JP2006186146A - ワーク搬送装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】洗浄エリアにおける洗浄液、洗浄ガスが非洗浄エリアへ漏れ出すことを確実に防止可能としたワーク搬送装置を提供すること。
【解決手段】ワークの洗浄に際してワークを搬送するためのワーク搬送装置であって、隔壁3と蓋によって外部から隔離された処理槽内に配設される、それぞれにローラーを備えたローラー搬送軸5と、該ローラー搬送軸5の先端部に装着された被動側マグネット11と、前記処理槽の外側において、前記隔壁3に形成した貫通孔14を閉鎖した薄膜13を介して、前記被動側マグネット11に対向する配置で配設された駆動側マグネット15と、該駆動側マグネット15に連結した駆動軸20と、ウォームギヤ21を介して駆動軸20に連結された伝達軸と、伝達軸が連結されたモーターと、を備えた。
【選択図】図2

Description

本発明は、液晶パネル製造、PDPパネル製造、有機ELパネル製造、FEDパネル製造、プリント基板製造、半導体製造、版製造その他電子機器部品等の洗浄工程において使用されるワーク搬送装置に係り、より詳しくは、搬送用ローラーを回転することによってこの搬送用ローラー上のワークを搬送する方法において、搬送用ローラーとこの搬送用ローラーを駆動する駆動手段とを非接触にすることにより、洗浄エリアにおける洗浄液、洗浄ガス等が外部に漏れ出ることや外部からの異物の侵入を防止可能としたワーク搬送装置に関する。
近年のフラットパネルディスプレイ(液晶、PDP、EL、FED等)半導体、プリント基板、電子機器部品等の進歩の高精度化へは目覚しく、特にフラットパネルディスプレイの製造プロセス、高集積半導体素子の製造プロセスにおいては、より高度な超精密洗浄が必要とされている。
また、パターンの微細化、高集積化とともに、取り扱う液晶ガラス、PDPガラス、シリコンウエハは大型化しており、液晶ガラスでは1870×2200mm、PDPガラスでは2150×2350mm、シリコンウエハでは300mm径へと移行する現状にあるが、洗浄は、全工程の40〜60%を占め、歩留まり向上に重要な役割を担うプロセスとなっている。
ところで、一般的に前記基板等のワークの洗浄は、洗浄槽内において、搬送手段によってワークを搬送しつつ、この搬送されてくるワークに向け、洗浄液や洗浄ガスを吹き付けることにより行うが、搬送手段としてローラーを用いる場合には、洗浄槽の外側に備えた駆動手段によってローラーを回転させる方法が一般的である。
ここで、図3は、このローラーによる搬送方法を説明するための図であり、図において31は、ローラーを配置した洗浄エリアである。そして、この洗浄エリア31は、隔壁32及び図示しない蓋により外部から隔離されている。
また、洗浄エリア31には、それぞれに搬送用ローラー33が装着された複数本のローラー搬送軸34が、ワークの搬送方向へ向けて間隔を置いて平行に配列されており、この搬送用ローラー33上に、点線で示したワーク35が載置され、ローラー搬送軸34及び搬送用ローラー33の回転によってワーク35を搬送可能としている。
更に、前記洗浄エリア31の外側にはモーター36が備えられており、このモーター36に連結された駆動軸37は、前記隔壁32を貫通して洗浄エリア31内に延出され、洗浄エリア31内において前記駆動軸37は、カップリング38を介して前記ローラー搬送軸34に連結されている。
そして、この構成により、モーター36を駆動させて駆動軸37を回転すると、カップリング38を介して駆動軸37に連結されたローラー搬送軸34及びこのローラー搬送軸34に装着された搬送用ローラーが回転し、それにより、搬送用ローラー33上に載置したワーク35を搬送することができる。
しかしながら、このように構成される搬送装置では、隔壁32に貫通孔を形成して、この貫通孔を介して駆動軸37を洗浄エリア31内に延出しているため、貫通孔内において駆動軸37の周囲に隙間が生じてしまい、この隙間を通って、洗浄エリア31内の洗浄液、洗浄ガスが洗浄エリア31の外側に漏れ出てしまっていた。そしてそれにより、モーター等における金属部品が腐食してしまい正常に機能しなくなってしまうという問題が発生していた。
また、ワークの洗浄に用いる洗浄ガスは人体にとって危険なものであるために、洗浄エリア31の外側に洗浄ガスが漏れ出てしまった場合には、この洗浄ガスを安全に排出する手段が必要となり、そのためのエネルギー消費量が大きくなってしまうという問題点がある。
更に、貫通孔の隙間を通って外気が洗浄エリアに入り込んでしまうことも考えられ、この場合には、外気に含まれる異物等の影響により、有効な洗浄が困難になってしまう場合も考えられる。
そのために、このような問題点を解決するために、隔壁に形成した貫通孔をシールする方法が考えられている。
即ち、図4が隔壁32に形成した貫通孔をシールするための構造であり、図においては、駆動軸37の周囲と貫通孔3201との間の隙間をシールするためのOリング39が装着されており、このOリング39により、洗浄エリア31内の洗浄液、洗浄ガスが貫通孔3201を介して外部に漏れ出ることを防止可能としている。
また、図4に示す構成では、隔壁32の内側に内壁40を備えるとともに、この内壁40にも駆動軸37が貫通する貫通孔4001を形成しており、この内壁40における貫通孔4001と駆動軸37との間の隙間にもシール用のOリング39を装着している。
なお、図4に示す構成では、隔壁32と内壁40とにより形成された空間に排出孔41を形成し、内壁40の貫通孔4001より漏れ出てきた洗浄ガス等を、この排出孔41より排出可能としている。
従って、このような搬送装置では、洗浄エリア内の洗浄液、洗浄ガスが洗浄エリアの外側に漏れ出すことや外部からの異物の侵入を有効に防止することができるとともに、何らかの理由で洗浄エリア内の洗浄液、洗浄ガスが漏れてしまった場合でも、それを排出孔から排出することが可能であるため、洗浄エリアの外側に洗浄液、洗浄ガスが漏れてしまうことを有効に防止することができる。
しかしながら、このようなOリングによりシールする方法では、駆動軸37が回転する際に、この駆動軸37がOリング39と摺動するために、それによりOリング39がこすれて磨耗するとともに発塵を伴ってしまい、この発生した塵がワーク35に付着してしまうおそれが十分に考えられる。
また、Oリング39は磨耗によって徐々にその機能を低下させていき、長期間の使用によってOリング39が十分なシール機能を発揮できなくなってしまうおそれも考えられる。
そこで、本発明は、洗浄エリアにおける洗浄液、洗浄ガスが非洗浄エリアへ漏れ出すことを確実に防止可能としたワーク搬送装置を提供することを課題としている。
本発明のワーク搬送装置は、ワークの洗浄に際してワークを搬送するためのワーク搬送装置であって、
隔壁及び蓋によって外部から隔離された処理槽内に配設される、それぞれにローラーを備えたローラー搬送軸と、
該ローラー搬送軸の先端部に装着された被動側マグネットと、
前記処理槽の外側において、前記隔壁を介して、前記被動側マグネットに対向する配置で配設された駆動側マグネットと、
該駆動側マグネットを回転するための回転機構と、を備えたことを特徴としている。
本発明のワーク搬送装置では、隔壁と蓋によって外部から隔離された処理槽内に配置したローラー搬送軸に被動側マグネットを装着するとともに、処理槽の外側において、前記隔壁を介して、前記被動側マグネットに対向する配置で駆動側マグネットを配設し、この構成により、駆動側マグネットを回転することで、磁力によって、処理槽内の被動側マグネットを回転するとともにローラーを回転させ、これによりローラー上に載置したワークを搬送可能としている。
このように、本発明のワーク搬送装置では、マグネットの磁力を利用して処理槽内に配置したローラーを回転することとしているために、隔壁と蓋によって処理槽内を完全に隔離して密閉状態にすることができ、従って、洗浄に用いる洗浄液や洗浄ガスが処理槽の外部に漏れだすことや外部からの異物の侵入を有効に防止することが可能である。
本発明のワーク搬送装置では、隔壁と蓋によって隔離されて密閉状態にされた処理槽を備えており、この処理槽内には、それぞれにローラーを備えた複数本のローラー搬送軸が、ベアリングを内蔵した軸受けに支持されつつ、間隔を置いて平行に配設され、このローラー搬送軸の一端には、被動側マグネットが装着されている。
一方、処理槽の外部には、隔壁を挟んで前記被動側マグネットと対向する配置で駆動側マグネットが配設されており、駆動側マグネットには、このマグネットを回転させるための回転機構が連結されている。
そして、駆動側マグネットを回転するための回転機構は、駆動装置としてのモーターの回転軸に同心円で連結された伝達軸と、駆動側マグネットに装着された駆動軸とを具備し、伝達軸と駆動軸とを略直交に配置するとともに、ウォームギヤを介して、伝達軸に駆動軸を連結させて構成するとよく、これにより、1個のモーターで複数のローラーを回転することが可能となる。
ここで、前記隔壁に貫通孔を形成するとともに、この形成した貫通孔を絶縁性の薄板で閉鎖し、薄板を挟んで被動側マグネットと駆動側マグネットを対向配置するとよく、これにより、隔壁が厚い場合でも被動側マグネットを有効に回転することが可能となる。
本実施例のワーク搬送装置の実施例について図面を参照して説明すると、図1は、本実施例のワーク搬送装置を備えた洗浄工程を示す図であり、平面から見た構造を示している。そして、図において2は洗浄槽であり、この洗浄槽2は、隔壁3、及び図示しない蓋により外部から隔離された状態とされ、完全密閉状態となっている。また、図において点線で示した4は、搬送されつつ洗浄されるワークである。そして、このワークとしては、LCD、PDP、有機EL、FED等のガラス基板等が考えられる。なお、洗浄槽2内には、図示しない洗浄媒体供給手段が備えられており、この洗浄媒体供給手段により、ワーク4へ向けて、洗浄液、洗浄ガス等が吹き付けられ、これによりワーク4の洗浄が行われる。
次に、処理槽2の内部には複数本のローラー搬送軸5が、搬送方向に向けて間隔を置いて平行に配列され、このローラー搬送軸5にはそれぞれ、長手方向に向けて間隔を置いて、少なくとも2箇所に搬送用ローラー6が装着され、このローラー6上にワーク4を載置可能としている。
また、この前記ローラー搬送軸5の両端は、処理槽2内に備えた軸受け7、8により支持されており、この軸受け7、8内にはベアリングが装備され、これにより、前記ローラー搬送軸5は回転自在とされている。
なお、図1においては、ローラー搬送軸5の長手方向に沿った任意の箇所を複数個の軸受け9により支持しており、これにより、ローラー搬送軸5の撓みを防止している。
ここで、図2は、本実施例が用いられる洗浄工程における、任意のローラー搬送軸5における一方側近傍を示した概略の一部断面図であり、図において7がローラー搬送軸5の一方側を支持している軸受けである。
そして、この軸受け7内にはベアリング701が挿装されており、これにより、ローラー搬送軸5は回転自在に支持されている。
また、軸受け7には、前記ローラー搬送軸5の先端部分に装着された被動側回転体10が回転自在に挿装されており、この被動側回転体10は、ローラー搬送軸5とともに回転可能とされている。なお、本実施例において前記被動側回転体10は塩ビ製としている。
そして、本実施例において、この被動側回転体10内における前記隔壁3側端部近傍には、被動側マグネット11が装着されており、このマグネット11が回転することにより、被動側回転体10を介してローラー搬送軸5を回転可能としている。なお、本実施例において前記被動側マグネット11としては、多極のディスク型マグネットを使用しており、更にこのマグネット11の背後には、磁力を増幅させるためのヨーク12を配置している。また、図において1001は、被動側マグネット11の表面を覆っている塩ビ製の保護層であり、これにより、被動側マグネット11の表面に洗浄液等が付着することを防止している。
次に、図において13は絶縁性の薄膜である。即ち、本実施例においては、前記隔壁3に貫通孔14を形成し、この貫通孔14を閉鎖するようにして、隔壁3に絶縁性の薄膜13を装着しており、更に、前記被動側回転体10及び被動側マグネット11は、前記薄膜13とは非接触としている。なお、本実施例において前記薄膜13としてはPVC(ポリ塩化ビニール)を使用している。
そして、この薄膜13を介した隔壁3の外側には、前記被動側マグネット11と対向するようにして、かつ、薄膜13と非接触にして、駆動側マグネット15を配置しており、更に、この駆動側マグネット15には、駆動側マグネット15を回転させるための回転機構を連結している。なお、前記被動側マグネット11と同様に、前記駆動側マグネット15もまた、多極のディスク型マグネットを使用しており、更にこのマグネット15の背後には、磁力を増幅させるためのヨーク16を配置している。また、駆動側マグネット15の表面は、塩ビ製の保護層1701で覆っている。
ここで、前記回転機構について説明すると、図1において、処理槽2の外側には、ワークの搬送方向へ向けて伝達軸18が配設されているとともに、この伝達軸18の一端には、駆動手段としてのモーター19が連結され、これにより、モーター19を駆動することで伝達軸18を回転可能としている。
一方、前記駆動側マグネット15は、塩ビ製とした駆動側回転体17内に収容されており、この駆動側回転体17には、駆動軸20が、駆動側マグネット15と同心円で回転可能な配置で装着されている。そして、この駆動軸20は、前記伝達軸18側へ向けて、かつ伝達軸18と直交する方向へ向けて突出されているとともに、駆動軸20と伝達軸18とは、ウォームギヤ21により連結されている。従って、本実施例においては、このウォームギヤ21の作用によって、モーター19を駆動して伝達軸18を回動させることにより、伝達軸18と直交方向に向けて配設された駆動軸20が回転するとともに、この駆動軸20が装着されている駆動側回転体17が回転し、駆動側回転体17内の駆動側マグネット15もまた回転する。
そうすると、薄膜13を介して処理槽2内に配置される被動側マグネット11が回転し、これによりローラー搬送軸5及び搬送用ローラー6を回転させてワーク4を搬送可能となる。
なお、本実施例においては、図1からも明らかなように、処理槽2内において複数本のローラー搬送軸5を配設しているが、前記図2に示す構成はすべてのローラー搬送軸5において同様である。また、図において22は、伝達軸18部分を収容したケーシングである。
次に、このように構成される本実施例のワーク搬送装置の作用について説明すると、図1において、処理槽2内の搬送用ローラー6上に洗浄対象となるワーク4を載置する。
次に、モーター19を駆動させて伝達軸18を回転させると、前述の機構によって駆動側回転体17とともに駆動側マグネット15が回転する。
次に、駆動側マグネット15の回転に伴って、薄膜13を介して処理槽2内に配置される被動側マグネット11は、磁力の作用によって駆動側マグネット15と同方向へ回転する。そうすると、この被動側マグネット11が装着されている被動側回転体10、及び、この被動側回転体10が装着されているローラー搬送軸5が回転し、これにより、ワーク4を一方方向へ搬送し、この搬送されていくワーク4を洗浄することが可能となる。
そして、このとき、本実施例では、マグネットの磁力を利用してローラー搬送軸5を回動することとしており、それにより処理槽2内を完全に外部より隔離して密閉状態としているために、処理槽2内で使用している洗浄液、洗浄ガスが外部に漏れ出ることや外部からの異物の侵入を有効に防止することができる。
従って、本実施例によれば、人体にとって有害な物質が外部に漏れ出ることを防止できるとともに、処理槽の外側に漏れ出た洗浄ガス等の処理を行うための排気設備も不要となり、消費エネルギーの節約も可能であり、更に、ローラー搬送軸を回転させるための回転機構が洗浄液等の影響で腐食することも防止可能である。
また、本実施例においては、隔壁3に貫通孔14を形成するとともに、この貫通孔を絶縁性の薄膜13で閉鎖しているために、隔壁3の厚みによってマグネットの磁力が弱まることを有効に防止することも可能である。
更に、本実施例においては、ウォームギヤ21を用いて、モーター19に連結された伝達軸18にそれぞれの駆動側回転体17に連結された駆動軸20を連結しているために、1個のモーターですべてのローラー搬送軸を回転させることが可能である。
なお、前述の回転機構では、駆動軸20と伝達軸18とをウォームギヤ21によって連結した例を説明したが、本発明の回転機構では、必ずしもウォームギヤを用いる必要はなく、駆動軸20を回転可能な機構であればいずれの機構を用いてもよい。例えば、駆動軸20に平歯車を装着する一方、モーター19は、その回転軸が駆動軸20と同一方向へ回転可能な配置として、モーター19の回転軸と駆動軸20に装着した平歯車とをベルトで連結し、これにより、モーター19を駆動することによりベルトを介して駆動軸20を回転可能にしてもよい。
本発明のワーク搬送装置では、マグネットの磁力を利用してローラー搬送軸を回転させることとし、これにより処理槽内を完全密閉可能としているために、ワークの洗浄工程に限らず、ワークを搬送しつつ処理する工程の全般に適用可能である。
本発明のワーク搬送装置の実施例を適用した洗浄工程を示す図である。 本発明のワーク搬送装置の実施例を説明するための概略一部断面図である。 従来の洗浄工程を説明するための図である。 改良された従来の洗浄工程を説明するための図である。
符号の説明
2 洗浄槽
3 隔壁
4 ワーク
5 搬送用ローラー
6 ローラー搬送軸
7、8 軸受け
9 中間部分に配置した軸受け
10 被動側回転体
11 被動側マグネット
12 ヨーク
13 薄膜
14 隔壁に形成した貫通孔
15 駆動側マグネット
16 ヨーク
17 駆動側回転体
18 伝達軸
19 モーター
20 駆動軸
21 ウォームギヤ
22 ケーシング

Claims (3)

  1. ワークの洗浄に際してワークを搬送するためのワーク搬送装置であって、
    隔壁(3)及び蓋によって外部から密閉状態で隔離された処理槽(2)内に配設される、それぞれにローラー(6)を備えたローラー搬送軸(5)と、
    該ローラー搬送軸(5)の先端部に装着された被動側マグネット(11)と、
    前記処理槽(2)の外側において、前記隔壁(3)を介して、前記被動側マグネット(11)に対向する配置で配設された駆動側マグネット(15)と、
    該駆動側マグネット(15)を回転するための回転機構と、を備えたことを特徴とするワーク搬送装置。
  2. 前記隔壁(3)に貫通孔(14)を形成するとともに、前記貫通孔(14)を絶縁性の薄板(13)で閉鎖し、該薄板(13)を挟んで前記被動側マグネット(11)及び駆動側マグネット(15)を対向配置したことを特徴とする請求項1に記載のワーク搬送装置。
  3. 前記回転機構は、モーター等の駆動装置(19)と、
    該駆動装置(19)の軸に連結された伝達軸(18)と、
    前記駆動側マグネット(15)に連結した駆動軸(20)と、
    前記伝達軸(18)と駆動軸(20)とを連結したギヤ(21)と、を具備して構成されていることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のワーク搬送装置。
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100767038B1 (ko) 2006-07-28 2007-10-12 세메스 주식회사 기판 이송 장치
WO2008029680A1 (fr) * 2006-09-04 2008-03-13 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Rouleau de transfert et appareil de transfert de substrats
KR100904451B1 (ko) 2005-03-18 2009-06-24 세메스 주식회사 컨베이어 장치 및 컨베이어 방법
WO2010087435A1 (ja) * 2009-02-02 2010-08-05 シャープ株式会社 基板処理装置
KR101033959B1 (ko) 2009-12-16 2011-05-11 삼성전기주식회사 기판 이송장치
CN109368157A (zh) * 2018-09-25 2019-02-22 江苏森蓝智能系统有限公司 一种自动双层真空罐对接转运设备

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100761535B1 (ko) * 2006-01-17 2007-09-27 세메스 주식회사 기판 처리 장치
KR100785403B1 (ko) * 2006-11-27 2007-12-13 세메스 주식회사 기판 처리 장치 및 방법
KR101368146B1 (ko) * 2007-05-25 2014-03-03 엘지디스플레이 주식회사 기판 이송 장치
KR100914531B1 (ko) * 2007-10-10 2009-09-02 세메스 주식회사 기판 이송용 마그네틱 기어 및 그 제조 방법
CN101254859B (zh) * 2007-11-30 2012-12-12 无锡尚德太阳能电力有限公司 一种传送薄基板的滚轮组及使用其进行化学处理的方法
BRPI1006473B1 (pt) * 2009-03-16 2019-10-22 Laitram Llc transportador, correia transportadora e método para conduzir artigos
CN101580179B (zh) * 2009-06-04 2011-07-27 东莞宏威数码机械有限公司 基片传输机构
CN102774609A (zh) * 2011-05-12 2012-11-14 佶新科技股份有限公司 直接传动式平板运送装置
CN102642716B (zh) * 2012-04-11 2014-04-02 深圳市华星光电技术有限公司 玻璃基板的取放装置
CN106429291A (zh) * 2016-11-08 2017-02-22 天奇自动化工程股份有限公司 磁性积放辊筒
CN107600965A (zh) * 2017-08-18 2018-01-19 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 一种基板传送设备

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05190519A (ja) * 1992-01-17 1993-07-30 Hitachi Ltd 洗浄装置
JPH0727290U (ja) * 1993-10-29 1995-05-19 大日本スクリーン製造株式会社 駆動力伝達装置
JP2004284694A (ja) * 2003-03-19 2004-10-14 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板搬送装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05190519A (ja) * 1992-01-17 1993-07-30 Hitachi Ltd 洗浄装置
JPH0727290U (ja) * 1993-10-29 1995-05-19 大日本スクリーン製造株式会社 駆動力伝達装置
JP2004284694A (ja) * 2003-03-19 2004-10-14 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板搬送装置

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100904451B1 (ko) 2005-03-18 2009-06-24 세메스 주식회사 컨베이어 장치 및 컨베이어 방법
KR100767038B1 (ko) 2006-07-28 2007-10-12 세메스 주식회사 기판 이송 장치
WO2008029680A1 (fr) * 2006-09-04 2008-03-13 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Rouleau de transfert et appareil de transfert de substrats
WO2010087435A1 (ja) * 2009-02-02 2010-08-05 シャープ株式会社 基板処理装置
KR101033959B1 (ko) 2009-12-16 2011-05-11 삼성전기주식회사 기판 이송장치
CN109368157A (zh) * 2018-09-25 2019-02-22 江苏森蓝智能系统有限公司 一种自动双层真空罐对接转运设备

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