KR100711291B1 - 기판 이송샤프트 지지장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 베어링의 작동시 발생될 수 있는 파티클(particles) 또는 파쇄 입자들을 회수하여 배출시킬 수 있고 연기의 발생 및 누출을 방지할 수 있는 기판 이송샤프트 지지장치를 제공한다. 그 기판 이송샤프트 지지장치는 이송샤프트의 일측이 삽입 고정되는 베어링; 그 베어링이 삽입되어 지지되는 장착홈을 구비하며, 베어링의 작동시 발생될 수 있는 파티클을 배출하기 위한 배출공이 형성되는 지지부재; 베어링의 상부 및 양측부의 일부를 차폐하기 위해 지지부재의 상부에 결합되는 커버; 및 지지부재를 지지하며, 그 지지부재의 배출공과 연통하는 드레인라인을 구비하는 드레인부재를 포함한다.
기판, 이송샤프트, 이송샤프트 지지장치, 베어링, 파티클

Description

기판 이송샤프트 지지장치{Apparatus for bearing shaft for conveying glass substrate}
도 1은 일반적인 기판 세정챔버내의 세정공정을 보여주는 측면도.
도 2는 도 1의 세정챔버내에 설치되는 이송샤프트 및 롤러의 구조를 개략적으로 보여주는 정면도.
도 3은 도 2의 기판 이송샤프트에 적용되는 지지장치를 상세히 보여주는 분해 사시도.
도 4는 본 발명에 따른 기판 이송샤프트 지지장치를 보여주는 분해사시도.
도 5는 도 4의 기판 이송샤프트 지지장치가 결합된 상태에서의 부분 확대 횡단면도.
도 6은 도 4의 기판 이송샤프트 지지장치가 결합된 상태에서의 부분 확대 종단면도.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *
16: 기판 이송샤프트 20: 베어링
22: 내측휠 30: 지지부재
32: 장착홈 36: 플랜지
38: 배출공 40: 커버
44: 차폐부재 50: 드레인부재
52: 드레인 라인 S: 기판
본 발명은 기판 이송샤프트 지지장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 이송샤프트에 고정된 베어링의 구동시 발생될 수 있는 파티클(particles) 또는 파쇄 입자들을 자동으로 회수하여 배출시킬 수 있고, 연기의 발생 및 누출을 방지할 수 있는 기판 이송샤프트 지지장치에 관한 것이다.
최근 들어, 정보 처리 기기는 다양한 형태의 기능과 더욱 빨라진 정보 처리 속도를 갖도록 급속하게 발전하고 있다. 이러한 정보 처리 장치는 가동된 정보를 표시하기 위해 디스플레이 장치를 가진다. 지금까지는 디스플레이 장치로 브라운관(Cathode Ray Tube) 모니터가 주로 사용되었으나, 최근에는 반도체 기술의 급속한 발전에 따라 가볍고 공간을 작게 차지하는 평판 디스플레이 장치의 사용이 급격히 증대하고 있다. 평판 디스플레이로는 다양한 종류가 있으며, 이들 중 전력 소모와 부피가 작으며 저전압 구동형인 액정 디스플레이(Liquid Crystal Display)가 널리 사용되고 있다.
이러한 액정 디스플레이를 제조하기 위해 기판 상에는 패턴의 형성을 위해 예컨대, 식각, 수세, 또는 건조와 같은 다양한 공정이 실행되어야 한다. 이 같은 공정들은 대부분 해당 공정을 수행하기 위한 공정챔버에서 이루어지며, 이 같은 각 각의 공정챔버로 기판을 이송 또는 반송시키기 위한 이송장치가 설치되어 있다. 이 같은 이송장치는 대개 동력을 발생시키는 액튜에이터, 그 액튜에이터에 구동적으로 연결되는 풀리, 각각의 풀리에 연결되어 회전 구동되는 이송샤프트 및 각각의 이송샤프트에 설치되어 실제로 기판을 지지하는 다수의 롤러로 구성되는 벨트구동식 이송장치와, 액튜에이터와 이송샤프트가 자력에 의해 상호 연결되는 자기식 이송장치로 구분된다.
이 같은 이송장치 중 자기식 이송장치는 도 1 내지 3에 도시된 바와 같이, 챔버의 벽체(1)를 경계로 하여 액튜에이터(미도시)의 구동에 의해 회전 구동되는 외측 자석풀리(2)와, 그 외측 자석풀리(2)에 자기적으로 연결되어 구동되는 내측 자석풀리(3)를 구비한다. 물론 내측 자석풀리(3)에는 챔버에 횡으로 배치되는 이송샤프트(4)의 단부가 연결되며, 그 이송 샤프트(4)에는 실제로 기판(5)을 지지하기 위한 복수의 롤러(6)가 설치되어 있다. 이송샤프트(4)는 원활하고 안정적으로 회전 구동할 수 있도록 지지장치(7)에 의해 지지된다.
그 이송샤프트 지지장치(7)는 챔버의 바닥에 고정되며 지지홈(7a)을 구비하는 지지부(7b)와, 그 지지부(7b)의 지지홈(7a)에 삽입되며 이송샤프트(4)가 고정되는 레이디얼형 베어링(7c)과, 그 베어링(7c)의 상부를 지지하기 위한 커버(7d)로 구성된다.
이 같은 구성에 따라, 이송샤프트(4)의 회전구동에 따라 기판(5)이 이송된 상태 또는 이송중에, 예컨대 노즐(8)로부터 분사되는 약액 또는 세정액에 의해 처리되거나 세정되는 것이며, 이때 지지장치(7)는 이송샤프트(4)가 원활하게 회전 구 동될 수 있도록 지지하는 역할을 한다.
그러나 이와 같은 종래의 이송장치에서는 다소의 문제점이 초래되는 것으로 나타났다. 즉, 기판 이송샤프트의 회전구동시 베어링으로부터 파티클 또는 파쇄입자가 발생되고, 이 같은 파티클의 유출로 인해 각각의 처리공정에서 제품의 불량을 초래할 수 있으며, 회수되는 약액 또는 세정액에 혼입되어 재활용을 곤란하게 할 뿐 아니라 연기의 발생 및 누출을 방지할 수 없는 문제점이 있다. 
이에 본 발명은 상술된 문제점을 해결하기 위해 발명된 것으로서, 본 발명의 목적은 이송샤프트의 구동시 베어링으로부터 발생되는 파티클을 별도로 회수하여 배출 또는 처리할 수 있으며, 연기의 발생 및 누출을 완전 차단할 수 있는 기판 이송샤프트 지지장치를 제공하는 데 있다.
본 발명의 바람직한 실시예에 따른 기판 이송샤프트 지지장치는, 기판 처리시스템에서의 기판 이송샤프트 지지장치에 있어서, 이송샤프트의 일측이 삽입 고정되는 베어링; 그 베어링이 삽입되어 지지되는 장착홈을 구비하며, 베어링에서 발생될 수 있는 파티클을 배출하기 위한 배출공이 형성되는 지지부재; 베어링의 상부 및 양측부의 일부를 차폐하기 위해 지지부재의 상부에 결합되는 커버; 및 지지부재를 지지하며, 지지부재의 배출공과 연통하는 드레인라인을 구비하는 드레인부재를 포함한다.
이하, 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 첨부 도면들을 참조로 하여 상세히 설명한다.
도 4는 본 발명에 따른 기판 이송샤프트 지지장치를 보여주는 분해사시도이고, 도 5는 도 4의 이송샤프트 지지장치가 결합된 상태에서의 부분 확대 횡단면도이며, 도 6은 도 4의 이송샤프트 지지장치가 결합된 상태에서의 부분 확대 종단면도이다.
도 4내지 도 6에 있어서, 먼저 본 발명에 따른 기판 이송샤프트 지지장치가 적용되는 이송장치를 전술된 바와 같이 다시 간단히 설명하면, 챔버의 벽체(10)를 경계로 하여 액튜에이터(미도시)의 구동에 의해 회전 구동되는 외측 자석풀리(12)와, 그 외측 자석풀리(12)에 자기적으로 연결되어 구동되는 내측 자석풀리(14)와, 그 내측 자석풀리(14)에 일단부가 고정되며 챔버에 횡으로 배치되는 기판 이송샤프트(16)와, 그 기판 이송샤프트(16)에 실제로 기판(S)을 지지하기 위해 일정 간격으로 설치되는 복수의 롤러(18)와, 기판 이송샤프트(16)를 원활하고 안정적으로 회전 구동할 수 있는 기판 이송장치 지지장치를 구비한다.
특히 본 발명에 따른 기판 이송샤프트 지지장치에 대해 보다 상세히 설명하며, 그 기판 이송샤프트 지지장치는 이송샤프트(16)의 일측에 삽입 고정되는 베어링(20)을 구비한다. 그 베어링(20)은 레이디얼 베이링으로 형성된다.
즉, 베어링(20)은 실제로 기판 이송샤프트(16)가 삽입 고정되는 내측휠(22)과, 그 내측휠(22)의 외측변을 포위하며 배치되는 복수의 볼(24)과, 각각의 볼(24)을 구름 가능하게 포위 및 지지하는 외측휠(26)로 구성된다.
베어링(20)의 하부에는 그 베어링(20)을 지지하기 위한 지지부재(30)가 배치 된다. 지지부재(30)는 직사각 입방체형으로 형성되며, 후술되는 드레인부재에 의해 챔버에 지지된다.
특히, 지지부재(30)에는 그 중앙부에 베어링(20)이 삽입되어 고정되는 장착홈(32)이 형성된다. 장착홈(32)의 하부는 베어링(20)의 외측휠(26)이 견고하고 안정적으로 삽입 고정될 수 있도록 반원형으로 형성되며, 중앙상부의 각각의 코너부분에는 후술되는 커버가 삽입고정 될 수 있도록 고정단(34)이 형성되는 것이 바람직하다. 장착홈(32)의 하부 중앙 양측에는 베어링(20)의 구동시 발생될 수 있는 파편, 또는 부스러기와 같은 파티클 또는 이물질을 배출시키기 위한 배출공(38)이 천공 형성되는 것이 바람직하다. 또한, 장착홈(32)의 양측에는 베어링(20)의 하부 및 양측부를 최대로 차폐하여 파티클이 외부로 누출되거나 연기의 누출을 방지할 수 있도록 플랜지부(36)가 일체로 연장 형성되는 것이 바람직하다.
지지부재(30)에는 장착홈(32)을 차폐하고 베어링(20)의 상부 및 측방을 지지하기 위한 커버(40)가 설치된다. 커버(40)는 볼트(42)와 같은 체결수단에 의해 지지부재(30)에 착탈 가능하게 체결된다.
커버(40)에는 지지부재(30)의 고정단(34)에 슬라이드방식으로 삽입되어 고정되는 2개의 차폐부(44)가 일체로 형성된다. 각각의 차폐부(44)는 지지부재(30)에 삽입된 베어링(20)의 양측부를 최대로 밀폐하거나 차폐하는 역할을 한다.
한편, 지지부재(30)의 하부에는 그 지지부재(30)를 챔버의 바닥에 고정 지지시킴은 물론 베어링(20)의 구동시 발생될 수 있는 파티클을 수집하여 배출시키기 위한 드레인부재(50)가 설치된다. 드레인부재(50)는 직사각 입방체형으로 형성된 다.
드레인부재(50)는 지지부재(20)의 배출공(38)과 연통하며, 그 배출공(38)으로부터 배출되는 파티클을 챔버 외부로 배출하거나 파티클 처리라인으로 송출시키기 위한 드레인라인(52)이 형성되는 매니폴드형태로 형성되는 것이 바람직하다. 
이하, 전술된 바와 같이 구성되는 기판 이송샤프트 지지장치의 작용모드 및 그 작용효과에 대해 상세히 설명한다.
먼저 작업자는 기판 이송샤프트(16)의 양측에 베어링(20)을 삽입하고, 그 베어링(20)을 지지부재(30)의 장착홈(32)에 안착시킨 후, 커버(40)의 차폐부(44)를 지지부재(30)의 고정단(34)에 삽입한 상태에서 볼트(42)를 이용하여 체결함으로써, 지지장치에 대한 이송샤프트의 설치를 완료한다. 이때, 베어링(20)은 지지부재(30)의 플랜지(36) 및 커버(40)의 차폐부(44)에 의해 최대로 차폐된 상태를 유지한다.
이와 같은 상태에서, 이송샤프트(16)를 회전시키면 기판(S)이 그 이송샤프트(16)에 의해 이송된다. 이때 이송샤프트(16)는 지지장치의 베어링(20)에 의해 지지되어 원활한 회전구동을 행할 수 있는 것이다.
특히, 이 같은 이송샤프트(16) 및 베어링(20)의 회전 구동 중 베어링(20)에서는 파쇄편 또는 부스러기와 같은 파티클이 발생될 수 있는 바, 이 같은 파티클은 지지부재(30)의 배출공(38)을 통해 드레인부재(50)의 드레인라인(52)을 통해 챔버의 외부로 배출되거나 별도의 파티클 처리라인(미도시)으로 송출되어 처리되는 것이다.
이에 따라, 기판(S)에 분사되어 사용된 약액 또는 세정액에는 파티클이 포함 되지 않게 되며, 이에 따라 순수한 세정액 및 약액만을 회수하여 재사용하거나 처리할 수 있는 것이다.
또한, 베어링(20)은 지지부재(30)의 플랜지(36) 및 커버(40)의 차폐부에 의해 거의 대부분이 차폐됨으로써, 그 베어링(20)에서 발생되는 파티클은 물론 연기가 외부로 누출되는 것을 거의 방지할 수 있는 것이다. 
따라서 기판의 이송시 베어링에서 발생될 수 있는 파티클을 자동적으로 회수하여 배출 및 처리할 수 있으며, 베어링에서 발생될 수 있는 연기의 누출을 방지할 수 있는 것이다. 
결과적으로 본 발명에 의한 기판 이송샤프트 지지장치에 의하면, 이송샤프트를 지지하는 베어링에서 발생될 수 있는 파티클을 처리할 수 있는 드레인 부재를 구비하여 파티클을 자동으로 회수 및 배출시킬 수 있음으로써, 사용된 약액 또는 세정액을 정상상태로 유지하고 순환 및 제사용할 수 있으며, 베어리을 거의 차폐하여 파티클의 유출 및 연기의 누출을 방지할 수 있어 작업분위기를 최적의 상태로 유지할 수 있는 효과가 있다.

Claims (6)

  1. 기판 처리시스템에서의 기판 이송샤프트 지지장치에 있어서,
    이송샤프트의 일측이 삽입 고정되는 베어링;
    상기 베어링이 삽입되어 지지되는 장착홈을 구비하며, 상기 베어링에서 발생될 수 있는 파티클을 배출하기 위한 배출공이 형성되는 지지부재;
    상기 베어링의 상부 및 양측부의 일부를 차폐하기 위해 상기 지지부재의 상부에 결합되는 커버; 및
    상기 지지부재를 지지하며, 상기 지지부재의 배출공과 연통하는 드레인 라인을 구비하는 드레인부재를 포함하는 기판 이송샤프트 지지장치.
  2. 제 1항에 있어서, 상기 베어링은 상기 이송샤프트가 삽입 고정되는 내측휠과, 상기 내측휠의 외측변을 포위하며 배치되는 복수의 볼과, 상기 각각의 볼을 구름 가능하게 포위 및 지지하며 상기 지지부재의 장착홈에 삽입 고정되는 외측휠로 구성되는 것을 특징으로 하는 기판 이송샤프트 지지장치.
  3. 제 1항 또는 2항에 있어서, 상기 지지부재의 장착홈의 하부는 상기 베어링의 외측휠이 삽입 고정될 수 있도록 반원형으로 형성되며, 중앙상부에는 상기 커버가 삽입 고정되는 고정단이 형성되는 것을 특징으로 하는 기판 이송샤프트 지지장치.
  4. 제 3항에 있어서, 상기 장착홈의 양측에는, 상기 베어링의 하부 및 양측부를 차폐하기 위해 상기 고정단에 일체로 연장 형성되는 플랜지부가 더 형성되는 것을 특징으로 하는 기판 이송샤프트 지지장치.
  5. 제 3항에 있어서, 상기 커버에는 상기 지지부재의 고정단에 삽입되어 고정되는 2개의 차폐부가 일체로 형성되는 것을 특징으로 하는 기판 이송샤프트 지지장치.
  6. 제 1항에 있어서, 상기 배출공은 상기 지지부재의 장착홈에 배치되는 베어링장착부의 양측의 장착홈에 형성되는 것을 특징으로 하는 기판 이송샤프트 지지장치.
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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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