KR100779949B1 - 기판 이송 장치 및 이를 포함하는 기판 처리 장치 - Google Patents

기판 이송 장치 및 이를 포함하는 기판 처리 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR100779949B1
KR100779949B1 KR1020060135557A KR20060135557A KR100779949B1 KR 100779949 B1 KR100779949 B1 KR 100779949B1 KR 1020060135557 A KR1020060135557 A KR 1020060135557A KR 20060135557 A KR20060135557 A KR 20060135557A KR 100779949 B1 KR100779949 B1 KR 100779949B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
magnetic
gear
substrate
gears
driven gears
Prior art date
Application number
KR1020060135557A
Other languages
English (en)
Inventor
김용백
전치형
Original Assignee
세메스 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 세메스 주식회사 filed Critical 세메스 주식회사
Priority to KR1020060135557A priority Critical patent/KR100779949B1/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100779949B1 publication Critical patent/KR100779949B1/ko

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G49/00—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for
    • B65G49/05—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles
    • B65G49/06—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles for fragile sheets, e.g. glass
    • B65G49/061—Lifting, gripping, or carrying means, for one or more sheets forming independent means of transport, e.g. suction cups, transport frames
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G49/00—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for
    • B65G49/05—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles
    • B65G49/06—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles for fragile sheets, e.g. glass
    • B65G49/063—Transporting devices for sheet glass
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67703—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
    • H01L21/67706—Mechanical details, e.g. roller, belt
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67703—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
    • H01L21/67709—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations using magnetic elements
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67703—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
    • H01L21/67736—Loading to or unloading from a conveyor

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

기판을 이송시키기 위한 기판 이송부를 포함하는 기판 처리 장치에서, 기판을 이송하기 위한 회전력은 챔버 외부에 배치되는 마그네틱 풀리와, 챔버 내부에 배치되는 마그네틱 기어 및 상기 마그네틱 기어와 결합되는 다수의 피동 기어들에 의해 전달된다. 상기 마그네틱 기어 및 피동 기어들에는 각각 회전축들이 결합되며, 상기 회전축들에는 상기 기판을 지지하고 상기 회전력에 의해 상기 기판을 이송하기 위한 롤러들이 결합된다. 상기 마그네틱 기어와 피동 기어들 사이에는 상기 피동 기어들이 상기 마그네틱 기어와 동일한 방향으로 회전할 수 있도록 하는 아이들 기어들이 각각 결합된다. 따라서, 종래의 벨트 구동 방식의 기판 이송에서 발생될 수 있는 타이밍 벨트의 미끄러짐에 의한 기판 이송 오류를 방지할 수 있다.

Description

기판 이송 장치 및 이를 포함하는 기판 처리 장치{Apparatus for transferring substrate and apparatus for treating substrate including the same}
도 1은 종래의 기판 처리 장치를 설명하기 위한 개략적인 구성도이다.
도 2는 도 1에 도시된 기판 처리 장치의 구동부를 설명하기 위한 개략적인 구성도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치를 설명하기 위한 개략적인 구성도이다.
도 4는 도 3에 도시된 기판 처리 장치를 설명하기 위한 개략적인 측면도이다.
도 5는 도 3에 도시된 챔버 측벽의 다른 예를 설명하기 위한 단면도이다.
도 6은 도 5에 도시된 챔버 측벽의 다른 예를 설명하기 위한 정면도이다.
도 7은 도 3에 도시된 마그네틱 기어, 피동 기어들 및 아이들 기어들을 설명하기 위한 단면도이다.
도 8은 도 3에 도시된 기판 상으로 처리액을 제공하기 위한 처리액 제공부를 설명하기 위한 개략적인 구성도이다.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *
10 : 평판형 기판 200 : 기판 처리 장치
202 : 챔버 202a : 측벽
204 : 회전축 206 : 롤러
210 : 동력 제공부 212 : 구동축
214 : 마그네틱 풀리 216 : 구동 마그네틱 부재
218 : 마그네틱 기어 220 : 피동 마그네틱 부재
222 : 피동 기어 224 : 아이들 기어
226 : 지지부재 228 : 기어 설치 공간
230 : 격벽 232 : 베어링
234 : 세정액 공급부 236 : 세정액 배출 배관
240 : 처리액 제공부 242 : 처리액 공급 배관
244 : 노즐 파이프 246 : 처리액 배출 배관
본 발명은 기판 이송 장치와 이를 포함하는 기판 처리 장치에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 액정 디스플레이 장치, 플라즈마 디스플레이 장치, OLED(Organic Light Emitting Diode) 디스플레이 장치 등과 같은 평판 디스플레이 장치의 제조를 위한 평판형 기판을 이송하기 위한 장치와 이를 포함하는 기판 처리 장치에 관한 것이다.
최근, 정보 처리 기기는 다양한 형태와 기능, 더욱 빨라진 정보 처리 속도 등에 대한 요구에 따라 급속하게 발전하고 있으며, 이들 정보 처리 기기는 가공된 정보를 표시하기 위한 디스플레이 장치를 요구한다. 상기와 같은 정보 디스플레이 장치들은 주로 CRT 모니터를 사용하였으나, 최근 휴대형 정보 기기의 발달에 따라 휴대의 편의성, 소형 경량화에 대한 요구를 실현하기 위하여 액정 디스플레이 장치 또는 OLED 디스플레이 장치 등에 대한 요구가 증가되고 있다. 또한, 가정용 또는 사무용 디스플레이 장치의 경우에도 보다 선명한 화질, 응답 속도, 작업자의 피로도 감소, 공간 확보 등을 위하여 상기 평판 디스플레이 장치에 대한 요구가 증가되고 있다.
예를 들면, 상기 액정 디스플레이 장치의 경우, 상부 기판과 하부 기판 사이에 있는 액정 분자들의 배열 구조에 따른 광의 투과율 차이를 이용하는 디스플레이 장치로서, 최근에는 표시 정보량의 증가와 이에 따른 표시 면적의 증가 요구에 부응하기 위하여 화면을 구성하는 모든 화소에 대하여 개별적으로 구동 신호를 인가하는 액티브 매트릭스(Active Matrix) 방식의 액정 디스플레이 장치에 대한 연구가 활발하게 이루어지고 있다.
상기 액정 디스플레이 장치는 화상 데이터를 액정의 광학적 성질을 이용하여 디스플레이하는 액정 패널과 이를 구동하기 위한 구동 회로를 포함하는 액정 패널 어셈블리와, 화면 표시를 위한 광을 제공하는 백라이트 어셈블리와, 이들을 고정 및 수용하는 몰드 프레임 등을 포함할 수 있다.
상기 액정 디스플레이 장치의 제조에는 대면적의 유리 기판이 사용되며, 상 기 유리 기판 상에 전극 패턴들을 형성하기 위하여 다양한 단위 공정들이 수행될 수 있다. 예를 들면, 상기 유리 기판 상에 막을 형성하는 성막 공정, 상기 막을 목적하는 패턴들로 형성하기 위한 식각 공정, 상기 유리 기판 상의 불순물을 제거하기 위한 세정 공정, 상기 유리 기판을 건조시키기 위한 건조 공정 등이 필요에 따라 반복적으로 수행될 수 있다.
상기 공정들을 수행하기 위한 기판 처리 장치는 기판의 로딩을 위한 기판 로더와, 상기 로더에 의해 반입된 기판에 대한 식각, 세정, 스트립 또는 현상 등의 처리 공정을 수행하기 위한 기판 처리부와, 상기 처리된 기판을 린스액을 이용하여 린스 처리하기 위한 린스 처리부와, 린스 처리된 기판을 건조시키기 위한 건조 처리부와, 상기 기판을 반출하기 위한 언로더 등을 포함할 수 있다. 또한, 상기 기판 처리 장치는 필요에 따라 기판 상의 정전기를 제거하기 위한 제전 장치, 기판의 일시 대기를 위한 버퍼 챔버 등을 더 포함할 수도 있다.
도 1은 종래의 기판 처리 장치를 설명하기 위한 개략적인 구성도이며, 도 2는 도 1에 도시된 기판 처리 장치의 구동부를 설명하기 위한 개략적인 구성도이다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 종래의 기판 처리 장치(100)는 기판(10)에 대한 처리 공정이 수행되는 챔버(102, chamber)와 상기 기판(10)을 이송하기 위한 기판 이송부를 포함할 수 있다.
상기 챔버(102)의 내부에는 상기 기판(10)의 이송 방향을 따라 배열되며, 서로 평행하게 배치되는 다수의 회전축들(104)이 배치된다. 상기 회전축들(104)에는 상기 기판을 지지하기 위한 롤러들(106, rollers)이 결합되며, 상기 기판(10)은 상 기 롤러들(106)에 지지된 상태에서 상기 회전축들(104)의 회전에 의해 이송된다.
상기 챔버(10)의 외부에는 회전력을 발생시키는 동력 제공부(110)와, 상기 회전력을 전달하기 위한 벨트 시스템(belt system) 및 상기 회전력을 상기 회전축들(104)에 전달하기 위한 제1 마그네틱 풀리들(112, magnetic pulleys)이 배치되며, 상기 챔버(102)의 내부에는 상기 회전축들(104)의 단부들에 각각 결합되는 제2 마그네틱 풀리들(114)이 배치된다.
상기 벨트 시스템은 상기 동력 제공부(110)의 제1 구동 풀리(116, driving pulley)와 타이밍 벨트(118, timing belt)에 의해 연결된 다수의 제2 구동 풀리들(120) 및 상기 회전력의 전달 효율을 향상시키기 위한 다수의 아이들 풀리들(122, idle pulleys)을 포함할 수 있다. 상기 제1 마그네틱 풀리들(112)은 상기 제2 구동 풀리들(120)과 연결되며, 상기 챔버(102)의 외측면에 인접하도록 배치된다. 상기 제2 마그네틱 풀리들(114)은 상기 챔버(102)의 측벽(102a)을 사이에 두고 상기 제1 마그네틱 풀리들(112)과 마주하도록 상기 챔버(102)의 내측면과 인접하여 배치된다.
각각의 제1 및 제2 마그네틱 풀리들(112, 114)은 디스크 형상을 갖고, 원주 방향으로 N극 및 S극이 번갈아 위치되도록 장착된 다수의 마그네틱 부재들(magnetic members)을 포함한다. 즉, 상기 제1 및 제2 마그네틱 풀리들(112, 114)은 마그네틱 부재들의 자기력에 의해 회전력 전달이 가능하도록 서로 구속된다.
상기와 같은 종래의 기판 처리 장치(100)를 장시간 사용하는 경우, 타이밍 벨트(118)의 사용에 따라 제1 및 제2 구동 풀리들(116, 120)과 아이들 풀리들(122)을 지지하는 구동축들 및 아이들 축들에 우력이 작용하며, 이에 따라 상기 축들의 결합에 사용되는 베어링들에서 그리스 누유가 발생될 수 있다. 또한, 상기 회전력이 정회전에서 역회전으로 바뀌는 경우, 상기 타이밍 벨트(118)의 미끄러짐 현상이 발생될 수 있다. 이 밖에도, 다수의 제1 및 제2 마그네틱 풀리들(112, 114)을 사용하므로, 기판 처리 장치(100)의 제조 비용 및 운전에 따른 유지보수 비용이 증가될 수 있으며, 챔버(102)의 측벽(102a)에 다수의 제1 및 제2 마그네틱 풀리들(112, 114)이 인접하게 배치되므로, 운전 중 챔버(102)의 측벽(102a)이 손상되는 경우가 빈번하게 발생될 수 있다.
상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 제1 목적은 타이밍 벨트를 사용하지 않는 기판 이송 장치를 제공하는데 있다.
본 발명의 제2 목적은 타이밍 벨트를 사용하지 않는 기판 이송부를 포함하는 기판 처리 장치를 제공하는데 있다.
상기 제1 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 측면에 따른 기판 이송 장치에서, 동력 제공부는 회전력을 발생시키며, 마그네틱 풀리는 상기 동력 제공부의 구동축에 연결될 수 있으며, 원주 방향으로 N극과 S극이 번갈아 배열되도록 장착된 다수의 마그네틱 부재들을 포함할 수 있다. 마그네틱 기어는 상기 마그네틱 풀리와 마주하여 배치되며, 그 외주면에는 기어 이가 형성되어 있고, 상기 마그네틱 풀리 와 함께 회전 가능하도록 원주 방향으로 N극과 S극이 번갈아 배열되도록 장착된 다수의 마그네틱 부재들을 포함할 수 있다. 다수의 피동 기어들은 상기 마그네틱 기어와 평행한 중심축을 각각 갖고, 상기 마그네틱 기어에 의해 회전 가능하도록 일렬로 배치될 수 있다. 다수의 아이들 기어들은 상기 피동 기어들이 상기 마그네틱 기어와 동일한 방향으로 회전하도록 상기 마그네틱 기어와 피동 기어들 사이에서 기어 결합될 수 있다. 다수의 회전축들은 상기 마그네틱 기어 및 상기 피동 기어들과 결합되며, 서로 평행한 방향으로 연장할 수 있다. 다수의 롤러들은 상기 회전축들과 함께 회전하도록 각각의 회전축들에 결합되어 평판형 기판을 지지하며, 상기 회전축들의 회전에 의해 상기 평판형 기판을 이송하기 위하에 제공될 수 있다.
본 발명의 실시예들에 따르면, 상기 마그네틱 풀리와 상기 마그네틱 기어는 서로 이격되어 배치될 수 있다.
본 발명의 실시예들에 따르면, 상기 마그네틱 풀리와 상기 마그네틱 기어 사이의 간격은 약 5 내지 7mm 정도로 조절될 수 있다.
상기 제2 목적을 달성하기 위한 본 발명의 다른 측면에 따른 기판 처리 장치에서, 유리 기판과 같은 평판형 기판에 대한 처리 공정은 챔버 내에서 수행될 수 있다. 동력 제공부는 상기 챔버의 외부에 배치되며, 회전력을 발생시키기 위하여 제공된다. 마그네틱 풀리는 상기 챔버의 외부에서 상기 동력 제공부의 구동축에 연결되며, 원주 방향으로 N극과 S극이 번갈아 배열되도록 장착된 다수의 마그네틱 부재들을 포함할 수 있다. 마그네틱 기어는 상기 챔버의 측벽을 사이에 두고 상기 마그네틱 풀리와 마주하여 배치되며, 그 외주면에는 기어 이가 형성되어 있고, 상기 마그네틱 풀리와 함께 회전 가능하도록 원주 방향으로 N극과 S극이 번갈아 배열되도록 장착된 다수의 마그네틱 부재들을 포함할 수 있다. 다수의 피동 기어들은 상기 마그네틱 기어와 평행한 중심축을 각각 갖고, 상기 마그네틱 기어에 의해 회전 가능하도록 상기 챔버 내부에서 일렬로 배치될 수 있다. 다수의 아이들 기어들은 상기 피동 기어들이 상기 마그네틱 기어와 동일한 방향으로 회전하도록 상기 마그네틱 기어와 피동 기어들 사이에서 기어 결합될 수 있다. 다수의 회전축들은 상기 마그네틱 기어 및 상기 피동 기어들과 결합되며, 서로 평행한 방향으로 연장할 수 있다. 다수의 롤러들은 상기 회전축들과 함께 회전하도록 각각의 회전축들에 결합되어 상기 평판형 기판을 지지하며, 상기 회전축들의 회전에 의해 상기 평판형 기판을 이송하기 위하여 제공될 수 있다. 상기 챔버 내부에는 상기 평판형 기판 상으로 상기 처리 공정을 위한 처리액을 제공하는 처리액 제공부가 배치될 수 있다.
본 발명의 실시예들에 따르면, 상기 챔버의 측벽은 스테인리스 스틸 또는 폴리염화비닐(polyvinyl chloride; PVC)로 이루어질 수 있다.
본 발명의 실시예들에 따르면, 상기 챔버 내부에는 상기 마그네틱 기어, 피동 기어들 및 아이들 기어들이 상기 기판의 이송 방향을 따라 일렬로 배치되는 기어 설치 공간을 한정하는 격벽이 배치될 수 있다.
본 발명의 실시예들에 따르면, 세정액 공급부가 상기 기어 설치 공간 내부로 상기 마그네틱 기어, 피동 기어들 및 아이들 기어들을 세정하기 위하여 세정액을 공급하기 위하여 구비될 수 있다.
본 발명의 실시예들에 따르면, 상기 마그네틱 기어, 피동 기어들 및 아이들 기어들은 상기 마그네틱 기어, 피동 기어들 및 아이들 기어들의 하부들이 상기 기어 설치 공간 내에 공급된 세정액에 잠기도록 배치될 수 있다.
본 발명의 실시예들에 따르면, 상기 마그네틱 풀리와 상기 마그네틱 기어 사이의 간격은 약 5 내지 7mm 정도로 조절될 수 있다.
본 발명의 실시예들에 따르면, 상기 챔버의 측벽 외측면 부위에는 상기 마그네틱 풀리가 삽입되는 홈이 형성될 수 있다.
상술한 바와 같은 본 발명의 실시예들에 의하면, 종래의 벨트 시스템을 사용하지 않기 때문에 종래의 벨트 시스템의 구동에 의한 파티클 발생을 제거할 수 있다. 또한, 벨트 시스템에서 정회전 및 역회전 전환 과정에서 발생되는 문제점을 제거함으로써 상기 기판의 이송 방향을 자유롭게 조절할 수 있으며, 하나의 마그네틱 풀리와 마그네틱 기어만을 사용함으로써 기판 처리 장치의 제조 비용 및 이의 운전에 따른 유지보수 비용을 절감할 수 있다.
실시예
이하, 본 발명에 따른 실시예들을 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명하면 다음과 같다. 그러나, 본 발명은 하기의 실시예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구현될 수도 있다. 여기서 소개되는 실시예들은 개시된 내용이 보다 완전해질 수 있도록 그리고 당업자에게 본 발명의 사상과 특징이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공된다. 도면들에 있어서, 각 장치 또는 막(층) 및 영역들의 두께는 본 발명의 명확성을 기하기 위하여 과장되게 도시되었으며, 또한 각 장치는 본 명세서에서 설명되지 아니한 다양한 부가 장치들을 구비할 수 있으며, 막(층)이 다른 막 (층) 또는 기판 상에 위치하는 것으로 언급되는 경우, 다른 막(층) 또는 기판 상에 직접 형성되거나 그들 사이에 추가적인 막(층)이 개재될 수 있다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치를 설명하기 위한 개략적인 구성도이고,도 4는 도 3에 도시된 기판 처리 장치를 설명하기 위한 개략적인 측면도이다.
도 3 및 도 4를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치(200)는 유리 기판과 같은 평판형 기판(10)에 대한 처리 공정, 예를 들면, 식각, 세정, 스트립, 현상, 린스 등과 같은 공정을 수행하기 위하여 바람직하게 사용될 수 있다.
상기 기판 처리 공정은 챔버(202) 또는 처리조 내에서 수행될 수 있다. 상기 챔버(202)는 예시적으로 도시된 것이며, 이와 유사한 처리 챔버들이 일렬로 배치될 수 있다. 예를 들면, 상기 기판(10)이 상기 처리 챔버들을 통해 이송되는 동안 식각, 세정, 스트립, 현상 등과 같은 처리 공정과, 처리된 기판에 대한 세정 공정, 린스 공정, 건조 공정 등이 순차적으로 수행될 수 있다.
상기 챔버(202) 내부 및 외부에는 상기 기판(10)을 이송하기 위한 기판 이송부가 제공되며, 상기 기판 이송부는 상기 챔버(202) 외부에서 회전력을 제공하기 위한 일 부분과 상기 회전력을 이용하여 상기 챔버(202) 내부에서 실질적으로 상기 기판(10)을 이송하는 다른 부분으로 구분될 수 있다.
구체적으로, 상기 챔버(202)의 외부에는 상기 회전력을 발생시키는 동력 제공부(210)가 배치될 수 있으며, 상기 챔버(202)의 내부에는 상기 기판(10)을 이송 하기 위하여 다수의 롤러들(206)이 결합된 회전축들(204)이 배치될 수 있다.
상기 동력 제공부(210)의 구동축(212)에는 마그네틱 풀리(214)가 결합된다. 상기 마그네틱 풀리(214)는 디스크 형상을 가지며, 상기 구동축(212)의 중심축에 대하여 원주 방향으로 다수의 구동 마그네틱 부재들(216)이 장착된다. 구체적으로, 상기 구동 마그네틱 부재들(216)은 원주 방향으로 N극 및 S극이 번갈아 위치되도록 상기 마그네틱 풀리(214)의 일측 부위에 내장된다. 예를 들면, 각각의 구동 마그네틱 부재들(216)은 상기 마그네틱 풀리(214)의 일측 부위에 형성된 홈들에 삽입될 수 있으며, 상기 구동 마그네틱 부재들(216)이 삽입된 후, 커버가 용접 등에 의해 상기 홈들의 입구 부위에 접합될 수 있다.
상기 챔버(202)의 내부에는 상기 챔버(202)의 일 측벽(202a)을 사이에 두고 상기 마그네틱 풀리(214)와 마주하여 마그네틱 기어(218)가 배치될 수 있다. 상기 마그네틱 기어(218)는 디스크 형상을 가지며, 외주면에는 기어 이가 형성되어 있다. 또한, 상기 마그네틱 기어(218)에는 상기 마그네틱 풀리(214)로부터의 회전력 전달이 가능하도록 다수의 피동 마그네틱 부재들(220)이 내장될 수 있다. 구체적으로, 상기 피동 마그네틱 부재들(220)은 상기 마그네틱 기어(218)의 원주 방향으로 N극 및 S극이 번갈아 위치되도록 상기 마그네틱 기어(218)의 일측 부위에 내장될 수 있다. 상기 피동 마그네틱 부재들(220)의 내장은 상기 마그네틱 풀리(214)의 경우와 동일한 방법으로 이루어질 수 있다.
상기 마그네틱 풀리(214)와 마그네틱 기어(218) 사이의 간격은 원활한 회전력 전달을 위하여 약 5 내지 7mm 정도로 조절될 수 있다. 예를 들면, 상기 챔 버(202)의 측벽(202a) 두께는 약 2mm 정도로 제작될 수 있으며, 상기 챔버(202)의 측벽(202a)과 상기 마그네틱 풀리(214) 및 마그네틱 기어(218) 사이의 간격들은 각각 약 2mm 정도로 조절될 수 있다.
한편, 상기 챔버(202)의 측벽(202a)은 마그네틱 풀리(214)와 마그네틱 기어(218) 사이에서 충분한 자기력이 형성될 수 있도록 자기력이 작용하지 않는 물질, 예를 들면, 스테인리스 스틸 또는 폴리염화비닐(polyvinyl chloride; PVC) 등으로 이루어질 수 있다.
도 5는 도 3에 도시된 챔버 측벽의 다른 예를 설명하기 위한 단면도이며, 도 6은 도 5에 도시된 챔버 측벽의 다른 예를 설명하기 위한 정면도이다.
도 5 및 도 6을 참조하면, 챔버의 측벽(202b)의 외측면 부위에는 마그네틱 풀리(214)가 삽입되는 홈(202c)이 형성될 수 있다. 이는 챔버의 측벽(202b)을 구조적으로 더욱 강하게 하기 위하여 보다 두껍게 하고, 또한, 마그네틱 풀리(214)와 마그네틱 기어(218) 사이에서 자기력이 충분히 형성될 수 있도록 하기 위함이다.
다시 도 3 및 도 4를 참조하면, 상기 동력 제공부(210)는 회전력을 발생시키기 위한 모터를 포함할 수 있으며, 또한 상기 모터의 회전 속도 및 토크(torque)를 조절하기 위한 감속기를 더 포함할 수도 있다.
상기 챔버(202)의 내부에는 상기 마그네틱 기어(218)와 평행한 중심축을 각각 갖고, 상기 마그네틱 기어(218)에 의해 회전 가능하도록 다수의 피동 기어들(222)이 일렬로 배치될 수 있다. 상기 마그네틱 기어(218)와 피동 기어들(222) 사이에는 상기 피동 기어들(222)이 상기 마그네틱 기어(218)와 동일한 방향으로 회 전할 수 있도록 다수의 아이들 기어들(224)이 각각 결합되며, 이들에 의해 회전력이 전달될 수 있다. 또한, 상기 마그네틱 기어(218)와 피동 기어들(222)은 상기 챔버 내부에 배치된 회전축들(204)에 결합된다.
도시된 바에 의하면, 상기 마그네틱 기어(218)는 상기 다수의 피동 기어들(222) 중 가장 외측의 피동 기어(222)에 결합되어 있다. 그러나, 상기 마그네틱 기어(218)는 상기 다수의 피동 기어들(222) 사이에서 어떤 위치에 배치되어도 상관없으며, 상기 마그네틱 기어(218)의 위치에 의해 본 발명의 범위가 한정되지는 않을 것이다.
상기와 같이 마그네틱 기어(218), 피동 기어들(222) 및 아이들 기어들(224)에 의해 구성되는 기어 결합에 의해 회전력이 전달되므로, 상기 동력 제공부(210)에서 제공되는 회전력의 방향 전환에 따라 상기 기판(10)의 이송 방향을 용이하게 전환시킬 수 있다. 즉, 상기 기판(10)이 상기 챔버(202) 내부로 반입된 후, 일정 시간 동안 처리 공정을 수행하기 위하여 상기 챔버(202) 내부에서 상기 기판(10)을 왕복 운동시키는 경우, 종래의 경우에서 타이밍 벨트의 미끄러짐에 의해 발생될 수 있는 이송 오류를 방지할 수 있다.
상기 회전축들(204)에는 다수의 롤러들(206)이 상기 회전축들(204)과 함께 회전할 수 있도록 결합되어 있으며, 상기 롤러들(206)에 의해 상기 기판(10)이 지지되어 이송될 수 있다.
상기 회전축들(204)의 일 단부들은 베어링들을 포함하는 지지부재들(226)에 의해 회전 가능하게 지지될 수 있으며, 다른 단부들은 상기 마그네틱 기어(218) 및 피동 기어들(222)과 결합되어 있다.
상기 마그네틱 기어(218)와 피동 기어들(222) 및 아이들 기어들(224)은 상기 챔버(202) 내부에서 일측에 제공되는 기어 설치 공간(228) 내에 배치될 수 있다. 상기 기어 설치 공간(228)은 상기 챔버(202) 내부에서 상기 기판(10)의 이송 방향을 따라 연장하는 격벽(230)에 의해 한정될 수 있으며, 상기 회전축들(204)은 상기 격벽(230)을 통해 연장될 수 있다. 상기 격벽(230)에는 상기 회전축들(204)의 회전을 가능하게 하는 다수의 베어링들(232)이 장착될 수 있다.
상술한 바와 같이, 하나의 마그네틱 풀리(214) 및 하나의 마그네틱 기어(218)를 이용하여 회전력을 전달함으로써 종래의 다수의 마그네틱 풀리들을 이용하는 경우에 비하여 기판 처리 장치(200)의 제조 비용 및 유지보수 비용을 절감할 수 있다. 또한, 타이밍 벨트에 의한 회전력 전달 방식으로부터 기어 조합에 의한 회전력 전달 방식을 채택함으로써 기판(10)의 이송 방향 전환에 따른 타이밍 벨트의 미끄러짐 현상에 의한 이송 오류를 방지할 수 있다.
도 7은 도 3에 도시된 마그네틱 기어, 피동 기어들 및 아이들 기어들을 설명하기 위한 단면도이다.
도 7을 참조하면, 상기 격벽(230)의 상부에는 상기 기어 설치 공간(228)을 커버하는 리드(lid)가 배치될 수 있으며, 상기 기어 설치 공간(228) 내에는 상기 마그네틱 기어(218), 피동 기어들(222) 및 아이들 기어들(224)을 세정하기 위한 세정액이 공급될 수 있다. 구체적으로, 상기 세정액을 공급하기 위한 세정액 공급부(234)가 상기 기어 설치 공간(228)에 연결될 수 있으며, 상기 세정액은 상기 마 그네틱 기어(218), 피동 기어들(222) 및 아이들 기어들(224)의 하부들(lower portions)이 상기 세정액에 잠기도록 제공될 수 있다.
상기 세정액은 상기 마그네틱 기어(218), 피동 기어들(222) 및 아이들 기어들(224)의 회전에 의해 발생될 수 있는 파티클들을 제거하기 위하여 공급된다. 예를 들면, 상기 기어 설치 공간(228) 내부로는 세정액으로서 초순수가 제공될 수 있다.
상기 기어 설치 공간(228)으로 제공된 세정액은 상기 기어 설치 공간(228)에 연결된 세정액 배출 배관(236)을 통해 배출될 수 있다.
도 8은 도 3에 도시된 기판 상으로 처리액을 제공하기 위한 처리액 제공부를 설명하기 위한 개략적인 구성도이다.
도 3, 도 4 및 도 8을 참조하면, 상기 롤러들(206)에 의해 이송되는 기판(10)의 상부에는 상기 기판(10)을 처리하기 위한 처리액을 공급하는 처리액 제공부(240)가 배치될 수 있다.
상기 처리액 제공부(240)는 상기 처리액의 공급을 위하여 상기 기판(10)의 이송 방향을 따라 상기 기판(10)의 양측 부위에서 평행하게 연장하는 처리액 공급 배관들(242)이 배치되며, 상기 처리액 공급 배관들(242) 사이에는 상기 처리액을 상기 기판(10) 상으로 공급하기 위한 다수의 노즐들이 형성된 노즐 파이프들(244)이 연결된다.
상기 노즐 파이프들(244)은 상기 기판(10)의 이송 방향을 따라 배열되며, 상기 기판(10)의 이송 방향에 대하여 수직하는 방향으로 서로 평행하게 연장할 수 있 다.
또한, 도시되지는 않았으나, 상기 기판(10)의 하부면으로 처리액을 제공하기 위한 추가적인 처리액 제공부가 상기 챔버(202)의 하부에 설치될 수도 있다.
상기 처리액은 챔버(202)의 하부에 연결된 처리액 배출 배관(246)을 통해 배출될 수 있다.
상기 처리액으로는 상기 기판(10)에 대한 처리 공정에 따라 다양한 물질들이 사용될 수 있다. 예를 들면, 기판(10) 상에 형성된 포토레지스트막의 현상을 위한 현상액, 기판(10) 상의 막 또는 원치않는 물질을 제거하기 위한 식각액, 기판(10) 상의 이물질을 제거하기 위한 세정액 등 다양한 처리액들이 사용될 수 있다. 또한, 처리액의 종류에 따라 상기 회전축들(204) 및 롤러들(204)의 재질이 변경될 수 있다.
한편, 상기 처리액으로서 초순수가 사용되는 경우, 상기 기어 설치 공간(228)의 리드가 제거될 수도 있다. 즉, 상기 초순수를 제공하기 위한 노즐 파이프들(244)이 상기 기어 설치 공간(228)의 상부까지 연장될 수 있으며, 상기 마그네틱 기어(218), 피동 기어들(222) 및 아이들 기어들(224)은 상기 노즐 파이프(244)로부터 제공되는 초순수에 의해 세정될 수 있다.
상술한 바와 같은 본 발명의 실시예들에 따르면, 하나의 마그네틱 풀리 및 하나의 마그네틱 기어를 이용하여 회전력을 전달함으로써 종래의 다수의 마그네틱 풀리들을 이용하는 경우에 비하여 기판 처리 장치의 제조 비용 및 유지보수 비용을 절감할 수 있다.
또한, 타이밍 벨트에 의한 회전력 전달 방식으로부터 기어 조합에 의한 회전력 전달 방식을 채택함으로써 기판의 이송 방향 전환에 따른 타이밍 벨트의 미끄러짐 현상에 의한 이송 오류를 방지할 수 있다.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.

Claims (10)

  1. 회전력을 발생시키는 동력 제공부;
    상기 동력 제공부의 구동축에 연결되며, 원주 방향으로 N극과 S극이 번갈아 배열되도록 다수의 마그네틱 부재들이 장착된 마그네틱 풀리;
    상기 마그네틱 풀리와 마주하여 배치되며, 외주면에는 기어 이가 형성되어 있고, 상기 마그네틱 풀리와 함께 회전 가능하도록 원주 방향으로 N극과 S극이 번갈아 배열되도록 다수의 마그네틱 부재들이 장착된 마그네틱 기어;
    상기 마그네틱 기어와 평행한 중심축을 각각 갖고, 상기 마그네틱 기어에 의해 회전 가능하도록 일렬로 배치된 다수의 피동 기어들;
    상기 피동 기어들이 상기 마그네틱 기어와 동일한 방향으로 회전하도록 상기 마그네틱 기어와 피동 기어들 사이에서 기어 결합된 다수의 아이들(idle) 기어들;
    상기 마그네틱 기어 및 상기 피동 기어들과 결합되며, 평행한 방향으로 연장하는 다수의 회전축들; 및
    상기 회전축들과 함께 회전하도록 각각의 회전축들에 결합되어 평판형 기판을 지지하며, 상기 회전축들의 회전에 의해 상기 평판형 기판을 이송하는 다수의 롤러들을 포함하는 기판 이송 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 마그네틱 풀리와 상기 마그네틱 기어는 서로 이격되어 배치되는 것을 특징으로 하는 기판 이송 장치.
  3. 제2항에 있어서, 상기 마그네틱 풀리와 상기 마그네틱 기어 사이의 간격은 5 내지 7mm인 것을 특징으로 하는 기판 이송 장치.
  4. 평판형 기판에 대한 처리 공정이 수행되는 챔버;
    상기 챔버의 외부에 배치되며, 회전력을 발생시키는 동력 제공부;
    상기 챔버의 외부에서 상기 동력 제공부의 구동축에 연결되며, 원주 방향으로 N극과 S극이 번갈아 배열되도록 다수의 마그네틱 부재들이 장착된 마그네틱 풀리;
    상기 챔버의 측벽을 사이에 두고 상기 마그네틱 풀리와 마주하여 배치되며, 외주면에는 기어 이가 형성되어 있고, 상기 마그네틱 풀리와 함께 회전 가능하도록 원주 방향으로 N극과 S극이 번갈아 배열되도록 다수의 마그네틱 부재들이 장착된 마그네틱 기어;
    상기 마그네틱 기어와 평행한 중심축을 각각 갖고, 상기 마그네틱 기어에 의해 회전 가능하도록 상기 챔버 내부에서 일렬로 배치된 다수의 피동 기어들;
    상기 피동 기어들이 상기 마그네틱 기어와 동일한 방향으로 회전하도록 상기 마그네틱 기어와 피동 기어들 사이에서 기어 결합된 다수의 아이들(idle) 기어들;
    상기 마그네틱 기어 및 상기 피동 기어들과 결합되며, 평행한 방향으로 연장하는 다수의 회전축들;
    상기 회전축들과 함께 회전하도록 각각의 회전축들에 결합되어 상기 평판형 기판을 지지하며, 상기 회전축들의 회전에 의해 상기 평판형 기판을 이송하는 다수의 롤러들; 및
    상기 챔버 내부에 배치되어 상기 평판형 기판 상으로 상기 처리 공정을 위한 처리액을 제공하는 처리액 제공부를 포함하는 기판 처리 장치.
  5. 제4항에 있어서, 상기 챔버의 측벽은 스테인리스 스틸 또는 폴리염화비닐(polyvinyl chloride; PVC)로 이루어지는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  6. 제4항에 있어서, 상기 챔버 내부에는 상기 마그네틱 기어, 피동 기어들 및 아이들 기어들이 상기 기판의 이송 방향을 따라 일렬로 배치되는 기어 설치 공간을 한정하는 격벽이 배치되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  7. 제5항에 있어서, 상기 기어 설치 공간 내부로 상기 마그네틱 기어, 피동 기어들 및 아이들 기어들을 세정하기 위하여 세정액을 공급하는 세정액 공급부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  8. 제7항에 있어서, 상기 마그네틱 기어, 피동 기어들 및 아이들 기어들은 상기 마그네틱 기어, 피동 기어들 및 아이들 기어들의 하부들이 상기 기어 설치 공간 내에 공급된 세정액에 잠기도록 배치되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  9. 제4항에 있어서, 상기 마그네틱 풀리와 상기 마그네틱 기어 사이의 간격은 5 내지 7mm인 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  10. 제4항에 있어서, 상기 챔버 측벽의 외측면 부위에는 상기 마그네틱 풀리가 삽입되는 홈이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
KR1020060135557A 2006-12-27 2006-12-27 기판 이송 장치 및 이를 포함하는 기판 처리 장치 KR100779949B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020060135557A KR100779949B1 (ko) 2006-12-27 2006-12-27 기판 이송 장치 및 이를 포함하는 기판 처리 장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020060135557A KR100779949B1 (ko) 2006-12-27 2006-12-27 기판 이송 장치 및 이를 포함하는 기판 처리 장치

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR100779949B1 true KR100779949B1 (ko) 2007-11-28

Family

ID=39081003

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020060135557A KR100779949B1 (ko) 2006-12-27 2006-12-27 기판 이송 장치 및 이를 포함하는 기판 처리 장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100779949B1 (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101097932B1 (ko) 2009-12-03 2011-12-23 세메스 주식회사 약액 분사 장치 및 그것을 구비한 기판 처리 장치

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11208839A (ja) 1998-01-21 1999-08-03 Seiko Epson Corp 搬送装置、搬送方法、液晶表示装置の製造方法
JP2002329761A (ja) 2001-04-27 2002-11-15 Tokyo Electron Ltd 搬送装置、洗浄装置及び現像装置
JP2004363200A (ja) 2003-06-03 2004-12-24 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理方法および基板処理装置
JP2005350171A (ja) 2004-06-08 2005-12-22 Okura Yusoki Co Ltd ローラコンベヤ
KR20070045537A (ko) * 2005-10-27 2007-05-02 세메스 주식회사 기판 이송 시스템

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11208839A (ja) 1998-01-21 1999-08-03 Seiko Epson Corp 搬送装置、搬送方法、液晶表示装置の製造方法
JP2002329761A (ja) 2001-04-27 2002-11-15 Tokyo Electron Ltd 搬送装置、洗浄装置及び現像装置
JP2004363200A (ja) 2003-06-03 2004-12-24 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理方法および基板処理装置
JP2005350171A (ja) 2004-06-08 2005-12-22 Okura Yusoki Co Ltd ローラコンベヤ
KR20070045537A (ko) * 2005-10-27 2007-05-02 세메스 주식회사 기판 이송 시스템

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101097932B1 (ko) 2009-12-03 2011-12-23 세메스 주식회사 약액 분사 장치 및 그것을 구비한 기판 처리 장치

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3919464B2 (ja) 搬送装置、洗浄装置及び現像装置
KR100835202B1 (ko) 기판 이송 장치
CN101604650B (zh) 基板输送装置和方法以及具有该装置的基板制造设备
KR100803686B1 (ko) 기판 처리 장치
KR100821964B1 (ko) 기판 이송 장치
KR100779949B1 (ko) 기판 이송 장치 및 이를 포함하는 기판 처리 장치
KR20090111607A (ko) 기판 이송용 롤러 및 이를 구비하는 기판 이송 장치
KR20090049169A (ko) 구동 자력 부재와, 이를 이용한 기판 이송 유닛 및 기판처리 장치
KR100783069B1 (ko) 기판 이송 장치 및 이를 포함하는 기판 처리 장치
KR100645801B1 (ko) 기판 이송용 회전축 및 그를 이용한 기판이송장치
KR100819039B1 (ko) 기판 이송 장치 및 이를 포함하는 기판 처리 장치
KR101299704B1 (ko) 기판 처리 장치
KR100767038B1 (ko) 기판 이송 장치
KR101040696B1 (ko) 기판 이송 장치
KR100811107B1 (ko) 기판 이송 장치
KR101040695B1 (ko) 기판 이송 장치
JP2008296088A (ja) 洗浄装置、フラットパネルディスプレイの製造装置及びフラットパネルディスプレイ
KR102278073B1 (ko) 기판 처리 장치
JP2005313014A (ja) 処理液供給装置
KR100862232B1 (ko) 기판 처리 장치
KR102160935B1 (ko) 반송 유닛 및 기판 처리 장치
KR101081531B1 (ko) 기판이송장치
KR20080077462A (ko) 기판 세정 방법 및 기판 세정 장치
KR100567137B1 (ko) 기판이송장비에 구비되는 원통형상의 마그네틱 구동장치
KR20080047816A (ko) 브러시 세정 유닛 및 이를 이용한 기판 세정 방법

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20121030

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20131106

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20141104

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20151029

Year of fee payment: 9

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20161028

Year of fee payment: 10

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20171106

Year of fee payment: 11

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20181106

Year of fee payment: 12

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20191105

Year of fee payment: 13