WO2010087435A1 - 基板処理装置 - Google Patents

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WO2010087435A1
WO2010087435A1 PCT/JP2010/051228 JP2010051228W WO2010087435A1 WO 2010087435 A1 WO2010087435 A1 WO 2010087435A1 JP 2010051228 W JP2010051228 W JP 2010051228W WO 2010087435 A1 WO2010087435 A1 WO 2010087435A1
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cleaning chamber
substrate
chamber
cleaning
processing apparatus
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真 田辺
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シャープ株式会社
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    • B08B3/02—Cleaning by the force of jets or sprays
    • B08B3/022—Cleaning travelling work
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    • H01L21/6704—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
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    • H01L21/6776—Continuous loading and unloading into and out of a processing chamber, e.g. transporting belts within processing chambers
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1303—Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs

Definitions

  • the present invention relates to a substrate processing apparatus for supplying a chemical solution or a cleaning solution to a substrate such as a glass substrate used for a liquid crystal display panel while conveying the substrate.
  • liquid crystal display panels have been widely used as display units for home appliances such as computers and televisions.
  • a liquid crystal display panel has a configuration in which a pair of glass substrates composed of a thin film transistor (TFT) substrate and a color filter (CF) substrate are arranged in parallel to face each other at a predetermined interval, and liquid crystal is filled between the substrates. I am doing.
  • TFT thin film transistor
  • CF color filter
  • the glass substrate surface is sequentially subjected to a plurality of processing steps such as a film forming process on a glass substrate surface, a resist film forming process, an exposure process, a resist developing process, an etching process, and a resist stripping process.
  • a TFT or the like is formed on the substrate.
  • a method is employed in which a metal film is formed on the surface of the glass substrate by a film forming process and then this metal film is etched into a predetermined pattern.
  • a resist which is a photosensitive resin is used as a mask in the etching process, and the resist is removed by a peeling process after the etching process.
  • a stripping treatment apparatus that supplies a stripping solution to the front and back surfaces of the glass substrate by a shower method is employed.
  • a general resist stripping apparatus has a configuration in which a plurality of stripping chambers are arranged side by side, and a glass substrate is sequentially transported from the neutral chamber to the stripping chambers one by one, and the resist stripping process using a stripping solution is performed. After the resist stripping process is performed, the wafer is transported to the cleaning chamber and washed with pure water. In this case, the glass substrate is transported through each peeling chamber from a neutral chamber disposed on the most upstream side of the resist stripping apparatus toward a cleaning chamber disposed on the most downstream side.
  • FIG. 7 shows a schematic configuration of the peeling chamber 90 and the cleaning chamber 100 provided in the resist peeling apparatus 201 as viewed from the front
  • FIG. 8 shows a cross-sectional view taken along line BB of FIG.
  • the resist stripping apparatus 201 is tilted at an angle of, for example, 15 degrees from the upright state in which the glass substrate 2 is erected vertically to the back surface 2b side, that is, at an angle of 75 degrees with respect to the horizontal direction. It is an apparatus that removes resist while being conveyed in a standing state.
  • the separation chamber 90 and the cleaning chamber 100 are partitioned by a partition wall 101, and the partition wall 101 is provided with a substrate insertion port 101 a that opens in a slit shape.
  • the peeling chamber 90 is provided with a peeling liquid discharge bar 7 for supplying a peeling liquid to the front surface 2 a and the back surface 2 b of the glass substrate 2.
  • Air jet bars 12 are provided in the vicinity of the upstream and downstream sides of the substrate insertion port 101a, and high pressure air is jetted from the air jet bar 12 to adhere to the front surface 2a and the back surface 2b of the glass substrate 2. By removing the stripping solution, the stripping solution is prevented from being brought into the adjacent cleaning chamber 100.
  • the cleaning chamber 100 is divided into two chambers, a rough cleaning chamber 103 on the upstream side and a precision cleaning chamber 104 on the downstream side, by a partition plate 106 erected on the bottom wall 105.
  • 103 and 104 include two front-side pure water discharge bars 18 for supplying pure water 5 to the front surface 2a of the glass substrate 2, and one back-side pure water discharge for supplying pure water 5 to the back surface 2b of the glass substrate 2.
  • a bar 19 is arranged.
  • Each of the pure water discharge bars 18 and 19 is provided with a plurality of nozzles 18a and 19a for discharging the pure water 5 in a shower shape.
  • the glass substrate 2 is transferred to the cleaning chambers 103 and 104 while supporting the back surface 2 b of the glass substrate 2 and the lower end of the glass substrate 2.
  • a plurality of transport rollers 10 are provided along the transport direction.
  • the support roller 9 is disposed on the back surface 2b side which is the lower side of the inclination direction of the glass substrate 2, and its axis is parallel to the glass substrate 2 to be conveyed, that is, inclined at an angle of 75 degrees.
  • the support roller 9 is rotatably supported by a roller shaft 9a by a ball bearing 9b, and the roller shaft 9a has an upper end and a lower end on the upper wall 107 and the lower wall 108 of the cleaning chamber 100. It is fixed.
  • a plurality of roller shafts 9a are provided at predetermined intervals along the transport direction.
  • roller shaft 9a is supported by the front end of the roller shaft support plate 110 standing on the rear wall 109 of the cleaning chamber 100 to prevent eccentricity. It is designed not to slip.
  • the roller shaft support plate 110 has a plurality of openings 110 a through which pure water 5 that flows down the rear wall 109 of the cleaning chamber 100 passes.
  • the pure water 5 that has flowed down the rear wall 109 and the front wall 111 of the cleaning chamber 100 is discharged from the drain ports 21 and 22 formed in the bottom wall 105 of each cleaning chamber 103.
  • the conveyance roller 10 that supports the lower end of the glass substrate 2 is fixed to one end of the drive shaft 10a.
  • a gear 10 b is attached to the other end of the drive shaft 10 a, and a gear 11 b that meshes with the gear 10 b is attached to the rotating shaft 11 a of the motor 11.
  • the glass substrate 2 can be transported by a frictional force generated between the transport roller 10 and the lower end of the glass substrate 2.
  • Air is blown to the front surface 2a and back surface 2b of the glass substrate 2 conveyed from the peeling chamber 90 to the cleaning chamber 100 by the air blowing bar 12 arranged on the upstream side of the partition wall 101, and the attached peeling liquid is removed. It has been broken.
  • the removal of the stripping solution by the air ejection bar 12 prevents the glass substrate 2 from being greatly bent and brought into contact with the substrate insertion port 101a of the partition wall 101, so that the pressure of the ejected air cannot be increased. A considerable amount of the stripping solution remains on the front surface 2 a and the back surface 2 b of 2 and is brought into the cleaning chamber 100 together with the glass substrate 2.
  • the upstream rough cleaning chamber 103 Due to the stripping solution brought into the cleaning chamber 100, the upstream rough cleaning chamber 103 generates a mixed solution (concentrated drainage) H of the stripping solution and the pure water 5 having a high mixing ratio of the stripping solution, and the downstream side In the precision cleaning chamber 104, since the stripping solution is appropriately removed in the rough cleaning chamber 13, a mixed solution (diluted waste liquid) L of the stripping solution and the pure water 5 with a low mixing rate of the stripping solution is generated. .
  • the concentrated drainage H collected from the drainage port 21 of the rough cleaning chamber 103 is discarded. Specifically, the concentrated effluent H is boiled by a boiler, turned into powdery waste, and then discarded.
  • the diluted drainage L collected from the drainage port 22 of the precision cleaning chamber 104 can remove the stripping solution component relatively easily by bacteria or the like, pure water used in the cleaning chamber 100 is used. It is used again as 5.
  • the diluted effluent L is once collected in the collection tank 25, purified by bacteria, etc., and sent again to the pure water discharge bars 18 and 19 through the pump 26 and the filter 27.
  • the following patent document is mentioned as a prior art document relevant to this invention.
  • the discharged pure water 5 is discharged from the glass substrate 2.
  • the concentrated drainage H mixed with the stripping solution remaining on the front surface 2a and the back surface 2b is discharged from the drainage port 21 of the bottom wall 105 of the rough cleaning chamber 103.
  • the upstream end 2c of the glass substrate 2 passes through the pure water discharge bars 18 and 19 and the downstream end 2d of the next glass substrate 2 is conveyed to the positions of the pure water discharge bars 18 and 19,
  • the discharged pure water 5 hits the rear wall 109 and the front wall 111 without passing through the glass substrate 2 and flows down.
  • the pure water 5 that flows down the rear wall 109 and the front wall 111 without passing through the glass substrate 2 is discharged from the drain port 21 of the bottom wall 105 with almost no stripping liquid contained therein.
  • the discharged concentrated effluent H is diluted, and as a result, the amount of liquid to be boiled by a boiler for disposal increases, resulting in an increase in cost.
  • the problem to be solved by the present invention is to reduce the concentrated drainage discharged from the cleaning chamber in the substrate processing apparatus provided with a cleaning chamber for supplying a cleaning solution such as pure water to the chemical-treated substrate, It is an object of the present invention to provide a substrate processing apparatus capable of improving the utilization efficiency of diluted waste liquid collected from a cleaning chamber.
  • a substrate processing apparatus includes a substrate transport unit that transports a substrate by tilting the substrate from an upright state to a back surface side by a predetermined angle, and discharges a cleaning liquid onto the substrate surface transported by the substrate transport unit.
  • the substrate processing apparatus comprising a cleaning chamber for supplying a cleaning liquid by means, the cleaning chamber is divided into an upstream rough cleaning chamber and a downstream precision cleaning chamber by a partition plate standing on the bottom wall, The bottom wall of each of the rough cleaning chamber and the fine cleaning chamber is provided with a drain port, and the rough cleaning chamber receives the cleaning liquid discharged from the cleaning liquid discharging means and not passing through the substrate surface.
  • a recovery tub is provided so as to incline downward toward the precision cleaning chamber, and a discharge port of the recovery tub for discharging the cleaning liquid flowing in the recovery tub faces the precision cleaning chamber beyond the partition plate. Is provided as It is intended to be subject matter of.
  • the upstream rough cleaning chamber flows down from the cleaning liquid discharging means without passing through the substrate surface, that is, without hitting the surface of the substrate to which, for example, a chemical solution is attached.
  • a recovery tank for receiving the cleaning liquid is provided so as to incline downward toward the downstream side of the precision cleaning chamber, and a recovery port for discharging the cleaning liquid flowing in the recovery tank has a rough cleaning chamber and a precision cleaning chamber.
  • the upstream end of the substrate to be transported passes through the cleaning liquid discharge means of the rough cleaning chamber so that it can be separated from the partition plate erected on the bottom wall to face the precision cleaning chamber. Until the downstream end of the next substrate is transported to the position of the cleaning liquid discharge means, the cleaning liquid discharged and discharged from the cleaning liquid discharge means is received by the recovery tank and guided into the precision cleaning chamber and discharged. To be done That.
  • the concentrated drainage liquid recovered from the drainage port provided in the bottom wall of the rough cleaning chamber is not diluted by the cleaning liquid that flows down without passing through the substrate surface, so that the amount of liquid that needs to be disposed of can be reduced. it can.
  • the cleaning liquid received by the recovery tank is discharged to the precision cleaning chamber, the reusable diluted drainage recovered from the drainage port provided on the bottom wall of the precision cleaning chamber can be increased. In addition, it is possible to improve the utilization efficiency of the diluted drainage recovered from the cleaning chamber.
  • the substrate transport means includes a plurality of support rollers that support the back surface of the substrate and a plurality of transport rollers that transport while supporting the lower end of the substrate, and the support rollers are rotatable about a roller shaft.
  • an intermediate portion of the roller shaft is supported in contact with a front end edge of a roller shaft support plate erected on the rear wall of the rough cleaning chamber, and the roller shaft support plate
  • An opening through which cleaning water that flows down the rear wall of the rough cleaning chamber is formed, and the recovery tub is disposed below the opening, so that the rough cleaning chamber can be disposed without passing through the substrate surface.
  • the washing water flowing down the rear wall is received by the recovery rod without being blocked by the roller shaft support plate provided for preventing the eccentricity of the roller shaft.
  • the rear end portion of the recovery rod is fixed to the rear wall of the rough cleaning chamber, and the front end portion is fixed to the roller shaft support plate. If it is fixed to the rear wall of the chamber and the front end is fixed to the roller shaft via a bracket, it is easy to attach the recovery rod to the rough cleaning chamber, and the front and rear ends of the recovery rod Since the portion is fixed, it is possible to prevent the collection basket from being bent due to the weight of the cleaning liquid flowing in the collection basket.
  • a cleaning liquid discharge means for supplying a cleaning liquid to the back surface of the substrate is further provided.
  • a chemical processing chamber that is partitioned from the cleaning chamber via a partition wall and supplies a chemical solution to the substrate surface, and the substrate is inserted into the partition wall in a slit shape.
  • air jetting means for jetting air on the substrate surface is provided in the vicinity of the upstream side and the downstream side of the mouth.
  • the chemical solution may be a stripping solution for stripping the resist formed on the substrate surface, or the cleaning solution may be pure water.
  • the upstream end of the transported substrate passes through the cleaning liquid discharge means of the rough cleaning chamber, and the downstream end of the next substrate is transferred to the position of the cleaning liquid discharge means.
  • the cleaning liquid discharged from the cleaning liquid discharging means and not passing through the substrate surface is received by the recovery tank, guided to the precision cleaning chamber, and discharged, so that the drain port provided on the bottom wall of the rough cleaning chamber Since the concentrated waste liquid recovered from the liquid is not diluted by the cleaning liquid that flows down without passing through the substrate surface, the amount of the concentrated waste liquid that needs to be discarded can be reduced.
  • the cleaning liquid received by the recovery tank is discharged to the precision cleaning chamber, the reusable diluted drainage recovered from the drain outlet provided on the bottom wall of the precision cleaning chamber can be increased. In addition, it is possible to improve the utilization efficiency of the diluted drainage recovered from the cleaning chamber.
  • FIG. 3 is a cross-sectional view taken along the line AA of the rough washing chamber in FIG. 2. It is the figure which showed schematic structure of the air ejection bar with which the resist peeling apparatus of FIG. 1 is provided.
  • FIG. 3 is a cross-sectional view taken along the line AA of the rough cleaning chamber of FIG.
  • FIG. 8 is a view showing a cross section taken along line BB of the rough cleaning chamber of FIG.
  • FIG. 8 is a cross-sectional view taken along line BB of the rough cleaning chamber of FIG. 7 and shows a state in which pure water flows down the rear wall of the rough cleaning chamber.
  • the substrate processing apparatus of this embodiment is a resist peeling apparatus used when manufacturing the glass substrate for liquid crystal display panels.
  • the resist stripping apparatus 1 shown in FIG. 1 is in a state where the glass substrate 2 is tilted at an angle of, for example, 15 degrees from the upright state in which the glass substrate 2 is vertically erected, that is, at an angle of 75 degrees with respect to the horizontal direction.
  • the stripping solution 4 is supplied to the resist formed on the surface 2a of the glass substrate 2 while being conveyed in the state.
  • the resist stripping apparatus 1 has a configuration in which a plurality of stripping chambers 40 to 90 are arranged side by side, and the glass substrate 2 is transferred from the neutral chamber 30 to the stripping chambers 40 to 90 one by one. Then, a resist stripping process using the stripping solution 4 is performed.
  • the separation chambers 40 to 90 are partitioned by partition walls 51 to 91, and the partition walls 51 to 91 are provided with substrate insertion openings 51a to 91a that are opened in a slit shape.
  • the neutral chamber 30 and the separation chamber 40 are partitioned by a partition wall 41, and the separation chamber 90 and the cleaning chamber 100 are partitioned by a partition wall 101.
  • the partition walls 41 and 101 are opened in a slit shape. Substrate insertion openings 41a and 101a are provided.
  • the partition wall 31 on the upstream side of the neutral chamber 30 is provided with a substrate insertion port 31a that opens in a slit shape.
  • Shutters 3 and 3 are provided at the upstream and downstream substrate insertion openings 31 a and 41 a of the neutral chamber 30, and the substrate insertion openings 31 a and 41 a can be closed by the shutters 3 and 3.
  • the partition wall 102 on the downstream side of the cleaning chamber 100 is provided with a substrate insertion opening 102 a that is opened in a slit shape, and the substrate insertion opening 102 a can be closed by the shutter 3.
  • Each stripping chamber 40 to 90 is provided with an air ejection bar 12, and high pressure air is ejected from the air ejection bar 12 to remove the stripping solution 4 adhering to the front surface 2 a and the back surface 2 b of the glass substrate 2. Has been done.
  • the air ejection bar 12 is arranged so as to be orthogonal to the conveyance direction of the glass substrate 2. As shown in FIG. 5, such an air ejection bar 12 has an air storage chamber 12b that temporarily retains the air supplied from the air supply port 12a, and communicates with the air storage chamber 12b. A slit-shaped air outlet 12c for ejecting air linearly to the glass substrate 2 is formed. An air pump (not shown) is connected to the air supply port 12a of the air ejection bar 12 to supply compressed air.
  • Such an air ejection bar 12 is, for example, in the vicinity of the downstream side of the substrate insertion port 91a formed in the partition wall 91 so that the stripping solution 4 used in the stripping chamber 90 is not brought into the adjacent stripping chamber 80. Is arranged. Similarly, the air ejection bar 12 is provided on the upstream side of the substrate insertion port 101 a formed in the partition wall 101 so that the stripping solution 4 used in the stripping chamber 90 is not brought into the adjacent cleaning chamber 100. It is arranged in the vicinity.
  • the stripping solution 4 supplied to the glass substrate 2 the shorter the time required for stripping the resist.
  • the stripping solution 4 The temperature is set to a high temperature of 80 ° C.
  • the stripping solution 4 supplied to the stripping chambers 40 to 90 is supplied from the storage tank 6 via the pump 14 to the glass substrate 2 in a shower form from the stripping solution supply bar 7.
  • the storage tank 6 is provided with a stripping solution heating means 8 for heating the stripping solution 4.
  • the stripping solution heating means 8 includes a steam pipe 8a, and the steam pipe 8a is immersed in the stripping liquid 4 to raise the temperature of the stripping liquid 4 in the storage tank 6 to 80 ° C. In this case, high-temperature steam flows in the steam pipe 8a.
  • the stripping liquid discharge bar 7 is arranged so as to be orthogonal to the conveying direction of the glass substrate 2, and the stripping liquid 4 is transferred from the stripping liquid discharge nozzle 7a to the front surface 2a and the back surface 2b of the glass substrate 2. Supply in shower form.
  • a plurality of stripping liquid discharge bars 7 are provided at predetermined intervals along the transport direction.
  • the stripping solution discharge bar 7 is connected to the storage tank 6 by a stripping solution supply pipe 13 as shown in FIG. 1, and the stripping solution 4 is sent to the stripping solution discharge bar 7 by a pump 14.
  • a filter for filtering the stripping liquid 4 passing through the stripping liquid supply pipe 13 and the flow rate of the stripping liquid 4 are provided in the middle of the stripping liquid supply pipe 13 between the pump 14 and the stripping liquid discharge bar 7.
  • a flow rate adjusting valve or the like for adjusting the flow rate is provided.
  • a drainage port 15 is formed in the bottom walls 42 to 92 of the separation chambers 40 to 90, and is connected to the storage tank 6 through the drainage pipe 16.
  • the stripping solution 4 collected through the drainage pipe 16 is temporarily stored in the storage tank 6 and then sent to the stripping solution discharge bar 7 again by the pump 14.
  • each of the separation chambers 40 to 90 is forcibly exhausted from the exhaust port (not shown) formed in the upper wall by an exhaust means (not shown).
  • an exhaust means not shown.
  • Such exhaust is performed in order to prevent, for example, the vapor or mist of the stripping solution 4 used in the stripping chamber 90 and foreign matter contained therein from leaking into the adjacent stripping chamber 80 or the cleaning chamber 100. Is called. This is because, when a large amount of foreign matter is generated in a specific peeling chamber, if the foreign matter enters another peeling chamber or cleaning chamber, the entire resist peeling apparatus 1 is maintained.
  • the glass substrate 2 that has passed through each of the peeling chambers 40 to 90 is transported to the cleaning chamber 100, and the front surface 2a and the back surface 2b of the glass substrate 2 are washed with pure water 5, and then in a substrate drying chamber (not shown) by air, etc. Drying is performed.
  • the cleaning chamber 100 is divided into two chambers, a rough cleaning chamber 103 on the upstream side and a precision cleaning chamber 104 on the downstream side, by a partition plate 106 erected on the bottom wall 105.
  • the chambers 103 and 104 include two front-side pure water discharge bars 18 that supply the pure water 5 to the front surface 2a of the glass substrate 2, and one back-side pure water that supplies the pure water 5 to the back surface 2b of the glass substrate 2.
  • a discharge bar 19 is provided.
  • Each of the pure water discharge bars 18 and 19 is provided with a plurality of nozzles 18a and 19a for discharging the pure water 5 in a shower shape.
  • the front-side pure water discharge bar 18 is arranged to face the front surface 2 a of the glass substrate 2
  • the back-side pure water discharge bar 19 is arranged to face the back surface 2 b of the glass substrate 2. Yes.
  • one back-side pure water discharge bar 19 is disposed at the center between the two front-side pure water discharge bars 18 and 18.
  • FIG. 3 is a perspective view showing a state in which the air ejection bar 12, the front-side pure water discharge bar 18, and the back-side pure water discharge bar 19 are omitted for simplification of the drawing.
  • the support roller 9 is disposed on the back surface 2a side which is the lower side in the inclination direction of the glass substrate 2, and its axis is parallel to the glass substrate 2 to be conveyed, that is, inclined at an angle of 75 degrees.
  • the support roller 9 is rotatably supported on a roller shaft 9a by a ball bearing 9b, and the upper and lower ends of the roller shaft 9a are the upper wall 107 and the lower wall of the cleaning chamber 100. 108 is fixed.
  • a plurality of roller shafts 9a are provided at predetermined intervals along the conveyance direction of the glass substrate 2.
  • roller shaft 9a is supported by the front end of the roller shaft support plate 110 standing on the rear wall 109 of the cleaning chamber 100 to prevent eccentricity. It is designed not to slip.
  • the roller shaft support plate 110 is formed with a plurality of openings 110a through which pure water 5 flowing down the rear wall 109 of the cleaning chamber 100 passes.
  • the transport roller 10 that supports the lower end of the glass substrate 2 is fixed to one end of the drive shaft 10a.
  • a gear 10 b is attached to the other end of the drive shaft 10 a, and a gear 11 b that meshes with the gear 10 b is attached to the rotating shaft 11 a of the motor 11.
  • the glass substrate 2 can be transported by a frictional force generated between the transport roller 10 and the lower end of the glass substrate 2.
  • a drainage port 21 is formed in the bottom wall 105 of the rough cleaning chamber 103.
  • a concentrated drainage H is produced in which the stripping solution 4 brought in by the glass substrate 2 transported from the adjacent stripping chamber 90 and the pure water 5 for washing away the stripping solution 4 are mixed.
  • the concentrated drainage H is discharged from the drainage port 21.
  • a concentrated drainage pipe 23 is connected to the drainage port 21 of the rough cleaning chamber 103, and the concentrated drainage H recovered through the concentrated drainage pipe 23 is supplied to a boiler or the like. It is turned into powdery waste at the disposal facility provided and discarded.
  • a drain port 22 is formed in the bottom wall 105 of the precision cleaning chamber 104.
  • a diluted drainage liquid L having a lower mixing ratio of the stripping solution 4 than the concentrated drainage solution H is generated.
  • the diluted drainage L is discharged from the drainage port 22.
  • a diluted drainage pipe 24 is connected to the drainage port 22 of the precision cleaning chamber 104, and the diluted drainage L is collected in the collection tank 25 through the diluted drainage pipe 24. .
  • the diluted waste liquid L recovered in the recovery tank 25 is purified by bacteria or the like, and is sent again to the pure water discharge bars 18 and 19 through the pump 26, the filter 27, and the pure water supply pipe 20. It has become.
  • a recovery tub 112 that receives the pure water 5 that falls on the rear wall 109 of the rough cleaning chamber 103 is provided so as to incline downward toward the precision cleaning chamber 104 on the downstream side.
  • the recovery basket 112 has an upstream end 2 c of the glass substrate 2 that is transported passes through the front pure water discharge bar 18 provided in the rough cleaning chamber 103, and the downstream end of the next glass substrate.
  • the pure water 5 discharged from the front-side pure water discharge bar 18 and flowing against the rear wall 109 of the rough cleaning chamber 103 is formed in the bottom wall 105 as it is until 2d is conveyed to the front-side pure water discharge bar 18.
  • the pure water 5 that flows down the rear wall 109 of the rough cleaning chamber 103 is received by the recovery tank 112, and the received pure water 5 is sent to the precision cleaning chamber 104. Can be led.
  • the recovery rod 112 is provided below the roller shaft support plate 110 disposed above and below the roller shaft support plate 110 disposed below, and the upper surface of the roller shaft support plate 110. It is also provided between the lower roller shaft support plate 110.
  • the recovery rod 112 is formed by bending a metal plate so that the cross section is substantially L-shaped, and has a bottom portion 112a inclined downward toward the precision cleaning chamber 104 on the downstream side.
  • a rear mounting portion 112 b protruding upward is provided at the rear end of the bottom portion 112 a, and the rear mounting portion 112 b is fixed to the rear wall 109 of the rough cleaning chamber 103 by a fixing screw 28. Further, a front side mounting portion 112c protruding toward the front side is provided at the front end of the bottom portion 112a.
  • the recovery rod 112 disposed below the upper roller shaft support plate 110 and below the lower roller shaft support plate 110 has a front mounting portion 112c attached to the roller shaft support plate 110 by a fixing screw 28. It is fixed.
  • the recovery rod 112 disposed between the upper roller shaft support plate 110 and the lower roller shaft support plate 110 has a front mounting portion 112c fixed to the roller shaft 9a by a bracket 29.
  • the front mounting portion 112 c is fixed to the rear end of the bracket 29 by the fixing screw 28, and the front end of the bracket 29 holds the roller shaft 9 a, so that the front mounting portion 112 c of the recovery rod 112 is interposed via the bracket 29.
  • the roller shaft 9a is fixed.
  • the upstream end of the recovery tank 112 is closed, and an open discharge port 112d is formed at the downstream end.
  • the recovery rod 112 is formed longer than the roller shaft support plate 110, and the upstream end of the recovery rod 112 is disposed upstream of the upstream end of the roller shaft support plate 110, and the recovery rod 112
  • the downstream end of 112 is disposed downstream of the downstream end of the roller shaft support plate 110.
  • the recovery tank 112 can receive the pure water 5 flowing down from the opening 110a of the roller shaft support plate 110, as well as the pure water 5 flowing down from the upstream end of the roller shaft support plate 110, Pure water 5 overflowing from the downstream end can also be received.
  • the discharge port 112d of the collection basket 112 is disposed so as to face the precision cleaning chamber 104 beyond the partition plate 106. All of the flowing pure water 5 flows down to the bottom wall 105 of the precision cleaning chamber 104.
  • the pure water 5 discharged from the front-side pure water discharge bar 18 provided facing the front surface 2a of the glass substrate 2 slightly inclined from the upright state to the back surface 2b side is shown in FIG.
  • the pure water 5 flowing down the rear wall 109 is Since it is blocked by the recovery tank 112, it is prevented from being discharged from the drain port 22 provided in the bottom wall 105 of the rough cleaning chamber 103 as shown in FIG.
  • the concentrated drainage H collected from the drainage port 21 provided in the bottom wall 105 of the rough cleaning chamber 103 is discharged from the front-side pure water discharge bar 18 and does not pass through the surface 2a of the glass substrate 2 later. Since it is not diluted with the pure water 5 flowing down the wall 109, the amount of the concentrated waste liquid H that needs to be discarded can be reduced, and the cost for the disposal can be reduced.
  • the pure water 5 flowing down the rear wall 109 of the rough cleaning chamber 103 is discharged to the precision cleaning chamber 104 by the recovery tank 112, so that it is recovered from the drain port 22 provided on the bottom wall 105 of the precision cleaning chamber 104.
  • the reusable diluted drainage L can be increased, and as a result, the utilization efficiency of the diluted drainage L recovered from the cleaning chamber 100 can be improved.
  • the present invention is not limited to such an embodiment, and it is needless to say that the present invention can be implemented in various modes without departing from the gist of the present invention.
  • the present invention is applied to the resist stripping apparatus.
  • the cleaning liquid is supplied to the substrate and the water washing process is performed.
  • the present invention can be applied to any substrate processing apparatus. Further, the configuration and the number of peeling chambers and cleaning chambers as chemical processing chambers are not limited to the above-described embodiment.

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Abstract

　薬液処理された基板に純水などの洗浄液を供給する洗浄室を備えた基板処理装置において、洗浄室から排出される濃厚排液を減少させると共に、洗浄室から回収される希釈排液の利用効率を向上させることができる基板処理装置を提供すること。　直立状態から裏面側に所定角度傾倒させて搬送される基板表面に洗浄液吐出手段により洗浄液を供給する洗浄室を備えた基板処理装置において、洗浄室は、底壁に立設された仕切板により上流側の粗洗浄室（１０３）と下流側の精密洗浄室（１０４）とに区切られ、粗洗浄室と精密洗浄室のそれぞれの底壁には排液口が設けられると共に、粗洗浄室には、洗浄液吐出手段から吐出され基板表面を経由しない洗浄液を受ける回収樋（１１２）が、精密洗浄室側に向かって下傾するように設けられ、回収樋内を流れる洗浄液を排出する該回収樋の排出口が、仕切板を越えて精密洗浄室内に臨むように設けられている。

Description

基板処理装置
　本発明は、液晶表示パネルに用いられるガラス基板などの基板を搬送しながらその基板に薬液や洗浄液を供給する基板処理装置に関する。
　近年、コンピュータやテレビなどの家電製品の表示部として、液晶表示パネルが広く用いられている。液晶表示パネルは、一般的に薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）基板とカラーフィルタ（ＣＦ）基板とからなる一対のガラス基板が所定の間隔を置いて平行に対向配置され、両基板間に液晶が充填された構成をなしている。
　例えばＴＦＴ基板を製造するにあたっては、ガラス基板表面への成膜処理、レジスト膜形成処理、露光処理、レジスト現像処理、エッチング処理、レジスト剥離処理等の複数の処理工程を順次経ることによりガラス基板表面にＴＦＴ等が形成される。
　ガラス基板表面にＴＦＴ等の回路を形成するためには、ガラス基板表面に金属膜を成膜処理により形成した後に、この金属膜を所定のパターンにエッチング処理する方法が採られている。このエッチング処理の際のマスクとして感光性樹脂であるレジストが用いられており、エッチング処理後にレジストは剥離処理により除去されることになる。
　ガラス基板表面のレジスト剥離処理には、剥離液をガラス基板の表面および裏面にシャワー方式で供給する剥離処理装置が採用されている。一般的なレジスト剥離処理装置は、複数の剥離室が順に並設された構成となっており、ガラス基板はニュートラル室から１枚ずつ順に各剥離室に搬送されて、剥離液によるレジスト剥離処理が施され、レジスト剥離処理が施された後、洗浄室に搬送され純水により水洗処理が施される。この場合、ガラス基板はレジスト剥離装置の最上流側に配置されたニュートラル室から最下流側に配置された洗浄室に向けて各剥離室を経て搬送されるようになっている。
　図７は、レジスト剥離装置２０１が備える剥離室９０と洗浄室１００を正面から見た概略構成を示しており、図８は図７のＢ－Ｂ線における断面図を示している。このレジスト剥離装置２０１は、図８に示されるようにガラス基板２を垂直に立てた直立状態から裏面２ｂ側に例えば１５度の角度で傾倒させた状態、つまり水平方向に対して７５度の角度に立てた状態で搬送しながらレジスト剥離を行う装置である。図７に示されるように、剥離室９０と洗浄室１００との間は隔壁１０１で仕切られており、隔壁１０１にはスリット状に開口した基板挿通口１０１ａが設けられている。
　剥離室９０には、剥離液をガラス基板２の表面２ａおよび裏面２ｂに供給する剥離液吐出バー７が設けられている。また、基板挿通口１０１ａの上流側と下流側の近傍にはエア噴出バー１２が設けられており、エア噴出バー１２から高圧のエアを噴出させてガラス基板２の表面２ａおよび裏面２ｂに付着した剥離液を除去することで、剥離液が隣りの洗浄室１００に持ち込まれないようにされている。
　図示されるように洗浄室１００は、上流側の粗洗浄室１０３と下流側の精密洗浄室１０４の２室に、底壁１０５に立設された仕切板１０６によって区切られており、各洗浄室１０３，１０４には、純水５をガラス基板２の表面２ａに供給する２本の表側純水吐出バー１８と、純水５をガラス基板２の裏面２ｂに供給する１本の裏側純水吐出バー１９が配置されている。各純水吐出バー１８，１９には、純水５をシャワー状に吐出する複数のノズル１８ａ，１９ａが設けられている。
　また、各洗浄室１０３，１０４には、図７および図８に示されるようにガラス基板２の裏面２ｂを支持する支持ローラ９と、ガラス基板２の下端を支持しつつガラス基板２を搬送する搬送ローラ１０が搬送方向に沿って複数設けられている。
　支持ローラ９は、ガラス基板２の傾斜方向下側となる裏面２ｂ側に配されており、その軸線が搬送されるガラス基板２と平行、つまり７５度の角度で傾斜されている。この場合、図示されるように支持ローラ９はボールベアリング９ｂによってローラ軸９ａに回転可能に軸支されており、ローラ軸９ａはその上端と下端が洗浄室１００の上壁１０７と下壁１０８に固定されている。ローラ軸９ａは、搬送方向に沿って所定間隔をおいて複数本設けられている。
　また、ローラ軸９ａの途中部位は、洗浄室１００の後壁１０９に立設されたローラ軸支持板１１０の前端に支持されて偏心が防止されており、ガラス基板２の搬送中に軸心がずれないようになっている。このローラ軸支持板１１０には、図９に示されるように洗浄室１００の後壁１０９を流れ落ちる純水５が通る開口部１１０ａが複数形成されている。洗浄室１００の後壁１０９や前壁１１１等を流れ落ちた純水５は、各洗浄室１０３の底壁１０５に開口形成された排液口２１，２２から排出される。
　ガラス基板２の下端を支持する搬送ローラ１０は、駆動軸１０ａの一端に固定されている。駆動軸１０ａの他端には歯車１０ｂが取り付けられており、この歯車１０ｂに噛合する歯車１１ｂがモータ１１の回転軸１１ａに取り付けられている。このモータ１１によって搬送ローラ１０を回転駆動させることで、搬送ローラ１０とガラス基板２の下端との間に生じる摩擦力でガラス基板２を搬送することができるようになっている。
　剥離室９０から洗浄室１００に搬送されるガラス基板２の表面２ａおよび裏面２ｂには、隔壁１０１の上流側に配置されたエア噴出バー１２によってエアが噴出され、付着した剥離液の除去が行われている。
　一般的に、エア噴出バー１２による剥離液の除去では、ガラス基板２が大きく撓んで隔壁１０１の基板挿通口１０１ａに接触しないようにするため、噴出するエアの圧力を大きくできないことから、ガラス基板２の表面２ａおよび裏面２ｂには、相当量の剥離液が付着残存し、これがガラス基板２と共に洗浄室１００に持ち込まれている。
　この洗浄室１００に持ち込まれた剥離液により、上流側の粗洗浄室１０３では、剥離液の混合率が高い剥離液と純水５との混合液（濃厚排液）Ｈが生じ、下流側の精密洗浄室１０４では、粗洗浄室１３で剥離液が適度に除去されているため、剥離液の混合率が低い剥離液と純水５との混合液（希釈排液）Ｌが生じることになる。
　通常、粗洗浄室１０３の排液口２１から回収された濃厚排液Ｈは、廃棄処理が為される。具体的には、濃厚排液Ｈはボイラーによって煮沸され、粉末状の廃物にされてから廃棄されるようになっている。一方、精密洗浄室１０４の排液口２２から回収された希釈排液Ｌは、バクテリアなどにより比較的簡単に剥離液成分を除去することが可能であることから、洗浄室１００で用いられる純水５として再度利用されている。図１に示されるように、希釈排液Ｌは、回収タンク２５に一旦回収され、バクテリアなどにより浄化されて、ポンプ２６およびフィルタ２７を介して再度純水吐出バー１８，１９へと送液される。尚、本発明に関連する先行技術文献として下記特許文献が挙げられる。
特開２００４－６６３１号公報
　しかしながら、図８に示されるように、ガラス基板２が、粗洗浄室１０３に設けられた各洗浄水吐出バー１８，１９を通過している最中は、吐出された純水５はガラス基板２の表面２ａおよび裏面２ｂに残存する剥離液と混合された濃厚排液Ｈとして粗洗浄室１０３の底壁１０５の排液口２１から排出されるが、図７および図９に示されるように、ガラス基板２の上流端２ｃが各純水吐出バー１８，１９を通過して、次のガラス基板２の下流端２ｄが各純水吐出バー１８，１９位置まで搬送されてくるまでの間は、吐出された純水５はガラス基板２を経由せずに後壁１０９や前壁１１１に当たって流れ落ちることになる。
　つまりガラス基板２を経由せずに後壁１０９や前壁１１１を流れ落ちる純水５は、ほとんど剥離液が含まれない状態のまま、底壁１０５の排液口２１から排出されるため、先に排出された濃厚排液Ｈを薄めてしまい、その結果、廃棄処理のためのボイラーによる煮沸する液量が増大するため、コスト増になってしまっていた。
　そこで、本発明が解決しようとする課題は、薬液処理された基板に純水などの洗浄液を供給する洗浄室を備えた基板処理装置において、洗浄室から排出される濃厚排液を減少させると共に、洗浄室から回収される希釈排液の利用効率を向上させることができる基板処理装置を提供することである。
　上記課題を解決するため、本発明に係る基板処理装置は、基板を直立状態から裏面側に所定角度傾倒させて搬送する基板搬送手段と、該基板搬送手段により搬送される前記基板表面に洗浄液吐出手段により洗浄液を供給する洗浄室とを備えた基板処理装置において、前記洗浄室は、底壁に立設された仕切板により上流側の粗洗浄室と下流側の精密洗浄室とに区切られ、前記粗洗浄室と前記精密洗浄室のぞれぞれの底壁には排液口が設けられると共に、前記粗洗浄室には、前記洗浄液吐出手段から吐出され前記基板表面を経由しない洗浄液を受ける回収樋が、前記精密洗浄室側に向かって下傾するように設けられ、前記回収樋内を流れる洗浄液を排出する該回収樋の排出口が、前記仕切板を越えて前記精密洗浄室内に臨むように設けられていることを要旨とするものである。
　このような構成の基板処理装置によれば、上流側の粗洗浄室には、洗浄液吐出手段から吐出され基板表面を経由せずに、つまり例えば薬液等が付着された基板表面に当たらずに流れ落ちる洗浄液を受ける回収樋が、下流側の精密洗浄室側に向かって下傾するように設けられると共に、回収樋内を流れる洗浄液を排出する該回収樋の排出口が、粗洗浄室と精密洗浄室とを区切るように底壁に立設された仕切板を越えて精密洗浄室内に臨むように設けられている構成なので、搬送される基板の上流端が粗洗浄室の洗浄液吐出手段を通過して、次の基板の下流端が洗浄液吐出手段の位置まで搬送されてくるまでの間に、洗浄液吐出手段から吐出されて流れ落ちる洗浄液が、回収樋によって受けられて、精密洗浄室内へと導かれて排出されることになる。
　これにより、粗洗浄室の底壁に設けられた排液口から回収される濃厚排液は、基板表面を経由しないで流れ落ちる洗浄液によって希釈されないので、廃棄処理が必要な液量を減少させることができる。また、回収樋によって受けられた洗浄液は精密洗浄室へと排出されるので、精密洗浄室の底壁に設けられた排液口から回収される再利用可能な希釈排液を増大させることができ、洗浄室から回収される希釈排液の利用効率を向上させることができる。
　この場合、前記基板搬送手段は、前記基板の裏面を支持する複数の支持ローラと、前記基板の下端を支持しつつ搬送する複数の搬送ローラとを備え、前記支持ローラはローラ軸に回転自在に軸支されると共に、該ローラ軸の途中部位が、前記粗洗浄室の後壁に立設されたローラ軸支持板の前端縁に当接されて支持されており、前記ローラ軸支持板には前記粗洗浄室の後壁を流れ落ちる洗浄水が通る開口部が形成されると共に、該開口部の下方に前記回収樋が配置されている構成にすれば、基板表面を経由しないで粗洗浄室の後壁を流れ落ちる洗浄水が、ローラ軸の偏心防止用に設けられたローラ軸支持板によって遮られることなく回収樋によって受けられる。
　また、前記回収樋の後端部が前記粗洗浄室の後壁に固定されると共に、前端部が前記ローラ軸支持板に固定されている構成や、前記回収樋の後端部が前記粗洗浄室の後壁に固定されると共に、前端部が前記ローラ軸にブラケットを介して固定されている構成にすれば、粗洗浄室内への回収樋の取付が容易であると共に、回収樋の前後端部が固定されているので、回収樋内を流れる洗浄液量の重さによって回収樋が撓んでしまうことが防止される。
　この場合、前記基板裏面に洗浄液を供給する洗浄液吐出手段が更に備えられている構成にすると良い。また、前記洗浄室の上流側には、該洗浄室とは隔壁を介して仕切られて前記基板表面に薬液を供給する薬液処理室を備えると共に、前記隔壁にスリット状に開口形成された基板挿通口の上流側および下流側の近傍には前記基板表面にエアを噴出するエア噴出手段が備えられている構成にすると良い。更に、前記薬液は前記基板表面に形成されたレジストを剥離する剥離液である構成や、前記洗浄液は純水である構成にすると良い。
　上記構成を有する本発明によれば、搬送されてきた基板の上流端が粗洗浄室の洗浄液吐出手段を通過して、次の基板の下流端が洗浄液吐出手段の位置まで搬送されてくるまでの間に、洗浄液吐出手段から吐出され基板表面を経由しない洗浄液が、回収樋によって受けられて精密洗浄室内へと導かれて排出される構成により、粗洗浄室の底壁に設けられた排液口から回収される濃厚排液は、基板表面を経由せずに流れ落ちる洗浄液によって希釈されないので、廃棄処理が必要な濃厚廃液の液量を減少させることができる。更に、回収樋によって受けられた洗浄液は精密洗浄室へと排出されるので、精密洗浄室の底壁に設けられた排液口から回収される再利用可能な希釈排液を増大させることができ、洗浄室から回収される希釈排液の利用効率を向上させることができる。
本発明の一実施形態に係る基板処理装置としてのレジスト剥離装置を上方から見た概略構成を示した図である。 図１のレジスト剥離装置が備える洗浄室を正面から見た概略構成を示した図である。 図２の粗洗浄室の内部の概略構成を示した斜視図である。 図２の粗洗洗室のＡ－Ａ線における断面を示した図である。 図１のレジスト剥離装置が備えるエア噴出バーの概略構成を示した図である。 図２の粗洗浄室のＡ－Ａ線における断面を示した図であり、粗洗浄室の後壁を流れ落ちる純水を回収樋により受ける状態を示した図である。 従来用いられてきたレジスト剥離装置が備える洗浄室を正面から見た概略構成を示した図である。 図７の粗洗浄室のＢ－Ｂ線における断面を示した図である。 図７の粗洗浄室のＢ－Ｂ線における断面を示した図であり、粗洗浄室の後壁を純水が流れ落ちる状態を示した図である。
　以下に、本発明に係る基板処理装置の一実施形態ついて、図面を参照して詳細に説明する。本実施形態の基板処理装置は、液晶表示パネル用のガラス基板を製造する際に用いられるレジスト剥離装置である。
　図１に示されるレジスト剥離装置１は、ガラス基板２を垂直に立てた直立状態から裏面２ｂ側に例えば１５度の角度で傾倒させた状態、つまり水平方向に対して７５度の角度に立てた状態で搬送しながらガラス基板２の表面２ａに形成されたレジストに剥離液４を供給する。
　図示されるようにレジスト剥離装置１は、複数の剥離室４０～９０が順に並設された構成となっており、ガラス基板２はニュートラル室３０から１枚ずつ順に各剥離室４０～９０に搬送されて、剥離液４によるレジスト剥離処理が施される。各剥離室４０～９０間は隔壁５１～９１で仕切られており、隔壁５１～９１にはスリット状に開口した基板挿通口５１ａ～９１ａが設けられている。また、ニュートラル室３０と剥離室４０との間は隔壁４１で仕切られ、剥離室９０と洗浄室１００との間は隔壁１０１で仕切られており、それぞれの隔壁４１，１０１にはスリット状に開口した基板挿通口４１ａ，１０１ａが設けられている。
　ニュートラル室３０の上流側の隔壁３１にはスリット状に開口した基板挿通口３１ａが設けられている。ニュートラル室３０の上流側と下流側の基板挿通口３１ａ，４１ａにはシャッタ３，３が設けられており、このシャッタ３，３により基板挿通口３１ａ，４１ａを塞ぐことができるようになっている。また、洗浄室１００の下流側の隔壁１０２にはスリット状に開口した基板挿通口１０２ａが設けられており、シャッタ３によりこの基板挿通口１０２ａを塞ぐことができるようになっている。
　各剥離室４０～９０にはエア噴出バー１２が設けられており、このエア噴出バー１２から高圧のエアを噴出させてガラス基板２の表面２ａおよび裏面２ｂに付着した剥離液４を除去することが行われている。
　図２に示されるようにエア噴出バー１２は、ガラス基板２の搬送方向と直交するように配置されている。このようなエア噴出バー１２は、図５に示されるように、内部にエア供給口１２ａから供給されたエアを一旦滞留させるエア収容室１２ｂを有し、このエア収容室１２ｂに連通すると共に、ガラス基板２に対して線状にエアを噴出するためのスリット状のエア噴出口１２ｃが形成されている。そして、エア噴出バー１２のエア供給口１２ａには図示しない空圧ポンプが接続され、圧縮エアが供給されている。
　このようなエア噴出バー１２は、例えば剥離室９０で用いられた剥離液４が隣りの剥離室８０に持ち込まれないようにするために隔壁９１に形成された基板挿通口９１ａの下流側の近傍に配置されている。また、同様に、エア噴出バー１２は、剥離室９０で用いられた剥離液４が隣りの洗浄室１００に持ち込まれないようにするために隔壁１０１に形成された基板挿通口１０１ａの上流側の近傍に配置されている。
　一般的に、ガラス基板２に供給される剥離液４は、その温度が高いほどレジストを剥離するのに要する時間を短縮することができるため、例えば各剥離室４０～９０においては剥離液４の温度は８０℃の高温に設定されている。各剥離室４０～９０に供給される剥離液４は、貯留タンク６からポンプ１４を介して剥離液供給バー７からシャワー状にガラス基板２に向けて供給される。
　貯留タンク６には、剥離液４を加熱するための剥離液加熱手段８が設けられている。剥離液加熱手段８は、スチーム配管８ａを備えており、このスチーム配管８ａを剥離液４に浸漬させて貯留タンク６内の剥離液４の温度を８０℃に昇温させている。この場合、スチーム配管８ａの中には高温の水蒸気が流れている。
　図２に示されるように剥離液吐出バー７は、ガラス基板２の搬送方向と直交するように配置されており、剥離液４を剥離液吐出ノズル７ａからガラス基板２の表面２ａと裏面２ｂにシャワー状に供給する。また、剥離液吐出バー７は搬送方向に沿って所定間隔をおいて複数設けられている。剥離液吐出バー７は、図１に示されるような剥離液供給管１３によって貯留タンク６と接続されており、ポンプ１４によって剥離液吐出バー７に剥離液４が送液される。
　また、図示しないがポンプ１４と剥離液吐出バー７との間の剥離液供給管１３の途中には、その剥離液供給管１３を通る剥離液４を濾過するためのフィルタや剥離液４の流量を調整する流量調整弁等が設けられている。
　各剥離室４０～９０の底壁４２～９２には排液口１５が開口形成されており、排液管１６を介して貯留タンク６に接続されている。排液管１６を通って回収される剥離液４は、貯留タンク６に一旦貯留されたあと、ポンプ１４により再度剥離液吐出バー７に送液されるようになっている。
　また、各剥離室４０～９０の内部は、上壁に開口形成された図示しない排気口から同じく図示しない排気手段により各剥離室４０～９０内部の排気が強制的に行われている。このように剥離室内部の排気が行われることにより、剥離室内で上方に広がった剥離液４の蒸気やミストが排気されている。剥離液４は通常、人体に毒性がある薬液であるため、剥離室から外部に漏れ出さないようにするためにこのような排気が行われている。
　また、このような排気は、例えば剥離室９０で用いられた剥離液４の蒸気やミスト、およびそれらに含まれる異物が隣りの剥離室８０や洗浄室１００に漏れ出さないようにするために行われる。特定の剥離室で異物が大量に発生した場合に、その異物が他の剥離室や洗浄室に進入してしまうと、レジスト剥離装置１全体をメンテナンスすることになってしまうからである。
　そして、各剥離室４０～９０を経たガラス基板２は、洗浄室１００に搬送され、純水５によりガラス基板２の表面２ａおよび裏面２ｂが水洗され、その後図示しない基板乾燥室において、エア等により乾燥が行われる。
　図２に示されるように洗浄室１００は、底壁１０５に立設された仕切板１０６によって上流側の粗洗浄室１０３と下流側の精密洗浄室１０４の２室に区切られており、各洗浄室１０３，１０４には、純水５をガラス基板２の表面２ａに供給する２本の表側純水吐出バー１８と、純水５をガラス基板２の裏面２ｂに供給する１本の裏側純水吐出バー１９が配設されている。各純水吐出バー１８，１９には、純水５をシャワー状に吐出する複数のノズル１８ａ，１９ａが設けられている。
　図４に示されるように、表側純水吐出バー１８はガラス基板２の表面２ａに対向するように配され、裏側純水吐出バー１９はガラス基板２の裏面２ｂに対向するように配されている。また、図２に示されるように各洗浄室１０３，１０４では、２本の表側純水吐出バー１８，１８の間の中央に１本の裏側純水吐出バー１９が配置されている。
　また、各洗浄室１０３，１０４には、図３および図４に示されるようにガラス基板２の裏面２ａを支持する支持ローラ９と、ガラス基板２の下端を支持しつつガラス基板２を搬送する搬送ローラ１０が搬送方向に沿って複数設けられている。尚、図３は、図の簡略化のためにエア噴出バー１２、表側純水吐出バー１８、裏側純水吐出バー１９が省略された状態を示した斜視図となっている。
　支持ローラ９は、ガラス基板２の傾斜方向下側となる裏面２ａ側に配されており、その軸線が搬送されるガラス基板２と平行、つまり７５度の角度で傾斜されている。この場合、図４に示されるように支持ローラ９はボールベアリング９ｂによってローラ軸９ａに回転可能に軸支されており、ローラ軸９ａはその上端と下端が洗浄室１００の上壁１０７と下壁１０８に固定されている。このローラ軸９ａは、ガラス基板２の搬送方向に沿って所定間隔をおいて複数本設けられている。
　また、ローラ軸９ａの途中部位は、洗浄室１００の後壁１０９に立設されたローラ軸支持板１１０の前端に支持されて偏心が防止されており、ガラス基板２の搬送中に軸心がずれないようになっている。このローラ軸支持板１１０には、洗浄室１００の後壁１０９を流れ落ちる純水５が通る開口部１１０ａが複数開口形成されている。
　図３に示されるように、ガラス基板２の下端を支持する搬送ローラ１０は、駆動軸１０ａの一端に固定されている。駆動軸１０ａの他端には歯車１０ｂが取り付けられており、この歯車１０ｂに噛合する歯車１１ｂがモータ１１の回転軸１１ａに取り付けられている。このモータ１１によって搬送ローラ１０を回転駆動させることで、搬送ローラ１０とガラス基板２の下端との間に生じる摩擦力でガラス基板２を搬送することができるようになっている。
　粗洗浄室１０３の底壁１０５には、排液口２１が開口形成されている。粗洗浄室１０３では、隣りの剥離室９０から搬送されてきたガラス基板２によって持ち込まれた剥離液４と、この剥離液４を洗い流す純水５とが混ざった濃厚排液Ｈが生じて、この濃厚排液Ｈが排液口２１から排出される。
　図１に示されるように粗洗浄室１０３の排液口２１には濃厚排液管２３が接続されており、この濃厚排液管２３を通って回収された濃厚排液Ｈは、ボイラー等を備えた廃棄処理施設で粉末状の廃物にされて廃棄される。
　また、精密洗浄室１０４の底壁１０５には、排液口２２が開口形成されている。精密洗浄室１０４では、粗洗浄室１０３で剥離室９０から持ち込まれた剥離液４が適度に除去されているため、濃厚排液Ｈよりも剥離液４の混合率が低い希釈排液Ｌが生じて、この希釈排液Ｌが排液口２２から排出される。
　図１に示されるように精密洗浄室１０４の排液口２２には希釈排液管２４が接続されており、この希釈排液管２４を通って回収タンク２５に希釈排液Ｌは回収される。回収タンク２５に回収された希釈排液Ｌは、バクテリアなどにより浄化されて、ポンプ２６、フィルタ２７、純水供給管２０を介して純水吐出バー１８，１９へと再度送液されるようになっている。
　そして、図６に示されるように、表側純水吐出バー１８から吐出されガラス基板２の表面２ａを経由せずに、つまり剥離液４が付着されたガラス基板２の表面２ａに当たらずに、粗洗浄室１０３の後壁１０９に当たって流れ落ちる純水５を受ける回収樋１１２が、下流側の精密洗浄室１０４側に向かって下傾するように設けられている。
　この回収樋１１２は、図２に示されるように搬送されるガラス基板２の上流端２ｃが粗洗浄室１０３に設けられた表側純水吐出バー１８を通過して、次のガラス基板の下流端２ｄがその表側純水吐出バー１８まで搬送されてくるまでの間に、表側純水吐出バー１８から吐出され粗洗浄室１０３の後壁１０９に当たって流れ落ちる純水５がそのまま底壁１０５に開口形成された排液口２１へ流れてしまうのを堰き止めるためのもので、回収樋１１２によって粗洗浄室１０３の後壁１０９を流れ落ちる純水５を受けて、受けた純水５を精密洗浄室１０４へと導くことができるようになっている。
　この場合、回収樋１１２は、上方に配設されたローラ軸支持板１１０の下側と下方に配設されたローラ軸支持板１１０の下側に設けられると共に、上方のローラ軸支持板１１０と下方のローラ軸支持板１１０との間にも設けられている。
　この回収樋１１２は、金属板を折曲加工により断面が略Ｌ字状になるように成形されており、下流側の精密洗浄室１０４に向かって下傾した底部１１２ａ有している。
　底部１１２ａの後端には上方に向かって突出した後側取付部１１２ｂが設けられており、この後側取付部１１２ｂが、粗洗浄室１０３の後壁１０９に固定ネジ２８によって固定されている。また、底部１１２ａの前端には手前側に向かって突出した前側取付部１１２ｃが設けられている。
　この場合、上方のローラ軸支持板１１０の下側と、下方のローラ軸支持板１１０の下側に配置される回収樋１１２は、その前側取付部１１２ｃがローラ軸支持板１１０に固定ネジ２８によって固定されている。
　また、上方のローラ軸支持板１１０と下方のローラ軸支持板１１０との間に配置される回収樋１１２は、その前側取付部１１２ｃがブラケット２９によってローラ軸９ａに固定されている。この場合、前側取付部１１２ｃはブラケット２９の後端に固定ネジ２８により固定されると共に、ブラケット２９の前端がローラ軸９ａを挟持することで、回収樋１１２の前側取付部１１２ｃはブラケット２９を介してローラ軸９ａに固定されている。
　このような構成により、粗洗浄室１０３の後壁１０９への回収樋１１２の取付が容易であると共に、回収樋１１２の前後端部が固定されているので、回収樋１１２内を流れる純水の液量の重さによって回収樋１１２が撓んでしまうことが防止されている。
　回収樋１１２の上流側の端部は閉塞されており、下流側の端部は開口された排出口１１２ｄが形成されている。また、回収樋１１２はローラ軸支持板１１０よりも長く形成されており、回収樋１１２の上流側端部はローラ軸支持板１１０の上流側端部よりも上流側に配置されると共に、回収樋１１２の下流側端部はローラ軸支持板１１０の下流側端部よりも下流側に配置されている。これにより回収樋１１２は、ローラ軸支持板１１０の開口部１１０ａから流れ落ちる純水５を受けることができるのは勿論のこと、ローラ軸支持板１１０の上流側端部から溢れて流れ落ちる純水５や下流側端部から溢れて流れ落ちる純水５も受けることができるようになっている。
　この場合、回収樋１１２の排出口１１２ｄは、図２および図３に示されるように、仕切板１０６を越えて精密洗浄室１０４内へと臨むように配置されているので、回収樋１１２内を流れる純水５は、全て精密洗浄室１０４の底壁１０５に流れ落ちるようになっている。
　図４に示されるように直立状態から裏面２ｂ側にやや傾斜されたガラス基板２の表面２ａに対向して設けられた表側純水吐出バー１８から吐出される純水５は、図６に示されるようにガラス基板２が表側純水吐出バー１８を通過した後では、粗洗浄室１０３の後壁１０９に直接当たって後壁１０９を流れ落ちることになるが、後壁１０９を流れ落ちる純水５は回収樋１１２によって堰き止められているので、従来技術で説明した図９に示されるように粗洗浄室１０３の底壁１０５に設けられた排液口２２から排出されることが防止されている。
　したがって、粗洗浄室１０３の底壁１０５に設けられた排液口２１から回収される濃厚排液Ｈは、表側純水吐出バー１８から吐出されてガラス基板２の表面２ａを経由せずに後壁１０９を流れ落ちる純水５によって希釈されないので、廃棄処理が必要な濃厚排液Ｈの液量を減少させることができ、廃棄処理にかかるコストを削減することができる。
　また、粗洗浄室１０３の後壁１０９を流れ落ちる純水５は回収樋１１２によって精密洗浄室１０４へと排出されるので、精密洗浄室１０４の底壁１０５に設けられた排液口２２から回収される再利用可能な希釈排液Ｌを増大させることができ、その結果、洗浄室１００から回収される希釈排液Ｌの利用効率を向上させることができる。
　以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明はこうした実施形態に何ら限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、種々なる態様で実施できることは勿論である。例えば、上述した実施の形態では、レジスト剥離装置に本発明を適用した場合について説明したが、薬液を基板に供給して薬液処理した後、洗浄液を基板に供給して水洗処理する構成を有した基板処理装置であれば本発明を適用することができる。また、薬液処理室としての剥離室および洗浄室の構成やその数についても上述した実施の形態には限定されない。

Claims (8)

  1. 　基板を直立状態から裏面側に所定角度傾倒させて搬送する基板搬送手段と、該基板搬送手段により搬送される前記基板表面に洗浄液吐出手段により洗浄液を供給する洗浄室とを備えた基板処理装置において、前記洗浄室は、底壁に立設された仕切板により上流側の粗洗浄室と下流側の精密洗浄室とに区切られ、前記粗洗浄室と前記精密洗浄室のぞれぞれの底壁には排液口が設けられると共に、前記粗洗浄室には、前記洗浄液吐出手段から吐出され前記基板表面を経由しない洗浄液を受ける回収樋が、前記精密洗浄室側に向かって下傾するように設けられ、前記回収樋内を流れる洗浄液を排出する該回収樋の排出口が、前記仕切板を越えて前記精密洗浄室内に臨むように設けられていることを特徴とする基板処理装置。
  2. 　前記基板搬送手段は、前記基板の裏面を支持する複数の支持ローラと、前記基板の下端を支持しつつ搬送する複数の搬送ローラとを備え、前記支持ローラはローラ軸に回転自在に軸支されると共に、該ローラ軸の途中部位が、前記粗洗浄室の後壁に立設されたローラ軸支持板の前端縁に当接されて支持されており、前記ローラ軸支持板には前記粗洗浄室の後壁を流れ落ちる洗浄水が通る開口部が形成されると共に、該開口部の下方に前記回収樋が配置されていることを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
  3. 　前記回収樋の後端部が前記粗洗浄室の後壁に固定されると共に、前端部が前記ローラ軸支持板に固定されていること特徴とする請求項２に記載の基板処理装置。
  4. 　前記回収樋の後端部が前記粗洗浄室の後壁に固定されると共に、前端部が前記ローラ軸にブラケットを介して固定されていることを特徴とする請求項２に記載の基板処理装置。
  5. 　前記基板裏面に洗浄液を供給する洗浄液吐出手段が更に備えられていることを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の基板処理装置。
  6. 　前記洗浄室の上流側には、該洗浄室とは隔壁を介して仕切られて前記基板表面に薬液を供給する薬液処理室を備えると共に、前記隔壁にスリット状に開口形成された基板挿通口の上流側および下流側の近傍には前記基板表面にエアを噴出するエア噴出手段が備えられていることを特徴とする請求項１から５のいずれか一項に記載の基板処理装置。
  7. 　前記薬液は前記基板表面に形成されたレジストを剥離する剥離液であることを特徴とする請求項６に記載の基板処理装置。
  8. 　前記洗浄液は純水であることを特徴とする請求項１から７のいずれか一項に記載の基板処理装置。　
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