落ちる使用済みの処理液を受ける一対の排液槽部とに区画し、前記搬送手段によって搬送される基板が前記吐出ノズルの設置位置を通過しているときに、吐出ノズルから基板上へ吐出されて基板上から流れ落ちる処理液を前記各排液槽部がそれぞれ受けるとともに、前記搬送手段によって搬送される基板が前記吐出ノズルの設置位置を通過していないときに、吐出ノズルから吐出され基板面を経由せずにそのまま流下する処理液を前記回収槽部が回収し、前記回収槽部内に回収された処理液を前記吐出ノズルへ戻す液循環系を備えるとともに、前記各排液槽部内へそれぞれ流下した使用済みの処理液を排出する排液路を備えたことを特徴とする。
【0013】
請求項4に係る発明は、請求項3記載の基板処理装置において、前記各仕切り板の上端が、搬送される基板の両側の縁辺にそれぞれ近接するように配置されたことを特徴とする。
【0014】
請求項5に係る発明は、請求項1ないし請求項4のいずれかに記載の基板処理装置において、前記処理槽の内底面上の、基板の搬入口側に、基板の搬送方向と交差する方向に沿って幅方向仕切り板を立設し、その幅方向仕切り板で処理槽の内底部を仕切って、処理槽内に搬入された基板の前端側縁辺からこぼれ落ちる液体を受ける搬入口側排液槽部を形設し、その搬入口側排液槽部内へ流下した処理液をも排出することを特徴とする。
【0015】
請求項6に係る発明は、請求項5記載の基板処理装置において、前記搬入口側排液槽部と前記排液槽部とを連通させたことを特徴とする。
【0016】
請求項7に係る発明は、処理槽内において搬送手段により基板を水平方向へ搬送しつつ処理液吐出手段から基板上へ処理液を吐出して基板を処理する基板処理装置において、前記搬送手段によって基板を、基板の搬送方向と直交する方向において水平面に対し傾斜させた姿勢で搬送するとともに、前記処理液吐出手段を、基板の搬送方向に列設された複数の吐出ノズルで構成し、前記処理槽の内部の、傾斜して搬送される基板の低くなった側の縁辺の直下位置付近に、基板の搬送方向に沿って、前記吐出ノズルから基板上へ吐出され基板上を低くなった側へ流れて縁辺から流れ落ちる使用済みの処理液を受ける排液樋を横設し、前記搬送手段によって搬送される基板が前記吐出ノズルの設置位置を通過しているときに、吐出ノズルから基板上へ吐出されて基板上から流れ落ちる処理液を前記排液樋が受けるとともに、前記搬送手段によって搬送される基板が前記吐出ノズルの設置位置を通過していないときに、吐出ノズルから吐出され基板面を経由せずにそのまま流下する処理液を前記処理槽の内底部が回収し、前記吐出ノズルから吐出され基板面を経由せずにそのまま流下して前記処理槽の内底部に回収された処理液を前記吐出ノズルへ戻す液循環系を備えるとともに、前記排液樋内へ流下した使用済みの処理液を排出する排液路を備えたことを特徴とする。
【0017】
請求項8に係る発明は、処理槽内において搬送手段により基板を水平姿勢で水平方向へ搬送しつつ処理液吐出手段から基板上へ処理液を吐出して基板を処理する基板処理装置において、前記処理液吐出手段を、基板の搬送方向に列設された複数の吐出ノズルで構成し、前記処理槽の内部の、搬送される基板の両側の縁辺の直下位置付近に、基板の搬送方向に沿って、前記吐出ノズルから基板上へ吐出され基板上を両側へ流れて両縁辺からそれぞれ流れ落ちる使用済みの処理液を受ける一対の排液樋を横設し、前記搬送手段によって搬送される基板が前記吐出ノズルの設置位置を通過しているときに、吐出ノズルから基板上へ吐出されて基板上から流れ落ちる処理液を前記各排液樋がそれぞれ受けるとともに、前記搬送手段によって搬送される基板が前記吐出ノズルの設置位置を通過していないときに、吐出ノズルから吐出され基板面を経由せずにそのまま流下する処理液を前記処理槽の内底部が回収し、前記吐出ノズルから吐出され基板面を経由せずにそのまま流下して前記処理槽の内底部に回収された処理液を前記吐出ノズルへ戻す液循環系を備えるとともに、前記各排液樋内へそれぞれ流下した使用済みの処理液を排出する排液路を備えたことを特徴とする。
【0018】
請求項9に係る発明は、請求項3、請求項4または請求項8記載の基板処理装置において、前記搬送手段によって基板を、基板の搬送方向と直交する方向において基板中央部が基板両端部より高くなるように支持して搬送することを特徴とする。
【0019】
請求項10に係る発明は、請求項3、請求項4または請求項8記載の基板処理装置において、前記吐出ノズルから基板上へ、基板表面に対し基板の搬送方向と直交する方向における基板両端部側へそれぞれ傾けて処理液を吐出することを特徴とする。
【0020】
請求項11に係る発明は、請求項3、請求項4または請求項8記載の基板処理装置において、前記搬送手段によって搬送される基板の前後両端側縁辺の直下位置付近に、基板の搬送方向と直交する方向に沿って、基板の前後両端側縁辺からそれぞれこぼれ落ちる使用済みの処理液を受ける一対の補助排液樋を配設し、その一対の補助排液樋を基板の移動と同期して水平方向へ移動するように支持し、前記各補助排液樋内へそれぞれ流下した使用済みの処理液を排出する補助排液路を備えたことを特徴とする。
【0021】
請求項12に係る発明は、請求項1ないし請求項11のいずれかに記載の基板処理装置において、前記処理槽が、純水で基板を洗浄する水洗処理槽であり、その水洗処理槽の基板搬入口側に隣接して、薬液で基板を処理する薬液処理槽が設けられたことを特徴とする。
【0023】
請求項1に係る発明の基板処理装置においては、基板が搬送方向と直交する方向において水平面に対し傾斜した姿勢で搬送されるので、吐出ノズルから基板上へ吐出され基板の処理に使用された処理液は、基板上を低くなった側へ流れて基板の縁辺から流れ落ちる。このとき、基板の低くなった側の縁辺の直下位置付近には仕切り板が立設されていてその仕切り板で処理槽の内底部が仕切られ回収槽部と排液槽部とに区画されているので、基板が吐出ノズルの設置位置を通過しているときに、基板の縁辺から流れ落ちた使用済みの処理液は、排液槽部内に流下し、排液路を通って排出される。一方、基板が吐出ノズルの設置位置を通過していないときに、吐出ノズルから吐出され基板面を経由せずにそのまま流下する処理液は、回収槽部内に回収され、液循環系によって吐出ノズルへ戻され再利用される。したがって、使用済みの処理液は再利用されることなく廃棄されるため、基板の処理効率が低下することはなく、また、液循環系を通って使用済みの処理液が流れることがないため、液循環系における各部材の汚染も最小限に抑えられる。一方、回収槽部内に回収された処理液は再利用されるため、処理液の利用効率が高く維持されて処理液の使用量が低減し、廃液量も少なくなる。
【0024】
請求項2に係る発明の基板処理装置では、基板上を低くなった側へ流れて基板の縁辺から流れ落ちた使用済みの処理液は、確実に排液槽部内に流下し、仕切り板の上端を越えて回収槽部内へ流下することがない。
【0025】
請求項3に係る発明の基板処理装置においては、処理槽内において基板が搬送手段によって水平姿勢で水平方向へ搬送されつつ、吐出ノズルから基板上へ処理液が吐出されて基板が処理される。そして、基板の処理に使用された処理液は、基板上を両側へ流れて基板の両縁辺からそれぞれ流れ落ちる。このとき、基板の両側の縁辺の直下位置付近にはそれぞれ仕切り板が立設されていてその各仕切り板で処理槽の内底部がそれぞれ仕切られ回収槽部と一対の排液槽部とに区画されているので、基板が吐出ノズルの設置位置を通過しているときに、基板の両縁辺からそれぞれ流れ落ちた使用済みの処理液は、各排液槽部内に流下し、排液路を通って排出される。一方、基板が吐出ノズルの設置位置を通過していないときに、吐出ノズルから吐出され基板面を経由せずにそのまま流下する処理液は、回収槽部内に回収され、液循環系によって吐出ノズルへ戻され再利用される。したがって、使用済みの処理液は再利用されることなく廃棄されるため、基板の処理効率が低下することはなく、また、液循環系を通って使用済みの処理液が流れることがないため、液循環系における各部材の汚染も最小限に抑えられる。一方、回収槽部内に回収された処理液は再利用されるため、処理液の利用効率が高く維持されて処理液の使用量が低減し、廃液量も少なくなる。
【0026】
請求項4に係る発明の基板処理装置では、基板上を両側へ流れて基板の両縁辺からそれぞれ流れ落ちた使用済みの処理液は、確実に各排液槽部内に流下し、仕切り板の上端を越えて回収槽部内へ流下することがない。
【0027】
請求項5に係る発明の基板処理装置では、基板の搬入口付近において、前段の処理で使用されて基板に付着した処理液が基板の前端側縁辺からこぼれ落ちたり、吐出ノズルから基板搬送方向の前方に向けて基板上へ吐出された処理液が基板の前端側縁辺からこぼれ落ちたりしたとき、基板の搬入口側には幅方向仕切り板が立設されていてその幅方向仕切り板で処理槽の内底部が仕切られ搬入口側排液槽部が形設されているので、基板の前端側縁辺からこぼれ落ちた液体は、搬入口側排液槽部内に流下し、排出される。請求項7に係る発明の装置では、搬入口側排液槽部内へ流下した液体は、排液槽部内へ流下した使用済みの処理液と共に排液路を通って排出される。
【0028】
請求項7に係る発明の基板処理装置においては、基板が搬送方向と直交する方向において水平面に対し傾斜した姿勢で搬送されるので、吐出ノズルから基板上へ吐出され基板の処理に使用された処理液は、基板上を低くなった側へ流れて基板の縁辺から流れ落ちる。このとき、基板の低くなった側の縁辺の直下位置付近には基板の搬送方向に沿って排液樋が横設されているので、基板が吐出ノズルの設置位置を通過しているときに、基板の縁辺から流れ落ちた使用済みの処理液は、排液樋内に流下し、排液路を通って排出される。一方、基板が吐出ノズルの設置位置を通過していないときに、吐出ノズルから吐出され基板面を経由せずにそのまま流下する処理液は、処理槽の内底部に回収され、液循環系によって吐出ノズルへ戻され再利用される。したがって、使用済みの処理液は再利用されることなく廃棄されるため、基板の処理効率が低下することはなく、また、液循環系を通って使用済みの処理液が流れることがないため、液循環系における各部材の汚染も最小限に抑えられる。一方、処理槽の内底部に回収された処理液は再利用されるため、処理液の利用効率が高く維持されて処理液の使用量が低減し、廃液量も少なくなる。
【0029】
請求項8に係る発明の基板処理装置においては、処理槽内において基板が搬送手段によって水平姿勢で水平方向へ搬送されつつ、吐出ノズルから基板上へ処理液が吐出されて基板が処理される。そして、基板の処理に使用された処理液は、基板上を両側へ流れて基板の両縁辺からそれぞれ流れ落ちる。このとき、基板の両側の縁辺の直下位置付近にはそれぞれ基板の搬送方向に沿って排液樋が横設されているので、基板が吐出ノズルの設置位置を通過しているときに、基板の両縁辺からそれぞれ流れ落ちた使用済みの処理液は、各排液樋内に流下し、排液路を通って排出される。一方、基板が吐出ノズルの設置位置を通過していないときに、吐出ノズルから吐出され基板面を経由せずにそのまま流下する処理液は、処理槽の内底部に回収され、液循環系によって吐出ノズルへ戻され再利用される。したがって、使用済みの処理液は再利用されることなく廃棄されるため、基板の処理効率が低下することはなく、また、液循環系を通って使用済みの処理液が流れることがないため、液循環系における各部材の汚染も最小限に抑えられる。一方、処理槽の内底部に回収された処理液は再利用されるため、処理液の利用効率が高く維持されて処理液の使用量が低減し、廃液量も少なくなる。
【0030】
請求項9に係る発明の基板処理装置では、基板は、搬送方向と直交する方向において中央部が両端部より高くなるように支持して搬送されるので、吐出ノズルから基板上へ吐出され基板の処理に使用された処理液は、基板の中央部で左右に分かれ基板上で滞留することなく基板上を中央部からそれぞれ両端部へ流れて基板の縁辺から流れ落ちる。
【0031】
請求項10に係る発明の基板処理装置では、基板表面に対し基板の搬送方向と直交する方向における基板両端部側へそれぞれ傾けて処理液が吐出されるので、吐出ノズルから基板上へ吐出された処理液には、それぞれ両端部に向かう流れが形成され、処理液は基板上をそれぞれ両端部へ流れて基板の縁辺から流れ落ちる。
【0032】
請求項11に係る発明の基板処理装置では、搬送手段によって基板が搬送されているときに、吐出ノズルから基板上へ吐出され基板の処理に使用された処理液が基板の前後両端側縁辺からそれぞれこぼれ落ちることがあっても、基板の前後両端側縁辺の直下位置付近には基板の搬送方向と直交する方向に沿って一対の補助排液樋が配設され、その一対の補助排液樋は基板の移動と同期して水平方向へ移動するように支持されているので、基板の前後両端側縁辺からそれぞれこぼれ落ちた使用済みの処理液は、各補助排液樋内に流下し、補助排液路を通って排出される。
【0033】
請求項12に係る発明の基板処理装置では、薬液処理槽で基板の処理に使用されて基板に付着した薬液は、水洗処理槽において基板が純水で洗浄されることにより基板上から除去されて純水で置換される。
【0034】
【発明の実施の形態】
以下、この発明の好適な実施形態について図1ないし図13を参照しながら説明する。
【0035】
図1ないし図3は、この発明の実施形態の1例を示し、図1は、基板処理装置の概略構成を示す模式的平面図であり、図2および図3は、図1のII−II矢視断面図およびIII−III矢視断面図である。この基板処理装置において基板の処理を行う主要部の構成および動作は、図14に関して説明した従来の装置と同様であるので、図1ないし図3においても図14で使用した符号を同一部材に付して、重複する説明を省略する。
【0036】
この基板処理装置においては、図示していないが、水洗処理槽10の内部に複数並列して配設された各搬送ローラが、基板1の搬送方向と直交する方向において傾斜するようにそれぞれ支持されている。そして、図3に示すように、基板1は、その搬送方向と直交する方向において傾斜した姿勢で水平方向へ搬送されるようになっている。なお、図2では、便宜上、基板1を傾斜姿勢に描いていない。また、純水吐出ノズル14から吐出された純水が、薬液処理槽16内から水洗処理槽10内へ搬入されてきた基板1の上面を介して上流側の薬液処理槽16内へ流れ込まないようにするため、純水吐出ノズル14のうち水洗処理槽10の搬入口12に最も近い位置に設置された純水吐出ノズル14aは、図2に示すように、基板1の搬送方向における前方に向けて純水を吐出するように吐出口が配置されている。さらに、この基板処理装置では、水洗処理槽10の内底部が仕切り板20および幅方向仕切り板22によって仕切られ、水洗処理槽10の内底部が回収槽部24とL字形の排液槽部26とに区画されている。
【0037】
仕切り板20は、水洗処理槽10の内底面上の、傾斜して搬送される基板1の低くなった側の縁辺の直下位置付近に、基板1の搬送方向に沿って立設されている。仕切り板20の上端は、図3の(a)に示しているように、基板1の低くなった側の縁辺に近接するように配置することが好ましい。また、幅方向仕切り板22は、水洗処理槽10の内底面上の、基板1の搬入口12側に、基板1の搬送方向と直交する方向に沿って立設されている。そして、幅方向仕切り板22の一端部が仕切り板20の一端部に、鉤形をなすように連接している。
【0038】
また、水洗処理槽10の、回収槽部24の底部には、液回収口28が形設されており、その液回収口28に液回収用配管30が連通接続されている。液回収用配管30は、回収液32を貯留する回収タンク34に流路接続されている。また、回収タンク34には、フィルタ38およびポンプ40がそれぞれ介挿された送液用配管36の一端が連通接続され、送液用配管36の先端は、図示していないが、純水吐出ノズル14、14aに連通接続されている。一方、水洗処理槽10の、排液槽部26の底部には、液排出口42が形設されており、その液排出口42に排液管44が連通接続されている。
【0039】
上記した構成を備えた基板処理装置において、図3の(a)に示すように、純水吐出ノズル14の設置位置を基板1が通過しているときは、純水吐出ノズル14から基板1上へ吐出された純水は、基板1の上面に付着した薬液2と共に基板1上を低くなった側へ流れて基板1の縁辺から流れ落ちる。また、純水吐出ノズル14から基板1の下面側へ吐出された純水の一部は、基板1の下面を伝って基板1の低くなった側へ流れ基板1の縁辺から流れ落ちる。基板1の縁辺から流れ落ちた純水と薬液との混合液は、排液槽部26内に流下し、排液槽部26内から液排出口42を通って排液管44内へ流出し、排液管44を通り廃液として排出される。また、純水吐出ノズル14から基板1の下面側へ吐出された純水の一部は、基板1の下面から滴り落ちて回収槽部24内に流下する。そして、回収槽部24内に回収された比較的少量の純水は、回収槽部24内から液回収口28を通って液回収用配管30内へ流出し、液回収用配管30を通って回収タンク34内へ流入する。そして、回収タンク34内に貯留された回収液32は、送液用配管36を通って純水吐出ノズル14、14aへ戻され再利用される。なお、このとき下側の純水吐出ノズル14から吐出された純水は、基板1に触れた後にその一部が回収タンク34に戻ることになるが、実質的な不都合はない。すなわち、基板1の下面に付着した薬液には重力が作用するため、上面と比べ下面には元々少量の薬液しか付着していない。そのため、基板1の下面に触れた純水はごく少量の薬液しか含まないため、回収タンク34に戻して再利用しても実質的に不都合はない。また、薬液処理槽16には、基板1の下面に付着している薬液を除去する液切りローラを使用する場合もあり、その場合には水洗処理槽10に入る基板1の下面に付着している薬液はさらに少なくなるので、実質的に不都合はない。
【0040】
一方、図3の(b)に示すように、純水吐出ノズル14の設置位置を基板1が通過していないときは、純水吐出ノズル14から吐出された純水は、基板1面を経由することなくそのまま回収槽部24内に流下する。回収槽部24内に流下して回収された多量の純水は、回収槽部24内から液回収口28を通って液回収用配管30内へ流出し、液回収用配管30を通って回収タンク34内へ流入する。そして、回収タンク34内に貯留された回収液(純水)32は、送液用配管36を通って純水吐出ノズル14、14aへ戻され再利用される。この場合には、排液槽部26内に純水が流下することはほとんどなく、排液槽部26内から排液管44を通って排出される廃液量は極く少量である。
【0041】
また、水洗処理槽10の搬入口12付近においては、薬液処理槽16内から水洗処理槽10内へ搬入されてきて薬液が付着した基板1に対し、純水吐出ノズル14aから基板1の搬送方向の前方に向けて純水が吐出されるため、基板1上へ吐出された純水は、基板1の上面に付着した薬液2と共に基板1上を前方側へ流れて基板1の前端側縁辺からこぼれ落ちる。基板1の前端側縁辺からこぼれ落ちた純水と薬液との混合液は、幅方向仕切り板22によって回収槽部24から隔てられた排液槽部26内に流下し、排液槽部26の内底面上を液排出口42に向かって流れる。そして、排液槽部26内から液排出口42を通って排液管44内へ流出し、排液管44を通り廃液として排出される。
【0042】
上記したように、この基板処理装置では、使用済みの純水はほとんど再利用されることなく薬液と一緒に廃液として廃棄され、基板1の洗浄処理には純水が使用されるので、基板1の処理効率が低下することはない。また、純水と薬液との混合液は、液回収用配管30内、回収タンク34内、送液用配管36内、ポンプ40の内部などを流れることがないので、それらの部材が薬液で汚染されることは最小限に抑えられる。一方、回収槽部24内に回収された純水は再利用されるため、純水の使用量を低減させることができ、また、廃液量も少なくなる。
【0043】
上記した基板処理装置では、純水吐出ノズル14のうち水洗処理槽10の搬入口12に最も近い位置に設置された純水吐出ノズル14aは、基板1の搬送方向における前方に向けて純水を吐出するように吐出口が配置されている。また、水洗処理槽10内へ搬入されてきた基板1の上面を介して上流側の薬液処理槽16内へ純水が流れ込まないようにするために、水洗処理槽10の搬入口12の近傍にエアーナイフを設置するようにしてもよいが、このような構成を備えた装置では、上記した実施形態のように排液槽部26をL字形とし、水洗処理槽10内へ搬入されてきた基板1の前端側縁辺からこぼれ落ちる純水および薬液を排液槽部26内に流下させる必要がある。これに対し、水洗処理槽10内へ搬入されてきた基板1の前端側縁辺からこぼれ落ちる純水および薬液の量がそれほど多くならないような場合などには、図4に模式的平面図を示すように、幅方向仕切り板22を設けずに、水洗処理槽10の全長にわたり基板1の搬送方向に沿って仕切り板46を立設し、その仕切り板46によって水洗処理槽10の内底部を回収槽部48と排液槽部50とに区画するようにしてもよい。
【0044】
本実施形態では、排液管44を通って排出される液を廃液として廃棄しているが、この発明においては排液は必ずしも廃液を意味しない。例えば薬液処理槽の下流に水洗処理槽を2つ連続して設ける場合において、両方の水洗処理槽に本発明を適用し、次のように構成することが考えられる。すなわち、下流側の水洗処理槽では、水洗のために新しい未使用の純水を使用する。そして、下流側の水洗処理槽において排液管44から排出された液は、廃棄することなく、上流側の水洗処理槽へ送り、その上流側の水洗処理槽において、新液として水洗に使用することができる。これは、上流側の水洗処理槽へ搬入される基板には薬液が多量に付着しているのに対し、下流側の水洗処理槽へ搬入される基板は、上流側の水洗処理槽においてすでに一度洗浄され、付着している薬液が極めて少量であるためである。それゆえ、下流側の水洗処理槽において排液管44から排出される液は、薬液を極めて少量しか含んでおらず、上流側の水洗処理槽においては新液として使用可能な程度であるからである。このように下流側の水洗処理槽で排液管44から排出される液を上流側の水洗処理槽へ送って再利用することで、純水の使用量をより低減することができる。
【0045】
また、上記実施形態では、排液槽部26を、仕切り板20によって形成される部分と幅方向仕切り板22によって形成される部分とを連通させた一体のL字形としているが、それら2つの部分から別個に排液管を設けて、その両方の排液管を回収タンク34に接続して連通させてもよい。
【0046】
次に、図5および図6は、この発明の別の実施形態を示し、図5は、基板処理装置の概略構成を示す模式的平面図であり、図6は、図5のVI−VI矢視断面図である。この基板処理装置においても、基板の処理を行う主要部の構成および動作は、図14に関して説明した従来の装置と同様であるので、重複する説明を省略する。また、図5および図6において図1ないし図3で使用した符号と同一符号を付した部材は、図1ないし図3に関して説明した上記部材と同一機能を有する同一部材を示し、それらについても重複する説明を省略する。
【0047】
この基板処理装置においても、図示していないが、水洗処理槽10の内部に複数並列して配設された各搬送ローラが、基板1の搬送方向と直交する方向において傾斜するようにそれぞれ支持されており、図6に示すように、基板1は、その搬送方向と直交する方向において傾斜した姿勢で水平方向へ搬送されるようになっている。そして、この基板処理装置では、水洗処理槽10の内部に、基板1の搬送方向に沿って排液樋66が横設されている。この排液樋66は、傾斜して搬送される基板1の低くなった側の縁辺の直下位置付近に配置されている。また、排液樋66の底部には、液排出口68が形設されており、その液排出口68に排液管70が連通接続されている。
【0048】
一方、水洗処理槽10の内底部には、液回収口72が形設されており、その液回収口72に液回収用配管74が連通接続されている。そして、図示していないが、図1ないし図3に示した装置と同様に、液回収用配管74は、回収液を貯留する回収タンクに流路接続され、回収タンクには、フィルタおよびポンプがそれぞれ介挿された送液用配管の一端が連通接続されており、その送液用配管の先端が純水吐出ノズル14、14aに連通接続されている。
【0049】
上記した構成を備えた基板処理装置において、図6に示すように、純水吐出ノズル14の設置位置を基板1が通過しているときは、純水吐出ノズル14から基板1上へ吐出された純水は、基板1の上面に付着した薬液2と共に基板1上を低くなった側へ流れて基板1の縁辺から流れ落ちる。また、純水吐出ノズル14から基板1の下面側へ吐出された純水の一部は、基板1の下面を伝って基板1の低くなった側へ流れ基板1の縁辺から流れ落ちる。基板1の縁辺から流れ落ちた純水と薬液との混合液は、排液樋66内に流下し、排液樋66内から液排出口68を通って排液管70内へ流出し、排液管70を通り廃液として排出される。また、純水吐出ノズル14から基板1の下面側へ吐出された純水の一部は、基板1の下面から滴り落ちて水洗処理槽10の内底部に流下する。そして、水洗処理槽10の内底部に回収された比較的少量の純水は、水洗処理槽10の内底部から液回収口72を通って液回収用配管74内へ流出し、液回収用配管74を通って回収タンク内へ流入する。そして、回収タンク内に貯留された回収液は、送液用配管を通って純水吐出ノズル14、14aへ戻され再利用される。
【0050】
一方、純水吐出ノズル14の設置位置を基板1が通過していないときは、純水吐出ノズル14から吐出された純水は、基板1面を経由することなくそのまま水洗処理槽10の内底部に流下する。水洗処理槽10の内底部に流下して回収された多量の純水は、水洗処理槽10の内底部から液回収口72を通って液回収用配管74内へ流出し、液回収用配管74を通って回収タンク内へ流入する。そして、回収タンク内に貯留された回収液(純水)は、送液用配管を通って純水吐出ノズル14、14aへ戻され再利用される。この場合には、排液樋66内に純水が流下することはほとんどなく、排液樋66内から排液管70を通って排出される廃液量は極く少量である。
【0051】
上記したように、この基板処理装置においても、使用済みの純水はほとんど再利用されることなく薬液と一緒に廃液として廃棄され、基板1の洗浄処理には純水が使用されるので、基板1の処理効率が低下することはない。また、純水と薬液との混合液は、液回収用配管74内、回収タンク内、送液用配管内、ポンプの内部などを流れることがないので、それらの部材が薬液で汚染されることは最小限に抑えられる。一方、水洗処理槽10の内底部に回収された純水は再利用されるため、純水の使用量を低減させることができ、また、廃液量も少なくなる。
【0052】
次に、図7および図8は、この発明のさらに別の実施形態を示し、図7は、基板処理装置の概略構成を示す模式的平面図であり、図8は、図7のVIII−VIII矢視断面図である。この基板処理装置においても、基板の処理を行う主要部の構成および動作は、図14に関して説明した従来の装置と同様であるので、重複する説明を省略する。また、図7および図8において図1ないし図3で使用した符号と同一符号を付した部材は、図1ないし図3に関して説明した上記部材と同一機能を有する同一部材を示し、それらについても重複する説明を省略する。
【0053】
この基板処理装置においては、図示していないが、水洗処理槽10の内部に複数並列して配設された各搬送ローラが水平にそれぞれ支持されており、図8に示すように、基板1は、水平姿勢で水平方向へ搬送されるようになっている。そして、この基板処理装置では、水洗処理槽10の内底部が一対の仕切り板76a、76bおよび幅方向仕切り板78によって仕切られ、水洗処理槽10の内底部が回収槽部80と一対の排液槽部82a、82bおよび搬入口側排液槽部84とに区画されている。
【0054】
一対の仕切り板76a、76bは、水洗処理槽10の内底面上の、水平姿勢で搬送される基板1の両側の縁辺の直下位置付近に、それぞれ基板1の搬送方向に沿って立設されている。仕切り板76a、76bの上端は、図8に示しているように、基板1の両側の縁辺にそれぞれ近接するように配置することが好ましい。また、幅方向仕切り板78は、水洗処理槽10の内底面上の、基板1の搬入口側に、基板1の搬送方向と直交する方向に沿って立設されている。そして、幅方向仕切り板78の両端部が各仕切り板76a、76bの一端部にそれぞれ鉤形をなすように連接しており、一対の排液槽部82a、82bおよび搬入口側排液槽部84は、互いに流路的に連絡している。
【0055】
また、水洗処理槽10の、回収槽部80の底部には、液回収口86が形設されており、その液回収口86に液回収用配管88が連通接続されている。液回収用配管88は、図示していないが、図1ないし図3に示した装置と同様に、回収液を貯留する回収タンクに流路接続され、回収タンクには、フィルタおよびポンプがそれぞれ介挿された送液用配管の一端が連通接続されており、その送液用配管の先端が純水吐出ノズル14、14aに連通接続されている。一方、水洗処理槽10の、排液槽部82aの底部には、液排出口90が形設されており、その液排出口90に排液管92が連通接続されている。
【0056】
上記した構成を備えた基板処理装置において、図8に示すように、純水吐出ノズル14の設置位置を基板1が通過しているときは、純水吐出ノズル14から基板1上へ吐出された純水は、基板1の上面に付着した薬液2と共に基板1上を両側へ流れて基板1の両縁辺からそれぞれ流れ落ちる。また、純水吐出ノズル14から基板1の下面側へ吐出された純水の一部は、基板1の下面を伝って基板1の両側へ流れ基板1の両縁辺から流れ落ちる。基板1の両縁辺からそれぞれ流れ落ちた純水と薬液との混合液は、各排液槽部82a、82b内にそれぞれ流下し、排液槽部82a、82b内から液排出口90を通って排液管92内へ流出し、排液管92を通り廃液として排出される。また、純水吐出ノズル14から基板1の下面側へ吐出された純水の一部は、基板1の下面から滴り落ちて回収槽部80内に流下する。そして、回収槽部80内に回収された比較的少量の純水は、回収槽部80内から液回収口86を通って液回収用配管88内へ流出し、液回収用配管88を通って回収タンク内へ流入する。そして、回収タンク内に貯留された回収液は、送液用配管を通って純水吐出ノズル14、14aへ戻され再利用される。
【0057】
一方、純水吐出ノズル14の設置位置を基板1が通過していないときは、純水吐出ノズル14から吐出された純水は、基板1面を経由することなくそのまま回収槽部80内に流下する。回収槽部80内に流下して回収された多量の純水は、回収槽部80内から液回収口86を通って液回収用配管88内へ流出し、液回収用配管88を通って回収タンク内へ流入する。そして、回収タンク内に貯留された回収液(純水)は、送液用配管を通って純水吐出ノズル14、14aへ戻され再利用される。この場合には、排液槽部82a、82b内に純水が流下することはほとんどなく、排液槽部82a、82b内から排液管92を通って排出される廃液量は極く少量である。
【0058】
また、水洗処理槽10の搬入口付近においては、薬液処理槽16内から水洗処理槽10内へ搬入されてきて薬液が付着した基板1に対し、純水吐出ノズル14aから基板1の搬送方向の前方に向けて純水が吐出されるため、基板1上へ吐出された純水は、基板1の上面に付着した薬液2と共に基板1上を前方側へ流れて基板1の前端側縁辺からこぼれ落ちる。基板1の前端側縁辺からこぼれ落ちた純水と薬液との混合液は、幅方向仕切り板78によって回収槽部80から隔てられた搬入口側排液槽部84内に流下し、搬入口側排液槽部84の内底面上を液排出口90に向かって流れる。そして、排液槽部82a内から液排出口90を通って排液管92内へ流出し、排液管92を通り廃液として排出される。
【0059】
この基板処理装置においても、図1ないし図3に示した装置と同様に、基板1の処理効率が低下することがなく、また、液回収用配管88内、回収タンク内、送液用配管内、ポンプの内部などの部材が薬液で汚染されることが最小限に抑えられ、一方、純水の使用量を低減させることができ、また、廃液量も少なくなる、といった作用効果が得られる。
【0060】
また、図9および図10は、この発明のさらに別の実施形態を示し、図9は、基板処理装置の概略構成を示す模式的平面図であり、図10は、図9のX−X矢視断面図である。この基板処理装置においても、基板の処理を行う主要部の構成および動作は、図14に関して説明した従来の装置と同様であるので、重複する説明を省略する。また、図9および図10において図1ないし図3で使用した符号と同一符号を付した部材は、図1ないし図3に関して説明した上記部材と同一機能を有する同一部材を示し、それらについても重複する説明を省略する。
【0061】
この基板処理装置においては、図示していないが、水洗処理槽10の内部に複数並列して配設された各搬送ローラが水平にそれぞれ支持されており、図10に示すように、基板1は、水平姿勢で水平方向へ搬送されるようになっている。そして、この基板処理装置では、水洗処理槽10の内部に、基板1の搬送方向に沿って一対の排液樋94a、94bがそれぞれ横設されている。この一対の排液樋94a、94bは、水平姿勢で搬送される基板1の両側の縁辺の直下位置付近にそれぞれ配置されている。また、各排液樋94a、94bの底部には、それぞれ液排出口96a、96bが形設されており、その各液排出口96a、96bにそれぞれ排液管98a、98bが連通接続されている。
【0062】
一方、水洗処理槽10の内底部には、液回収口100が形設されており、その液回収口100に液回収用配管102が連通接続されている。そして、図示していないが、図1ないし図3に示した装置と同様に、液回収用配管102は、回収液を貯留する回収タンクに流路接続され、回収タンクには、フィルタおよびポンプがそれぞれ介挿された送液用配管の一端が連通接続されており、その送液用配管の先端が純水吐出ノズル14、14aに連通接続されている。
【0063】
上記した構成を備えた基板処理装置において、図10に示すように、純水吐出ノズル14の設置位置を基板1が通過しているときは、純水吐出ノズル14から基板1上へ吐出された純水は、基板1の上面に付着した薬液2と共に基板1上を両側へ流れて基板1の両縁辺からそれぞれ流れ落ちる。また、純水吐出ノズル14から基板1の下面側へ吐出された純水の一部は、基板1の下面を伝って基板1の両側へ流れ基板1の両縁辺からそれぞれ流れ落ちる。基板1の両縁辺からそれぞれ流れ落ちた純水と薬液との混合液は、各排液樋94a、94b内に流下し、各排液樋94a、94b内から液排出口96a、96bを通って排液管98a、98b内へ流出し、排液管98a、98bを通り廃液としてそれぞれ排出される。また、純水吐出ノズル14から基板1の下面側へ吐出された純水の一部は、基板1の下面から滴り落ちて水洗処理槽10の内底部に流下する。そして、水洗処理槽10の内底部に回収された比較的少量の純水は、水洗処理槽10の内底部から液回収口100を通って液回収用配管102内へ流出し、液回収用配管102を通って回収タンク内へ流入する。そして、回収タンク内に貯留された回収液は、送液用配管を通って純水吐出ノズル14、14aへ戻され再利用される。
【0064】
一方、純水吐出ノズル14の設置位置を基板1が通過していないときは、純水吐出ノズル14から吐出された純水は、基板1面を経由することなくそのまま水洗処理槽10の内底部に流下する。水洗処理槽10の内底部に流下して回収された多量の純水は、水洗処理槽10の内底部から液回収口100を通って液回収用配管102内へ流出し、液回収用配管102を通って回収タンク内へ流入する。そして、回収タンク内に貯留された回収液(純水)は、送液用配管を通って純水吐出ノズル14、14aへ戻され再利用される。この場合には、排液樋94a、94b内に純水が流下することはほとんどなく、排液樋94a、94b内から排液管98a、98bを通って排出される廃液量は極く少量である。
【0065】
この基板処理装置においても、図5および図6に示した装置と同様に、基板1の処理効率が低下することがなく、また、液回収用配管102内、回収タンク内、送液用配管内、ポンプの内部などの部材が薬液で汚染されることが最小限に抑えられ、一方、純水の使用量を低減させることができ、また、廃液量も少なくなる、といった作用効果が得られる。
【0066】
図7および図8に示した実施形態や図9および図10に示した実施形態のように、基板1を水平姿勢で水平方向へ搬送するようにしたときは、純水吐出ノズル14から基板1上へ吐出された純水と薬液との混合液が基板1上を流れにくい、といった可能性がある。このような場合には、図11に概略側面図を示すように、基板1の下面中央部に当接して基板1を支持する搬送ローラ104の径を、基板1の下面両端部にそれぞれ当接して基板1を支持する搬送ローラ106、106の径より大きくし、基板1を、その搬送方向と直交する方向において中央部が両端部より高くなるように支持して搬送するような構成とすればよい。このような構成とすることにより、純水吐出ノズル14から基板1上へ吐出された純水と基板表面上の薬液との混合液は、基板1の中央部で左右に分かれ基板1上で滞留することなく基板1上を中央部からそれぞれ両端部へ流れて基板1の両縁辺から流れ落ちることとなる。
【0067】
また、図12に概略側面図を示すように、各純水吐出ノズル14を、その吐出口が基板1の両端部の方へ向くようにそれぞれ配置するような構成としてもよい。このような構成とすることにより、各純水吐出ノズル14から基板1上へ、基板1表面に対し搬送方向と直交する方向における両端部側へそれぞれ傾けて純水が吐出されるので、各純水吐出ノズル14から基板1上へ吐出された純水には、それぞれ両端部に向かう流れが形成され、純水は薬液と混ざって基板1上を両端部へ流れて基板1の縁辺から流れ落ちることとなる。
【0068】
また、図13に基板処理装置の模式的平面図を示すように、水平姿勢で水平方向へ搬送される基板1の前後両端側縁辺の直下位置付近に、それぞれ搬送方向と直交する方向に沿って一対の補助排液樋108a、108bを配設し、その一対の補助排液樋108a、108bを基板1の移動と同期して水平方向へ移動するように支持するような構成としてもよい。このような構成を備えた基板処理装置では、基板1が搬送されているときに、純水吐出ノズル14から基板1上へ吐出され基板1の洗浄に使用されて薬液と混合された純水が基板1の前後両端側縁辺からそれぞれこぼれ落ちることがあっても、基板1の前後両端側縁辺からそれぞれこぼれ落ちた純水と薬液との混合液は、各補助排液樋108a、108b内にそれぞれ流下し、各補助排液樋108a、108bに接続された補助排液路(図示せず)を通って排出されることとなる。
なお、上述した記載においては、薬液処理槽16に隣接して水洗処理槽10を備えた基板処理装置について説明したが、この発明は、それ以外の洗浄、現像、エッチング、剥離などの処理を行う基板処理装置にも適用することが可能である。
【0069】
【発明の効果】
請求項1、請求項3、請求項7および請求項8に係る各発明の基板処理装置を使用すると、純水等の処理液の利用効率を高く維持して処理液の使用量を低減させることができるとともに、廃液量も少なくすることができる。また、基板の処理効率を高く維持することができるとともに、液の循環経路における各部材の汚染も最小限に抑えることができる。
【0070】
請求項2に係る発明の基板処理装置では、基板上を低くなった側へ流れて基板の縁辺から流れ落ちた使用済みの処理液を確実に廃液として排出することができる。また、請求項4に係る発明の基板処理装置では、基板上を両側へ流れて基板の両縁辺からそれぞれ流れ落ちた使用済みの処理液を確実に廃液として排出することができる。
【0071】
請求項5に係る発明の基板処理装置では、基板の搬入口付近において、基板の前端側縁辺からこぼれ落ちた液体を廃液として排出することができる。
【0072】
請求項6に係る発明の基板処理装置では、基板の搬入口付近において、基板の前端側縁辺からこぼれ落ちた液体を、排液槽部内へ流下した使用済みの処理液と共に廃液として排出することができる。
【0073】
請求項9および請求項10に係る各発明の基板処理装置では、吐出ノズルから基板上へ吐出され基板の処理に使用された処理液を、基板上で滞留させることなく基板の両端部へそれぞれ流動させて基板の縁辺から流れ落ちるようにすることができる。
【0074】
請求項11に係る発明の基板処理装置では、基板が搬送されているときに基板の前後両端側縁辺からそれぞれこぼれ落ちた使用済みの処理液を、廃液として排出することができる。
【0075】
請求項12に係る発明の基板処理装置では、薬液処理槽で使用されて基板に付着した薬液を水洗処理槽において基板上から除去して純水で置換する処理において、純水の使用量を低減させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の実施形態の1例を示し、基板処理装置の概略構成を示す模式的平面図である。
【図2】図1のII−II矢視断面図である。
【図3】図1のIII−III矢視断面図である。
【図4】この発明の別の実施形態を示し、基板処理装置の概略構成を示す模式的平面図である。
【図5】この発明のさらに別の実施形態を示し、基板処理装置の概略構成を示す模式的平面図である。
【図6】図5のVI−VI矢視断面図である。
【図7】この発明のさらに別の実施形態を示し、基板処理装置の概略構成を示す模式的平面図である。
【図8】図7のVIII−VIII矢視断面図である。
【図9】この発明のさらに別の実施形態を示し、基板処理装置の概略構成を示す模式的平面図である。
【図10】図9のX−X矢視断面図である。
【図11】基板を水平姿勢で水平方向へ搬送するときに、基板上へ吐出された純水が基板上を流れやすくするための構成例を示し、基板処理装置の一部を示す概略側面図である。
【図12】同じく、基板上へ吐出された純水が基板上を流れやすくするための別の構成例を示し、基板処理装置の一部を示す概略側面図である。
【図13】図9に示した基板処理装置の変形例を示す模式的平面図である。
【図14】従来の基板処理装置の概略構成の1例を模式的に示す側面図である。
【符号の説明】
1 基板
2 薬液
10 水洗処理槽
12 水洗処理槽の搬入口
14 純水吐出ノズル
16 薬液処理槽
18 薬液噴出ノズル
20、46、76a、76b 仕切り板
22、78 幅方向仕切り板
24、48、80 回収槽部
26、50、82a、82b 排液槽部
28、72、86、100 液回収口
30、74、88、102 液回収用配管
32 回収液
34 回収タンク
36 送液用配管
40 ポンプ
42、68、90、96a、96b 液排出口
44、70、92、98a、98b 排液管
66、94a、94b 排液樋
84 搬入口側排液槽部
104、106 搬送ローラ
108a、108b 補助排液樋

Claims (12)

  1. 処理槽内において搬送手段により基板を水平方向へ搬送しつつ処理液吐出手段から基板上へ処理液を吐出して基板を処理する基板処理装置において、
    前記搬送手段によって基板を、基板の搬送方向と直交する方向において水平面に対し傾斜させた姿勢で搬送するとともに、前記処理液吐出手段を、基板の搬送方向に列設された複数の吐出ノズルで構成し、
    前記処理槽の内底面上の、傾斜して搬送される基板の低くなった側の縁辺の直下位置付近に、基板の搬送方向に沿って仕切り板を立設し、その仕切り板で処理槽の内底部を仕切って、前記吐出ノズルから吐出され基板面を経由せずにそのまま流下する処理液を回収する回収槽部と吐出ノズルから基板上へ吐出され基板上を低くなった側へ流れて縁辺から流れ落ちる使用済みの処理液を受ける排液槽部とに区画し、前記搬送手段によって搬送される基板が前記吐出ノズルの設置位置を通過しているときに、吐出ノズルから基板上へ吐出されて基板上から流れ落ちる処理液を前記排液槽部が受けるとともに、前記搬送手段によって搬送される基板が前記吐出ノズルの設置位置を通過していないときに、吐出ノズルから吐出され基板面を経由せずにそのまま流下する処理液を前記回収槽部が回収し、
    前記回収槽部内に回収された処理液を前記吐出ノズルへ戻す液循環系を備えるとともに、前記排液槽部内へ流下した使用済みの処理液を排出する排液路を備えたことを特徴とする基板処理装置。
  2. 前記仕切り板の上端が、傾斜して搬送される基板の低くなった側の縁辺に近接するように配置された請求項1記載の基板処理装置。
  3. 処理槽内において搬送手段により基板を水平姿勢で水平方向へ搬送しつつ処理液吐出手段から基板上へ処理液を吐出して基板を処理する基板処理装置において、
    前記処理液吐出手段を、基板の搬送方向に列設された複数の吐出ノズルで構成し、
    前記処理槽の内底面上の、搬送される基板の両側の縁辺の直下位置付近に、基板の搬送方向に沿ってそれぞれ仕切り板を立設し、その各仕切り板で処理槽の内底部をそれぞれ仕切って、前記吐出ノズルから吐出され基板面を経由せずにそのまま流下する処理液を回収する回収槽部と吐出ノズルから基板上へ吐出され基板上を両側へ流れて両縁辺からそれぞれ流れ落ちる使用済みの処理液を受ける一対の排液槽部とに区画し、前記搬送手段によって搬送される基板が前記吐出ノズルの設置位置を通過しているときに、吐出ノズルから基板上へ吐出されて基板上から流れ落ちる処理液を前記各排液槽部がそれぞれ受けるとともに、前記搬送手段によって搬送される基板が前記吐出ノズルの設置位置を通過していないときに、吐出ノズルから吐出され基板面を経由せずにそのまま流下する処理液を前記回収槽部が回収し、
    前記回収槽部内に回収された処理液を前記吐出ノズルへ戻す液循環系を備えるとともに、前記各排液槽部内へそれぞれ流下した使用済みの処理液を排出する排液路を備えたことを特徴とする基板処理装置。
  4. 前記各仕切り板の上端が、搬送される基板の両側の縁辺にそれぞれ近接するように配置された請求項3記載の基板処理装置。
  5. 前記処理槽の内底面上の、基板の搬入口側に、基板の搬送方向と交差する方向に沿って幅方向仕切り板を立設し、その幅方向仕切り板で処理槽の内底部を仕切って、処理槽内に搬入された基板の前端側縁辺からこぼれ落ちる液体を受ける搬入口側排液槽部を形設し、その搬入口側排液槽部内へ流下した処理液をも排出する請求項1ないし請求項4のいずれかに記載の基板処理装置。
  6. 前記搬入口側排液槽部と前記排液槽部とを連通させた請求項5記載の基板処理装置。
  7. 処理槽内において搬送手段により基板を水平方向へ搬送しつつ処理液吐出手段から基板上へ処理液を吐出して基板を処理する基板処理装置において、
    前記搬送手段によって基板を、基板の搬送方向と直交する方向において水平面に対し傾斜させた姿勢で搬送するとともに、前記処理液吐出手段を、基板の搬送方向に列設された 複数の吐出ノズルで構成し、
    前記処理槽の内部の、傾斜して搬送される基板の低くなった側の縁辺の直下位置付近に、基板の搬送方向に沿って、前記吐出ノズルから基板上へ吐出され基板上を低くなった側へ流れて縁辺から流れ落ちる使用済みの処理液を受ける排液樋を横設し、前記搬送手段によって搬送される基板が前記吐出ノズルの設置位置を通過しているときに、吐出ノズルから基板上へ吐出されて基板上から流れ落ちる処理液を前記排液樋が受けるとともに、前記搬送手段によって搬送される基板が前記吐出ノズルの設置位置を通過していないときに、吐出ノズルから吐出され基板面を経由せずにそのまま流下する処理液を前記処理槽の内底部が回収し、
    前記吐出ノズルから吐出され基板面を経由せずにそのまま流下して前記処理槽の内底部に回収された処理液を前記吐出ノズルへ戻す液循環系を備えるとともに、前記排液樋内へ流下した使用済みの処理液を排出する排液路を備えたことを特徴とする基板処理装置。
  8. 処理槽内において搬送手段により基板を水平姿勢で水平方向へ搬送しつつ処理液吐出手段から基板上へ処理液を吐出して基板を処理する基板処理装置において、
    前記処理液吐出手段を、基板の搬送方向に列設された複数の吐出ノズルで構成し、
    前記処理槽の内部の、搬送される基板の両側の縁辺の直下位置付近に、基板の搬送方向に沿って、前記吐出ノズルから基板上へ吐出され基板上を両側へ流れて両縁辺からそれぞれ流れ落ちる使用済みの処理液を受ける一対の排液樋を横設し、前記搬送手段によって搬送される基板が前記吐出ノズルの設置位置を通過しているときに、吐出ノズルから基板上へ吐出されて基板上から流れ落ちる処理液を前記各排液樋がそれぞれ受けるとともに、前記搬送手段によって搬送される基板が前記吐出ノズルの設置位置を通過していないときに、吐出ノズルから吐出され基板面を経由せずにそのまま流下する処理液を前記処理槽の内底部が回収し、
    前記吐出ノズルから吐出され基板面を経由せずにそのまま流下して前記処理槽の内底部に回収された処理液を前記吐出ノズルへ戻す液循環系を備えるとともに、前記各排液樋内へそれぞれ流下した使用済みの処理液を排出する排液路を備えたことを特徴とする基板処理装置。
  9. 前記搬送手段によって基板を、基板の搬送方向と直交する方向において基板中央部が基板両端部より高くなるように支持して搬送する請求項3、請求項4または請求項8記載の基板処理装置。
  10. 前記吐出ノズルから基板上へ、基板表面に対し基板の搬送方向と直交する方向における基板両端部側へそれぞれ傾けて処理液を吐出する請求項3、請求項4または請求項8記載の基板処理装置。
  11. 前記搬送手段によって搬送される基板の前後両端側縁辺の直下位置付近に、基板の搬送方向と直交する方向に沿って、基板の前後両端側縁辺からそれぞれこぼれ落ちる使用済みの処理液を受ける一対の補助排液樋を配設し、その一対の補助排液樋を基板の移動と同期して水平方向へ移動するように支持し、前記各補助排液樋内へそれぞれ流下した使用済みの処理液を排出する補助排液路を備えた請求項3、請求項4または請求項8記載の基板処理装置。
  12. 前記処理槽が、純水で基板を洗浄する水洗処理槽であり、その水洗処理槽の基板搬入口側に隣接して、薬液で基板を処理する薬液処理槽が設けられた請求項1ないし請求項11のいずれかに記載の基板処理装置。
JP2003005897A 2002-03-27 2003-01-14 基板処理装置 Expired - Lifetime JP4138504B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003005897A JP4138504B2 (ja) 2002-03-27 2003-01-14 基板処理装置
KR1020030016824A KR100593709B1 (ko) 2002-03-27 2003-03-18 기판처리장치
TW092106633A TWI224369B (en) 2002-03-27 2003-03-25 Substrate processing apparatus
CNB03107541XA CN1280876C (zh) 2002-03-27 2003-03-27 基板处理装置

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002087609 2002-03-27
JP2003005897A JP4138504B2 (ja) 2002-03-27 2003-01-14 基板処理装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2004006631A JP2004006631A (ja) 2004-01-08
JP4138504B2 true JP4138504B2 (ja) 2008-08-27

Family

ID=30446080

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003005897A Expired - Lifetime JP4138504B2 (ja) 2002-03-27 2003-01-14 基板処理装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4138504B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7173916B2 (ja) 2019-04-04 2022-11-16 ファナック株式会社 機械学習装置および機械学習方法

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100889953B1 (ko) * 2007-12-10 2009-03-20 삼성전기주식회사 에칭 장치
WO2010087435A1 (ja) * 2009-02-02 2010-08-05 シャープ株式会社 基板処理装置
JP5710921B2 (ja) 2010-09-22 2015-04-30 株式会社Screenホールディングス 基板処理装置
JP5701551B2 (ja) * 2010-09-22 2015-04-15 株式会社Screenホールディングス 基板処理装置
JP5655554B2 (ja) * 2010-12-27 2015-01-21 大日本印刷株式会社 現像処理装置および現像処理方法
CN102626695B (zh) * 2011-09-28 2015-04-08 北京京东方光电科技有限公司 基板清洗系统
JP7312738B2 (ja) * 2020-12-11 2023-07-21 芝浦メカトロニクス株式会社 基板処理装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7173916B2 (ja) 2019-04-04 2022-11-16 ファナック株式会社 機械学習装置および機械学習方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2004006631A (ja) 2004-01-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101073340B1 (ko) 기판 세정 처리 장치
KR100593709B1 (ko) 기판처리장치
JP5290081B2 (ja) 基板処理装置
TWI344173B (ja)
WO2010087435A1 (ja) 基板処理装置
JP2004273984A (ja) 基板処理方法および基板処理装置
JP4138504B2 (ja) 基板処理装置
JP5965304B2 (ja) 塗布装置
JP2007300129A (ja) 基板処理装置
KR100834702B1 (ko) 반송처리장치
JPH1070103A (ja) 半導体ウェーハウェットエッチング処理装置
JP2004095926A (ja) 基板処理装置
JP3987362B2 (ja) 基板処理装置
JP2019162748A (ja) 版洗浄装置および版洗浄方法
JP3863086B2 (ja) 基板処理装置
JP4050538B2 (ja) 基板処理装置
JP2008227195A (ja) 液処理装置
JP2004016997A (ja) 基板の処理装置及び処理方法
JP6723000B2 (ja) 基板処理装置
JP2005064312A (ja) 基板処理方法および基板処理装置
KR102545295B1 (ko) 처리 유체 추출 장치 및 이를 포함하는 에칭 장치
TW201429570A (zh) 板玻璃洗淨裝置以及板玻璃洗淨方法
CN110265320B (zh) 基板处理装置及基板处理方法
JP2011129758A (ja) 基板処理装置
KR20080021227A (ko) 세정수 공급장치

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20051122

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20071211

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080311

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080508

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20080603

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20080605

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Ref document number: 4138504

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110613

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110613

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110613

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120613

Year of fee payment: 4

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120613

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120613

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130613

Year of fee payment: 5

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term