KR100819039B1 - 기판 이송 장치 및 이를 포함하는 기판 처리 장치 - Google Patents

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정지용
송준호
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세메스 주식회사
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Abstract

기판 이송 장치는 회전 가능하도록 배치된 제1 회전축 및 상기 제1 회전축에 체결되며 평판형 기판의 제1 면을 지지하는 제1 이송 롤러를 구비하는 제1 이송 유닛 및 기판을 사이에 두고 제1 회전축과 상호 평행하게 배치되며 제1 회전축들이 회전함에 따라 회전하는 제2 회전축 및 제2 회전축에 체결되며 제1 면에 대응되는 제2 면을 지지하는 제2 이송 롤러를 구비하는 제2 이송 유닛을 포함하고, 제1 이송 롤러 상에는 상호 대립하는 극성을 갖는 제1 마그네틱들이 교대로 형성되고 제2 이송 롤러 상에는 제1 마그네틱들 각각의 극성에 대응되고 상호 대립하는 극성들을 갖는 제2 마그네틱들이 교대로 형성된다.

Description

기판 이송 장치 및 이를 포함하는 기판 처리 장치{APPARATUS FOR TRANSFERRING A SUBSTRATE AND APPARATUS FOR TREATING THE SUBSTRATE INCLUDING THE SAME}
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 이송 장치를 설명하기 위한 단면도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치를 설명하기 위한 단면도이다.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *
10 : 평판형 기판 100: 기판 이송 장치
105, 205 : 제1 이송 유닛 107, 207: 제2 이송 유닛
110, 210 : 제1 회전축 120, 220 : 제1 이송 롤러
121, 221, 123, 223 : 제1 마그네틱
130, 230: 제2 회전축들 131, 231 : 제3 마그네틱
133, 233 : 제4 마그네틱 150, 250 : 오링
160, 260 : 구동부 170, 270 : 간격 조절 유닛
171, 271 : 제1 스페이서 173, 273 : 제3 마그네틱
176, 276 : 제2 스페이서 178, 278 : 제4 마그네틱
본 발명은 기판 이송 장치 및 이를 포함하는 기판 처리 장치에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 액정 디스플레이 장치, 플라즈마 디스플레이 장치, OLED(Organic Light Emitting Diode) 디스플레이 장치 등과 같은 평판 디스플레이 장치의 제조를 위한 평판형 기판을 이송하기 위한 장치 및 이를 포함하는 기판 처리 장치에 관한 것이다.
최근, 정보 처리 기기는 다양한 형태와 기능, 더욱 빨라진 정보 처리 속도 등에 대한 요구에 따라 급속하게 발전하고 있으며, 이들 정보 처리 기기는 가공된 정보를 표시하기 위한 디스플레이 장치를 요구한다. 상기와 같은 정보 디스플레이 장치들은 주로 CRT 모니터를 사용하였으나, 최근 휴대형 정보 기기의 발달에 따라 휴대의 편의성, 소형 경량화에 대한 요구를 실현하기 위하여 액정 디스플레이 장치 또는 OLED 디스플레이 장치 등에 대한 요구가 증가되고 있다. 또한, 가정용 또는 사무용 디스플레이 장치의 경우에도 보다 선명한 화질, 응답 속도, 작업자의 피로도 감소, 공간 확보 등을 위하여 상기 평판 디스플레이 장치에 대한 요구가 증가되고 있다.
예를 들면, 상기 액정 디스플레이 장치의 경우, 상부 기판과 하부 기판 사이에 있는 액정 분자들의 배열 구조에 따른 광의 투과율 차이를 이용하는 디스플레이 장치로서, 최근에는 표시 정보량의 증가와 이에 따른 표시 면적의 증가 요구에 부 응하기 위하여 화면을 구성하는 모든 화소에 대하여 개별적으로 구동 신호를 인가하는 액티브 매트릭스(Active Matrix) 방식의 액정 디스플레이 장치에 대한 연구가 활발하게 이루어지고 있다.
상기 액정 디스플레이 장치는 화상 데이터를 액정의 광학적 성질을 이용하여 디스플레이하는 액정 패널과 이를 구동하기 위한 구동 회로를 포함하는 액정 패널 어셈블리와, 화면 표시를 위한 광을 제공하는 백라이트 어셈블리와, 이들을 고정 및 수용하는 몰드 프레임 등을 포함할 수 있다.
상기 액정 디스플레이 장치의 제조에는 대면적의 유리 기판이 사용되며, 상기 유리 기판 상에 전극 패턴들을 형성하기 위하여 다양한 단위 공정들이 수행될 수 있다. 예를 들면, 상기 유리 기판 상에 막을 형성하는 성막 공정, 상기 막을 목적하는 패턴들로 형성하기 위한 식각 공정, 상기 유리 기판 상의 불순물을 제거하기 위한 세정 공정, 상기 유리 기판을 건조시키기 위한 건조 공정 등이 필요에 따라 반복적으로 수행될 수 있다.
상기 공정들을 수행하기 위한 기판 처리 장치는 기판의 로딩을 위한 기판 로더와, 상기 로더에 의해 반입된 기판에 대한 식각 또는 세정 공정을 수행하기 위한 제1 처리부와, 상기 식각 또는 세정 처리된 기판을 린스액을 이용하여 린스 처리하기 위한 제2 처리부와, 린스 처리된 기판을 건조시키기 위한 제3 처리부와, 상기 기판을 반출하기 위한 언로더 등을 포함할 수 있다. 또한, 상기 기판 처리 장치는 필요에 따라 기판 상의 정전기를 제거하기 위한 제전 장치, 기판의 일시 대기를 위한 버퍼 챔버 등을 더 포함할 수도 있다.
상기 기판 처리 장치를 사용하여 유리 기판과 같은 평판형 기판을 처리하는 경우, 상기 기판은 다수의 회전 롤러들에 의해 상기 로더로부터 언로더를 향하여 이송될 수 있다. 상기 회전 롤러들은 상기 기판의 이송 방향으로 배열된 다수의 회전축들에 장착되며, 상기 회전 롤러들은 상기 기판 처리를 위한 각 챔버들의 외부에 배치되는 구동부에 의해 회전 가능하도록 설치된다.
상기와 같이 평판형 기판을 이송하기 위한 종래의 기판 이송 장치에서, 기판을 기울어진 상태로 이송할 수 있다. 이는, 사용되는 처리액의 소비량을 감소시킬 수 있을 뿐만 아니라, 처리액이 기판 상에 잔류하는 것을 억제할 수 있다.
그러나, 기울어진 상태로 이송되는 기판이 회전 롤러로부터 슬립되는 것을 방지하고 기판의 튕김을 방지하기 위하여 기판을 사이로 회전 롤러에 마주보며, 기판의 제2면을 가압하는 가압 유닛이 추가적으로 필요할 수 있다. 상기 가압 유닛는 회전축 및 상기 회전축에 체결된 가압 롤러를 포함한다. 이때, 상기 회전축은 별도의 구동부에 의하여 회전한다. 이 경우, 상기 가압 롤러 및 회전 롤러를 독립적으로 구동시키는 별도의 구동부를 각각 구비함으로써, 기판 이송 장치의 구조가 복잡해지고, 각각의 구동부를 기판 이송 속도에 대응되도록 제어하여야 하는 번거로움이 있다.
상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 목적은 상부 및 하부 롤러들을 동시에 구동시킬 수 있는 기판 이송 장치를 제공하는데 있다.
본 발명의 또 다른 목적은 상부 및 하부 롤러들을 동시에 구동시킬 수 있는 기판 이송 장치를 포함하는 기판 처리 장치를 제공하는데 있다.
상기 일 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 이송 장치는, 회전 가능하도록 배치된 제1 회전축 및 상기 제1 회전축에 체결되며 평판형 기판의 제1 면을 지지하는 제1 이송 롤러를 구비하는 제1 이송 유닛 및 상기 기판을 사이에 두고 상기 제1 회전축과 상호 평행하게 배치되며, 상기 제1 회전축들이 회전함에 따라 회전하는 제2 회전축 및 상기 제2 회전축에 체결되며 상기 제1 면에 대응되는 제2면을 지지하는 제2 이송 롤러를 구비하는 제2 이송 유닛을 포함하고, 상기 제1 이송 롤러 상에는 상호 대립되는 극성들을 갖는 제1 마그네틱들이 교대로 형성되고, 상기 제2 이송 롤러 상에는 상기 제1 마그네틱들 각각의 극성에 대응되고 상호 대립하는 극성들을 갖는 제2 마그네틱들이 교대로 형성된다. 여기서,상기 제1 및 제2 이송 유닛들은 상기 제1 이송 롤러 및 제2 이송 롤러의 외주면을 둘러싸도록 형성된 제1 및 제2 오링들을 각각 더 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 기판 이송 장치는 상기 제1 회전축들과 기계적으로 연결되며, 상기 제1 회전축을 회전시키기 위한 회전력을 제공하는 구동부를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 기판 이송 장치는 상기 제1 및 제2 회전축들 사이의 간격을 조절하기 위하여 제1 및 제2 회전축의 각각에 체결된 간격 조절 유닛을 더 포함할 수 있다. 여기서, 상기 간격 조절 유닛은 상기 제1 및 제2 회전축들에 각각 체결된 제1 및 제2 스페이서들을 포함하고, 상기 제1 및 제2 스페이서들은 각각 마주보는 단부에 형성된 제3 및 제4 마그네틱들을 포함할 수 있다.
상기 일 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치는, 공정 챔버, 상기 공정 챔버의 일측에서 타측으로 연장되며, 상호 평행하게 배열되며 각각 회전 가능하도록 배치된 제1 회전축들 및 상기 제1 회전축들에 체결되며 평판형 기판의 제1 면을 지지하는 제1 이송 롤러들를 구비하는 제1 이송 유닛, 상기 기판을 사이에 두고 상기 제1 회전축들과 상호 평행하게 배치되며, 상기 제1 회전축들이 회전함에 따라 회전하는 제2 회전축들 및 상기 제2 회전축들에 체결되며 상기 제1 면에 대응되는 제2 면을 지지하는 제2 이송 롤러들을 구비하는 제2 이송 유닛 및 상기 공정 챔버 내부에 배치되어 상기 평판형 기판 상으로 처리액을 제공하는 처리액 제공부를 포함하고, 상기 제1 이송 롤러 상에는 상호 대립되는 극성들을 갖는 제1 마그네틱들이 교대로 형성되고, 상기 제2 이송 롤러 상에는 상기 제1 마그네틱들 각각의 극성들에 대응되고 상호 대립되는 극성들을 갖는 제2 마그네틱들이 교대로 형성된다. 여기서, 상기 제1 및 제2 이송 유닛들은 상기 제1 이송 롤러 및 제2 이송 롤러의 외주면을 둘러싸도록 형성된 제1 및 제2 오링들을 각각 더 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 기판 이송 장치는 상기 제1 회전축들과 기계적으로 연결되며, 상기 제1 회전축을 회전시키기 위한 회전력을 제공하는 구동부를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 기판 이송 장치는 상기 제1 및 제2 회전축들 사이의 간격을 조절하기 위하여 제1 및 제2 회전축의 각각에 체결된 간격 조절 유닛을 더 포함할 수 있다. 여기서, 상기 간격 조절 유닛은 상기 제1 및 제2 회전축들에 각각 체결된 제1 및 제2 스페이서들을 포함하고, 상기 제1 및 제2 스페이서들은 각각 마주보는 단부에 형성된 제3 및 제4 마그네틱들을 포함할 수 있다.
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이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다. 그러나, 본 발명은 여기서 설명되어지는 실시예에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 오히려, 여기서 소개되는 실시예는 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록 그리고 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되어지는 것이다. 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 될 것이다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위로부터 이탈되지 않은 채 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다. 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "연결되어" 있다거나 "접속되어" 있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되어 있거나 또는 접속되어 있을 수도 있지만, 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "직접 연결되어" 있다거나 "직접 접속되어" 있다고 언급된 때에는, 중간에 다른 구성요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다. 구성요소들 간의 관계를 설명하는 다른 표현들, 즉 "~사이에"와 "바로 ~사이에" 또는 "~에 이웃하는"과 "~에 직접 이웃하는" 등도 마찬가지로 해석되어야 한다. 또한, 본 발명의 실시예에서는 평판형 기판을 대상으로 한정하고 있지만, 유리 기판, 인쇄 회로 기판, 반도체 등에도 본 발명의 실시예를 확장시킬 수도 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 이송 장치를 설명하기 위한 평면도이다. 도 2는 도1의 기판 이송 장치를 도시한 측면도이다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 이송 장치(100)은 유리 기판과 같은 평판형 기판(10)에 대한 처리 공정에서 상기 기판(10)을 일 방향으로 이송하기 위하여 바람직하게 사용될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 기판 이송 장치(100)는 제1 이송 유닛(105) 및 제2 이송 유닛(107)을 포함한다.
제1 이송 유닛(105)은 평판형 기판(10)을 이송한다. 제1 이송 유닛(110)은 평판형 기판(10)을 기울어진 상태로 평판형 기판(10)의 하면을 지지한다. 예를 들면, 제1 이송 유닛(110)은 예를 들면, 간격 조절 유닛(170)에 인접하는 부분이 다른 부분에 비하여 상대적으로 낮은 위치를 갖도록 기울어진 상태로 평판형 기판(10)을 지지할 수 있다.
제1 이송 유닛(105)은 제1 회전축(110) 및 제1 이송 롤러들(120)을 포함한다.
제1 회전축(110)은 상호 평행하게 배열되며 각각 회전 가능하도록 배치된다. 예를 들면, 다수의 제1 회전축들(110)은 상기 이송 방향으로 상호 이격된 상태로 배열될 수 있다. 제1 회전축들(110)은 지면에 대하여 기울어진 상태로 각각 배치될 수 있다. 예를 들면, 제1 회전축들(110)은 봉 형상을 가질 수 있다. 제1 회전축(110)은 외부로부터 구동력을 전달받아 회전한다.
제1 이송 롤러(120)는 제1 회전축(110)에 체결된다. 제1 회전축(110)에 체결되는 제1 이송 롤러(120)의 개수 및 직경은 평판형 기판(10)의 크기 및 무게에 따라 달라질 수 있다. 제1 이송 롤러(120)는 예를 들면, 디스크 형상을 가질 수 있다. 또한, 제1 회전축(110) 및 제1 이송 롤러(120)를 포함하는 제1 이송 유닛(105)은 분리형 또는 일체형으로 제작될 수 있다.
제1 이송 롤러(120)의 외주면에는 제1 마그네틱(141, 143)이 형성된다. 제1 마그네틱(121, 123)에는 상호 대립되는 극성을 갖는 자석이 교대로 형성된다. 제1 회전축(110)이 회전함에 따라 제1 이송 롤러(120)가 회전하게 되고, 제1 마그네틱(121, 123) 주위에 자기장을 발생시킨다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 제1 이송 롤러(120)의 외주면에는 제1 오링(151)이 형성될 수 있다. 제1 오링(151)이 직접 평판형 기판(10)의 제1 면과 접촉한다. 한편, 제1 오링(151)은 충격을 흡수할 수 있는 재질을 이용하여 형성할 수 있다. 예를 들면, 제1 오링(151)은 내열성 및 내화학성을 갖는 고분자 수지를 포함할 수 있다.
제1 회전축(110) 및 제1 이송 롤러(120)를 포함하는 제1 이송 유닛(105)은 평판형 기판(10)을 지면에 대하여 기울어진 상태로 이송한다. 따라서, 기판 이송 중 기판 상에 공급되는 처리액이 작은 양으로 기판 전체를 덮을 수 있다. 또한, 상기 처리액이 처리 공정 후 평판형 기판(10)에 잔류하는 문제가 억제될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 기판 이송 장치(100)는 제1 이송 롤러(110)을 제1 회전축(120)에 체결하기 위한 제1 체결 부재(미도시)를 더 포함할 수 있다. 상기 제1 체결 부재는 너트, 돌기 또는 홈이 형성되어 끼움 방식으로 체결되는 체결구 등을 포함할 수 있다.
제2 이송 유닛(107)은 평판형 기판(10)을 사이에 배치된다. 제2 이송 유닛(107)은 기울어진 상태로 이송되는 평판형 기판(10)의 상면과 접촉한다. 따라서, 제2 이송 유닛(107)은, 평판형 기판(10)이 슬립 되거나 튕겨지는 현상을 억제한다.
제2 이송 유닛(107)은 제1 회전축(110)이 회전함에 따라 회전하는 제2 회전축(130) 및 제2 이송 롤러(140)를 포함한다.
제2 회전축(130)은 제1 회전축(110)으로부터 이격되어 상호 평행하게 배치된다. 예를 들면, 제2 회전축(131)은 봉 형상을 가질 수 있다. 제2 회전축(130)은 제1 회전축(110)이 회전함에 따라 함께 회전할 수 있다. 따라서, 기판 이송 장치(100)은 제2 회전축(130)을 회전시키기 위한 별도의 회전력을 제공하는 구동부를 필요로 하지 않을 수 있다.
제2 이송 롤러(140)는 제2 회전축(130)에 체결된다. 제2 이송 롤러(140)는 평판형 기판(10)의 제2 면과 접촉하도록 배치된다. 따라서, 제2 이송 롤러(140)은, 평판형 기판(10)이 슬립 되거나 튕겨지는 현상을 억제한다. 그 결과, 평판형 기판(10)이 이송 중에 이송 경로로부터 슬립되는 것을 억제하여 평판형 기판(10)의 낙하로 인하여 파손되는 것을 방지한다.
제2 이송 롤러(140)는 제1 이송 롤러(120)와 실질적으로 동일한 직경을 가질 수 있다. 이와 다르게, 제2 이송 롤러(140)는 제1 이송 롤러(120)와 실질적으로 다른 직경을 가질 수 있다.
제2 이송 롤러(140)의 외주면에는 제2 마그네틱(141, 143)이 형성된다. 제2 마그네틱(141, 143)에는 상호 대립되는 극성을 갖는 자석이 교대로 형성된다. 제1 회전축(110)이 회전함에 따라 제1 이송 롤러(120)가 회전하게 되고, 제1 마그네틱(121, 123) 주위에 자기장을 발생시킨다. 상기 발생된 자기장에 의하여 제2 마그네틱(141, 143)에 자기력이 발생하고 그 결과, 제2 회전축(130)이 회전하게 된다. 따라서, 제2 회전축(130)에 체결된 제2 이송 롤러(140)가 회전한다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 제2 이송 롤러(140)의 외주면에는 제2 오링(153)이 형성될 수 있다. 제2 오링(153)이 직접 평판형 기판(10)의 제2 면과 접촉한다. 한편, 제2 오링(153)은 충격을 흡수할 수 있는 재질을 이용하여 형성할 수 있다. 예를 들면, 제2 오링(153)은 내열성 및 내화학성을 갖는 고분자 수지를 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 기판 이송 장치(100)는 제1 및 제2 회전축들(210, 230)간의 간격을 조절하기 위한 간격 조절 유닛(170)을 더 포함할 수 있다.
간격 조절 유닛(170)은 제1 회전축(110)에 체결된 제1 스페이서(171), 제2 회전축(130)에 체결된 제2 스페이서(176), 제1 스페이서(171)의 단부에 형성된 제3 마그네틱(173) 및 제2 스페이서(176)의 단부에 형성된 제4 마그네틱(178)을 포함한다. 제3 및 제4 마그네틱들(173, 178)은 각각 동일한 극성을 갖는 자성체로 이루어진다. 따라서, 제3 및 제4 마그네틱들(173, 178)은 상호 척력을 발생한다. 제1 및 제2 회전축들(110, 130)이 지나치게 가까워질 경우 제3 및 제4 마그네틱들(173, 178) 사이에 발생한 상기 척력에 의하여 제1 및 제2 회전축들(110, 130)이 일정한 간격으로 이격될 수 있다.
결과적으로 제2 회전축(130)을 회전시키는 별도의 구동부를 설치하지 않고 제2 이송 롤러(140)가 회전할 수 있다. 또한, 제1 이송 롤러(120)가 회전하는 회전 속도와 실질적으로 동일하게 제2 이송 롤러(140)가 회전함으로써 제1 및 제2 이송 롤러들(120, 140) 및 평판형 기판(10) 간의 마찰을 감소시켜 이물질의 발생이 억제된다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치를 설명하기 위한 단면도이다.
도 3을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치(200)는 유리 기판과 같은 평판형 기판(10)에 대한 처리 공정에서 사용될 수 있다.
상기 처리 공정의 예로는 기판(10) 상의 막 또는 불순물을 제거하기 위한 식각 공정, 기판(10) 상의 불순물을 제거하기 위한 세정 공정, 식각 또는 세정 후 기판(10)을 린스 처리하기 위한 린스 공정, 기판(10)을 건조시키기 위한 건조 공정 등이 있다. 도시되지는 않았으나, 상기와 같은 처리 공정을 수행하기 위하여, 상기 기판 이송 장치(100)의 상부 또는 하부에는 상기 기판(10)의 처리를 위한 약액 또 는 처리 가스 등을 제공하는 노즐들, 에어 나이프(air knife) 또는 샤워 나이프(shower knife) 등이 배치될 수 있다.
상기 기판 처리 공정은 챔버(201) 또는 처리조 내에서 수행될 수 있다. 상기 챔버(201)는 예시적으로 도시된 것이며, 이와 유사한 처리 챔버들이 일렬로 배치될 수 있다. 예를 들면, 상기 평판형 기판(10)이 상기 처리 챔버들을 통해 이송되는 동안 식각, 세정, 스트립, 현상 등과 같은 처리 공정과, 처리된 기판에 대한 세정 공정, 린스 공정, 건조 공정 등이 순차적으로 수행될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치(200)는 공정 챔버(201), 제1 이송 유닛(205), 제2 이송 유닛(207) 및 처리액 공급부(209)를 포함한다.
공정 챔버(201)는 평판형 기판(10)을 수용하며, 처리 공정을 수행하기 위한 공정 공간을 제공한다.
제1 이송 유닛(205) 및 제2 이송 유닛(207)은 도1을 참고로 설명한 기판 이송 장치(100)를 구성하는 부재와 실질적으로 동일하므로 이에 대한 상세한 설명은 생략하기로 한다.
상기 제1 및 제2 이송 유닛들(205, 207)에 의해 이송되는 평판형 기판(10)의 상부에는 평판형 기판(10)을 처리하기 위한 처리액을 공급하는 처리액 공급부(209)가 배치될 수 있다.
처리액 공급부(209)는 상기 처리액의 공급을 위하여 평판형 기판(10)의 이송 방향을 따라 평판형 기판(10)의 양측 부위에서 평행하게 연장하는 처리액 공급 배관들(미도시) 및 상기 처리액 공급 배관들 사이에는 상기 처리액을 평판형 기 판(10) 상으로 공급하기 위한 다수의 노즐들이 형성된 노즐 파이프들(미도시)이 연결된다.
본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치(200)는 다수의 제1 회전축들(210)에 회전력을 제공하는 구동부(260)를 포함할 수 있다. 이때, 상기 제1 회전축들(210)과 제1 이송 롤러들(220)은 평판형 기판(10)의 처리를 위한 공정 챔버(201) 내에 배치될 수 있으며, 상기 구동부(260)는 공정 챔버(201)의 외측에 배치될 수 있다.
구동부(260)는 공정 챔버(201)의 측벽과 인접하여 배치되며, 회전력을 발생시키는 모터(미도시)와, 상기 모터의 회전력을 전달하기 위한 동력 전달 유닛(미도시)과, 회전 속도 및 회전력을 조절하기 위한 감속기(미도시) 등을 포함할 수 있다.
상세히 도시되지는 않았으나, 상기 모터의 회전력은 상기 감속기 및 동력 전달 유닛을 통하여 각각의 제1 회전축들(211)에 전달될 수 있다. 예를 들면, 상기 동력 전달 유닛은 타이밍 벨트(미도시), 구동축들(미도시) 및 다수의 기어들(미도시)의 조합에 의해 구현될 수 있다.
상기 구동축들의 단부들과 제1 회전축들(210)의 단부들은 챔버(201)의 측벽을 사이에 두고 서로 마주하여 배치되며, 상기 단부들에는 비접촉 방식으로 회전력을 전달하기 위한 마그네틱(magnetic) 동력 전달 부재들(281, 283)이 장착될 수 있다. 각각의 마그네틱 동력 전달 부재들(281, 283)은 자체 중심에 대하여 방사상으로 배치되는 다수의 영구 자석들을 내장하고 있으며, 상기 영구 자석들은 마그네틱 동력 전달 부재(281, 283)의 원주 방향으로 극성이 변화되도록 배치된다.
상기와 같이 상기 회전력은 상기 모터로부터 상기 타이밍 벨트, 구동축들 및 마그네틱 동력 전달 부재들(281, 283)을 통해 제1 회전축들(210)로 전달되며, 상기 제1 회전축(210)의 회전에 의해 제1 이송 롤러들(220) 상에 지지된 평판형 기판(10)의 이송이 가능하게 된다. 한편, 제1 회전축(210)에 회전함에 따라 제1 마그네틱들(221, 223)과 제2 마그네틱(241, 243)간의 자기장에 의한 회전력을 전달받은 제2 회전축(230)이 회전하게 된다. 따라서, 제1 회전축이 회전함에 따라 제2 회전축도 함께 회전하게 된다.
상기와 같은 본 발명에 따르면, 상술한 바와 같은 본 발명의 실시예들에 의하면, 제1 이송 유닛의 회전에 따른 제2 이송 유닛을 회전시키는 회전력 전달 부재를 포함함으로써, 기판의 측면 및 제2 이송 유닛의 제2 이송 롤러간의 접촉에 따른 이물질의 발생이 억제된다. 또한, 평판형 기판의 이송 경로를 가이드하는 제2 이송 유닛을 구동시키기 위한 별도의 구동부없이 제2 이송 유닛을 구동할 수 있고, 제1 이송 유닛의 기판 이송 속도와 실질적으로 동일한 속도로 제2 이송 유닛이 평판형 기판의 측면과 접촉할 수 있다.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.

Claims (10)

  1. 회전 가능하도록 배치된 제1 회전축 및 상기 제1 회전축에 체결되며 평판형 기판의 제1 면을 지지하는 제1 이송 롤러를 구비하는 제1 이송 유닛; 및
    상기 기판을 사이에 두고 상기 제1 회전축과 상호 평행하게 배치되며, 상기 제1 회전축들이 회전함에 따라 회전하는 제2 회전축 및 상기 제2 회전축에 체결되며 상기 제1 면에 대응되는 제2 면을 지지하는 제2 이송 롤러를 구비하는 제2 이송 유닛을 포함하고,
    상기 제1 이송 롤러 상에는 상호 대립되는 극성들을 갖는 제1 마그네틱들이 교대로 형성되고, 상기 제2 이송 롤러 상에는 상기 제1 마그네틱들 각각의 극성에 대응되고 상호 대립되는 극성을 갖는 제2 마그네틱들이 교대로 형성된 것을 특징으로 하는 기판 이송 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 제1 및 제2 이송 유닛들은 상기 제1 이송 롤러 및 제2 이송 롤러의 외주면을 둘러싸도록 형성된 제1 및 제2 오링들을 각각 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 이송 장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 제1 회전축들과 기계적으로 연결되며, 상기 제1 회전축을 회전시키기 위한 회전력을 제공하는 구동부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 이송 장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 제1 및 제2 회전축들 사이의 간격을 조절하기 위하여 제1 및 제2 회전축의 각각에 체결된 간격 조절 유닛을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 이송 장치.
  5. 제4항에 있어서, 상기 간격 조절 유닛은 상기 제1 및 제2 회전축들에 각각 체결된 제1 및 제2 스페이서들을 포함하고, 상기 제1 및 제2 스페이서들은 각각 마주보는 단부에 형성된 제3 및 제4 마그네틱들을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 이송 장치.
  6. 공정 챔버;
    상기 공정 챔버의 일측에서 타측으로 연장되며, 상호 평행하게 배열되며 각각 회전 가능하도록 배치된 제1 회전축들 및 상기 제1 회전축들에 체결되며 평판형 기판의 제1 면을 지지하는 제1 이송 롤러들을 구비하는 제1 이송 유닛;
    상기 기판을 사이에 두고 상기 제1 회전축들과 상호 평행하게 배치되며, 상기 제1 회전축들이 회전함에 따라 회전하는 제2 회전축들 및 상기 제2 회전축들에 체결되며 상기 제1 면에 대응되는 제2면을 지지하는 제2 이송 롤러들을 구비하는 제2 이송 유닛; 및
    상기 공정 챔버 내부에 배치되어 상기 평판형 기판 상으로 처리액을 제공하는 처리액 제공부를 포함하고,
    상기 제1 이송 롤러 상에는 상호 대립되는 극성들을 갖는 제1 마그네틱들이 교대로 형성되고, 상기 제2 이송 롤러 상에는 상기 제1 마그네틱들 각각의 극성에 대응되고 상호 대립되는 극성들을 갖는 제2 마그네틱들이 교대로 형성된 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  7. 제6항에 있어서, 상기 제1 및 제2 이송 유닛들은 상기 제1 이송 롤러 및 제2 이송 롤러의 외주면을 둘러싸도록 형성된 제1 및 제2 오링들을 각각 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  8. 제6항에 있어서, 상기 제1 회전축들과 기계적으로 연결되며, 상기 제1 회전축을 회전시키기 위한 회전력을 제공하는 구동부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  9. 제6항에 있어서, 상기 제1 및 제2 회전축들 사이의 간격을 조절하기 위하여 제1 및 제2 회전축의 각각에 체결된 간격 조절 유닛을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  10. 제9항에 있어서, 상기 간격 조절 유닛은 상기 제1 및 제2 회전축들에 각각 체결된 제1 및 제2 스페이서들을 포함하고, 상기 제1 및 제2 스페이서들은 각각 마주보는 단부에 형성된 제3 및 제4 마그네틱들을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
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