JP2003341835A - 基板のガス処理装置 - Google Patents
基板のガス処理装置Info
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- JP2003341835A JP2003341835A JP2002151706A JP2002151706A JP2003341835A JP 2003341835 A JP2003341835 A JP 2003341835A JP 2002151706 A JP2002151706 A JP 2002151706A JP 2002151706 A JP2002151706 A JP 2002151706A JP 2003341835 A JP2003341835 A JP 2003341835A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】処理室外の回転駆動力をマグネットカップリン
グを介して非接触で処理室内の回転ローラに伝達可能な
処理ガスの外部への漏出のない基板のガス処理装置を提
供する。 【解決手段】処理室５内に送りローラー６を同軸状に固
定した複数の回転シャフト７を並列に軸支し、送りロー
ラー６に載置した被処理物１５を一定方向に搬送出来る
様にすると共に、処理室内にガス噴射孔を設け、被処理
物表面に向って処理ガスを吹き付けられる様にした基板
ガス処理装置において、処理室内の回転シャフト７の軸
端にマグネットカップリング１７の従動側の磁気ディス
ク１８を、処理室の側壁２３を隔てて前記従動側の磁気
ディスクと対向する位置に駆動側の磁気ディスク２５を
それぞれ位置せしめ、処理室外に設置された回転駆動源
２２から供給された回転力をマグネットカップリングを
介して処理室内の送りローラーに非接触状態で伝達でき
る様にした。
グを介して非接触で処理室内の回転ローラに伝達可能な
処理ガスの外部への漏出のない基板のガス処理装置を提
供する。 【解決手段】処理室５内に送りローラー６を同軸状に固
定した複数の回転シャフト７を並列に軸支し、送りロー
ラー６に載置した被処理物１５を一定方向に搬送出来る
様にすると共に、処理室内にガス噴射孔を設け、被処理
物表面に向って処理ガスを吹き付けられる様にした基板
ガス処理装置において、処理室内の回転シャフト７の軸
端にマグネットカップリング１７の従動側の磁気ディス
ク１８を、処理室の側壁２３を隔てて前記従動側の磁気
ディスクと対向する位置に駆動側の磁気ディスク２５を
それぞれ位置せしめ、処理室外に設置された回転駆動源
２２から供給された回転力をマグネットカップリングを
介して処理室内の送りローラーに非接触状態で伝達でき
る様にした。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は基板のガス処理装置、
詳しくは液晶基板、プリント基板、眼鏡レンズなど各種
基板である被処理物表面に処理ガスを吹き付けて、その
表面の処理を行う為の装置に関する。
詳しくは液晶基板、プリント基板、眼鏡レンズなど各種
基板である被処理物表面に処理ガスを吹き付けて、その
表面の処理を行う為の装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶基板、プリント基板、眼鏡レンズな
ど各種基板である被処理物表面に処理ガスを吹き付け、
表面の清浄化など各種表面処理を行うことは従来から広
く行われている。
ど各種基板である被処理物表面に処理ガスを吹き付け、
表面の清浄化など各種表面処理を行うことは従来から広
く行われている。
【０００３】図１及び図２はこの表面処理に用いるガス
処理装置の従来例の平面断面図及び側面断面図であり、
このガス処理装置においては、一方の側面１及び対向す
るもう一方の側面２に被処理物搬入口３及び被処理物搬
出口４を有する箱形をした処理室５内に複数の回転シャ
フト７…が軸支されており、この回転シャフト７に送り
ローラー６が同軸状に取付けられている。図中８，８は
回転シャフト７の両側を軸支している軸受である。そし
て、回転シャフト７の一方の軸端は処理室５の側壁２３
を貫通して処理室５外に露出しており、この軸端にはス
パイラルギア１０が取付けられており、処理室５外に設
置されている回転駆動源２２の回転力が回転シャフト７
に伝達され、複数の送りローラー６を同一方向に回転さ
せる様になっている。
処理装置の従来例の平面断面図及び側面断面図であり、
このガス処理装置においては、一方の側面１及び対向す
るもう一方の側面２に被処理物搬入口３及び被処理物搬
出口４を有する箱形をした処理室５内に複数の回転シャ
フト７…が軸支されており、この回転シャフト７に送り
ローラー６が同軸状に取付けられている。図中８，８は
回転シャフト７の両側を軸支している軸受である。そし
て、回転シャフト７の一方の軸端は処理室５の側壁２３
を貫通して処理室５外に露出しており、この軸端にはス
パイラルギア１０が取付けられており、処理室５外に設
置されている回転駆動源２２の回転力が回転シャフト７
に伝達され、複数の送りローラー６を同一方向に回転さ
せる様になっている。
【０００４】又、処理室５内の上部には下方に向って処
理ガス１２を噴射するガス噴射孔１３が取付けられてい
る。更に、処理室５内には処理ガス吸気孔２４が設けら
れており、処理室５内に噴射された処理ガス１２はこの
処理ガス吸気孔２４から回収される様になっている。一
方、処理室５の側壁２３の回転シャフト７貫通部分には
図３に示す様にシール材１４が取付けられており、回転
シャフト７と側面９との間を密閉し、この部分を通して
処理室５外へ処理ガス１２が漏出するのを防いでいる。
理ガス１２を噴射するガス噴射孔１３が取付けられてい
る。更に、処理室５内には処理ガス吸気孔２４が設けら
れており、処理室５内に噴射された処理ガス１２はこの
処理ガス吸気孔２４から回収される様になっている。一
方、処理室５の側壁２３の回転シャフト７貫通部分には
図３に示す様にシール材１４が取付けられており、回転
シャフト７と側面９との間を密閉し、この部分を通して
処理室５外へ処理ガス１２が漏出するのを防いでいる。
【０００５】このガス処理装置においては、ガス噴射孔
１３からオゾンガスなどの処理ガス１２を処理室５内に
噴射すると共に、回転駆動源２２を駆動し、スパイラル
ギア１０を介して回転シャフト７を同一方向に回転させ
て被処理物搬入口３から液晶基板やプリント基板などの
被処理物１５を処理室５内に搬入し、被処理物１５表面
に処理ガス１２を吹き付けて処理を行い、送りローラー
６の回転により被処理物１５を被処理物搬出口４から処
理室５外に搬出して一連の処理作業を行う様になってい
る。
１３からオゾンガスなどの処理ガス１２を処理室５内に
噴射すると共に、回転駆動源２２を駆動し、スパイラル
ギア１０を介して回転シャフト７を同一方向に回転させ
て被処理物搬入口３から液晶基板やプリント基板などの
被処理物１５を処理室５内に搬入し、被処理物１５表面
に処理ガス１２を吹き付けて処理を行い、送りローラー
６の回転により被処理物１５を被処理物搬出口４から処
理室５外に搬出して一連の処理作業を行う様になってい
る。
【０００６】なお、この処理室５内にガス噴射孔１３か
ら噴射された処理ガス１２は処理ガス吸気孔２４によっ
て回収されて循環再利用される様になっている。
ら噴射された処理ガス１２は処理ガス吸気孔２４によっ
て回収されて循環再利用される様になっている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】この従来のガス処理装
置においては、回転シャフト７に接しているシール材１
４は、回転シャフト７の回転に伴う摩擦や処理ガス１２
との接触によって劣化することは避けられず、その表面
から微細な粉塵が発生し、この粉塵が処理室５内の被処
理物１５の表面に付着し、被処理物の歩留まりを低下さ
せる原因となっていた。
置においては、回転シャフト７に接しているシール材１
４は、回転シャフト７の回転に伴う摩擦や処理ガス１２
との接触によって劣化することは避けられず、その表面
から微細な粉塵が発生し、この粉塵が処理室５内の被処
理物１５の表面に付着し、被処理物の歩留まりを低下さ
せる原因となっていた。
【０００８】又、シール材１４の劣化によって回転シャ
フト７貫通部分の気密性が低下し、処理ガス１２が外部
に漏出するトラブルも発生していた。特に、処理ガス１
２は有毒あるいは腐食性、更には可燃性のものである場
合が多く、処理ガス１２の処理室５外への漏出は危険防
止、健康保持あるいは環境保全などの見地からも問題で
あった。
フト７貫通部分の気密性が低下し、処理ガス１２が外部
に漏出するトラブルも発生していた。特に、処理ガス１
２は有毒あるいは腐食性、更には可燃性のものである場
合が多く、処理ガス１２の処理室５外への漏出は危険防
止、健康保持あるいは環境保全などの見地からも問題で
あった。
【０００９】本発明はガス処理装置に関する上記問題点
を解決することを目的とするものであり、シール材を一
切用いることなく、シール材の劣化に起因する各種トラ
ブルを根絶した新しい基板のガス処理装置を提供せんと
するものである。
を解決することを目的とするものであり、シール材を一
切用いることなく、シール材の劣化に起因する各種トラ
ブルを根絶した新しい基板のガス処理装置を提供せんと
するものである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】箱形をした処理室５内
に、送りローラー６を同軸状に固定した複数の回転シャ
フト７を並列状に軸支し、前記送りローラー６に載置し
た被処理物１５である各種基板を一定方向に搬送出来る
様にすると共に、処理室５内にガス噴射孔１３を設け、
被処理物１５の表面に向って処理ガス１２を吹き付けら
れる様にした基板のガス処理装置において、処理室５内
の回転シャフト７の軸端にマグネットカップリング１７
の従動側の磁気ディスク１８を、処理室５の側壁２３を
隔てて前記従動側の磁気ディスク１８と対向する位置に
駆動側の磁気ディスク２５をそれぞれ位置せしめ、処理
室５外に設置された回転駆動源２２から供給された回転
力をマグネットカップリング１７を介して処理室５内の
送りローラー６に非接触状態で伝達できる様にすること
により、上記課題を解決した。
に、送りローラー６を同軸状に固定した複数の回転シャ
フト７を並列状に軸支し、前記送りローラー６に載置し
た被処理物１５である各種基板を一定方向に搬送出来る
様にすると共に、処理室５内にガス噴射孔１３を設け、
被処理物１５の表面に向って処理ガス１２を吹き付けら
れる様にした基板のガス処理装置において、処理室５内
の回転シャフト７の軸端にマグネットカップリング１７
の従動側の磁気ディスク１８を、処理室５の側壁２３を
隔てて前記従動側の磁気ディスク１８と対向する位置に
駆動側の磁気ディスク２５をそれぞれ位置せしめ、処理
室５外に設置された回転駆動源２２から供給された回転
力をマグネットカップリング１７を介して処理室５内の
送りローラー６に非接触状態で伝達できる様にすること
により、上記課題を解決した。
【００１１】この際、処理ガス１２は有毒ガスあるいは
有毒成分を含有する混合ガス、腐食性の高いガスあるい
は腐食性の高い成分を含有した混合ガス、可燃性のガス
あるいは可燃性の混合ガスである場合が多い。又、オゾ
ンを含有したガスを用いることもある。なお、処理室５
の被処理物搬入口３または／及び被処理物搬出口４には
シャッター２６を取付け、これらを開閉自在にしても良
い。
有毒成分を含有する混合ガス、腐食性の高いガスあるい
は腐食性の高い成分を含有した混合ガス、可燃性のガス
あるいは可燃性の混合ガスである場合が多い。又、オゾ
ンを含有したガスを用いることもある。なお、処理室５
の被処理物搬入口３または／及び被処理物搬出口４には
シャッター２６を取付け、これらを開閉自在にしても良
い。
【００１２】
【実施の形態】図４はこの発明に係る基板のガス処理装
置の一実施形態の平面断面図、図５は同じくその側面断
面図である。
置の一実施形態の平面断面図、図５は同じくその側面断
面図である。
【００１３】図中５は箱形をした処理室であり、一方の
側面１には被処理物搬出口３が、対向したもう一方の側
面２には被処理物搬出口４がそれぞれ形成されている。
又、これら被処理物搬入口３及び被処理物搬出口４の真
上にはそれぞれシャッター２６が設けられており、必要
に応じてこれらを開閉できる様になっている。更に、こ
の実施の形態においては、この処理室５の内面にはフッ
素樹脂コーティングが施されており、処理ガス１２が腐
食性を有するものであっても、腐食されない様に配慮さ
れている。
側面１には被処理物搬出口３が、対向したもう一方の側
面２には被処理物搬出口４がそれぞれ形成されている。
又、これら被処理物搬入口３及び被処理物搬出口４の真
上にはそれぞれシャッター２６が設けられており、必要
に応じてこれらを開閉できる様になっている。更に、こ
の実施の形態においては、この処理室５の内面にはフッ
素樹脂コーティングが施されており、処理ガス１２が腐
食性を有するものであっても、腐食されない様に配慮さ
れている。
【００１４】一方、処理室５内には、その側壁２３，２
３に沿って一対の軸受８が設けられており、前記被処理
物搬入口３及び被処理物搬出口４と平行に多数の回転シ
ャフト７が並列状に軸支されている。そして、この回転
シャフト７には一対の送りローラー６が同軸状に取付け
られている。
３に沿って一対の軸受８が設けられており、前記被処理
物搬入口３及び被処理物搬出口４と平行に多数の回転シ
ャフト７が並列状に軸支されている。そして、この回転
シャフト７には一対の送りローラー６が同軸状に取付け
られている。
【００１５】更に、図７に示す様に、この送りローラー
６が軸支された回転シャフト７の一方の軸端にはマグネ
ットカップリング１７の従動側の磁気ディスク１８が同
軸状に固定されている。マグネットカップリング１７と
は、空間を隔てて対向した一対の従動側の磁気ディスク
１８と駆動側の磁気ディスク２５とからなる非接触の回
転力伝達機構であり、図６に示す様に、これら磁気ディ
スク１８，２５の対向した面には同心円状に等間隔で磁
石１９のＮ極とＳ極とが交互に埋め込まれており、これ
ら対向する磁気ディスク１８，２５の磁石１９，１９の
吸引作用及び反発作用によって、駆動側の磁気ディスク
２５から従動側の磁気ディスク１８に回転力が伝達され
るのである。
６が軸支された回転シャフト７の一方の軸端にはマグネ
ットカップリング１７の従動側の磁気ディスク１８が同
軸状に固定されている。マグネットカップリング１７と
は、空間を隔てて対向した一対の従動側の磁気ディスク
１８と駆動側の磁気ディスク２５とからなる非接触の回
転力伝達機構であり、図６に示す様に、これら磁気ディ
スク１８，２５の対向した面には同心円状に等間隔で磁
石１９のＮ極とＳ極とが交互に埋め込まれており、これ
ら対向する磁気ディスク１８，２５の磁石１９，１９の
吸引作用及び反発作用によって、駆動側の磁気ディスク
２５から従動側の磁気ディスク１８に回転力が伝達され
るのである。
【００１６】一方、処理室５外には、回転シャフト７の
軸端に取付けられた従動側の磁気ディスク８に対応する
位置に、駆動側の磁気ディスク２５がそれぞれ位置せし
められており、この駆動側の磁気ディスク２５の駆動軸
２０にはスパイラルギア２１が取付けられ、回転駆動源
２２によって発生した回転駆動力がスパイラルギア２１
を介して駆動側の磁気ディスク２５に伝達される様にな
っている。
軸端に取付けられた従動側の磁気ディスク８に対応する
位置に、駆動側の磁気ディスク２５がそれぞれ位置せし
められており、この駆動側の磁気ディスク２５の駆動軸
２０にはスパイラルギア２１が取付けられ、回転駆動源
２２によって発生した回転駆動力がスパイラルギア２１
を介して駆動側の磁気ディスク２５に伝達される様にな
っている。
【００１７】なお、これら磁気ディスク１８，２５が対
向する処理室５の側壁２３は磁気が透過しやすい様にア
ルミ等の非磁性体で構成されている。更に、処理室５内
の上部にはガス噴射孔１３が設けられており、処理室５
内に処理ガス１２が吹き出す様になっている。この実施
の形態においては、処理ガス１２としてオゾンガスを用
いているが、処理内容に応じて有毒ガス、有毒な混合ガ
ス、可燃性ガスなどを用いることがある。
向する処理室５の側壁２３は磁気が透過しやすい様にア
ルミ等の非磁性体で構成されている。更に、処理室５内
の上部にはガス噴射孔１３が設けられており、処理室５
内に処理ガス１２が吹き出す様になっている。この実施
の形態においては、処理ガス１２としてオゾンガスを用
いているが、処理内容に応じて有毒ガス、有毒な混合ガ
ス、可燃性ガスなどを用いることがある。
【００１８】又、図５に示す様に処理室５の内側前後部
には処理ガス吸気孔２４が設けられ、処理室５内に放出
された処理ガス１２を吸引回収し、循環再利用できるよ
うになっている。更に、この処理室５内あるいは処理室
５自体を加熱できる様にしても良い。
には処理ガス吸気孔２４が設けられ、処理室５内に放出
された処理ガス１２を吸引回収し、循環再利用できるよ
うになっている。更に、この処理室５内あるいは処理室
５自体を加熱できる様にしても良い。
【００１９】なお、この実施の形態においては、回転駆
動源２２から駆動側の磁気ディスク２５への回転力の伝
達はスパイラルギア２１を用いて行っているが、他のギ
ア機構あるいはベルト駆動、チェーン駆動等の回転力伝
達の機構を用いて行っても良いことはもちろんである。
動源２２から駆動側の磁気ディスク２５への回転力の伝
達はスパイラルギア２１を用いて行っているが、他のギ
ア機構あるいはベルト駆動、チェーン駆動等の回転力伝
達の機構を用いて行っても良いことはもちろんである。
【００２０】この実施の形態は上記の通りの構成を有
し、送りローラー６上に載置されている液晶基板、プリ
ント基板、眼鏡レンズなど各種被処理物１５の表面にガ
ス噴射孔１３から処理ガス１２を吹き付け、表面処理を
行うものであり、ローラー６上に載置された被処理物１
５は、送りローラー６の回転により処理室５の被処理物
搬入口３側から被処理物搬出口４側へと移動させられ
る。
し、送りローラー６上に載置されている液晶基板、プリ
ント基板、眼鏡レンズなど各種被処理物１５の表面にガ
ス噴射孔１３から処理ガス１２を吹き付け、表面処理を
行うものであり、ローラー６上に載置された被処理物１
５は、送りローラー６の回転により処理室５の被処理物
搬入口３側から被処理物搬出口４側へと移動させられ
る。
【００２１】なお、この実施の形態においては、処理ガ
ス１２として酸化作用の強いオゾンを含有したガスを用
いており、これを被処理物１５の表面に吹き付け、その
表面を酸化させて酸化物を生成せしめ、次行程において
これを除去することにより、清浄化する作業を行ってい
る。
ス１２として酸化作用の強いオゾンを含有したガスを用
いており、これを被処理物１５の表面に吹き付け、その
表面を酸化させて酸化物を生成せしめ、次行程において
これを除去することにより、清浄化する作業を行ってい
る。
【００２２】送りローラー６の駆動はマグネットカップ
リング１７を介して行われており、回転駆動源２２の回
転力はスパイラルギア２１を介してマグネットカップリ
ング１７の駆動側の磁気ディスク２５に伝えられる。一
方、処理室５内に軸支されている回転シャフト７の軸端
の従動側の磁気ディスク１８は、駆動側の磁気ディスク
２５と磁気的に吸引反発しており、駆動側の磁気ディス
ク２５の回転に追随して従動し、回転シャフト７に取付
けられている送りローラー６を一方方向に回転させるこ
とになる。
リング１７を介して行われており、回転駆動源２２の回
転力はスパイラルギア２１を介してマグネットカップリ
ング１７の駆動側の磁気ディスク２５に伝えられる。一
方、処理室５内に軸支されている回転シャフト７の軸端
の従動側の磁気ディスク１８は、駆動側の磁気ディスク
２５と磁気的に吸引反発しており、駆動側の磁気ディス
ク２５の回転に追随して従動し、回転シャフト７に取付
けられている送りローラー６を一方方向に回転させるこ
とになる。
【００２３】なお、この実施の形態においては、処理室
５の側壁２３の厚さは３ｍｍ、磁気ディスク１８，２５
の端面と側壁２３の壁面との間隔はそれぞれ１ｍｍであ
ったが、従動側の磁気ディスク１８のトルクを計測した
ところ、３．０Ｋｇ・ｃｍであり、送りローラー６の駆
動力として十分であることが判明した。
５の側壁２３の厚さは３ｍｍ、磁気ディスク１８，２５
の端面と側壁２３の壁面との間隔はそれぞれ１ｍｍであ
ったが、従動側の磁気ディスク１８のトルクを計測した
ところ、３．０Ｋｇ・ｃｍであり、送りローラー６の駆
動力として十分であることが判明した。
【００２４】
【発明の効果】この発明に係るガス処理装置は、被処理
物１５の搬送用の送りローラー６の駆動をマグネットカ
ップリング１７で行っているので、送りローラー６の駆
動用の回転シャフト７の端部は処理室５の側壁２３から
貫通露出しておらず、貫通部分の気密を保持する為のシ
ール材は全く必要とせず、シール材の劣化や摩耗に伴う
処理ガスの漏出や処理室５内への微細粉塵の飛散といっ
たトラブルが発生するおそれはなく、常に安定した状態
で処理作業を行い、高品質の基板を得ることが出来る効
果を有し、極めて実用的なものである。
物１５の搬送用の送りローラー６の駆動をマグネットカ
ップリング１７で行っているので、送りローラー６の駆
動用の回転シャフト７の端部は処理室５の側壁２３から
貫通露出しておらず、貫通部分の気密を保持する為のシ
ール材は全く必要とせず、シール材の劣化や摩耗に伴う
処理ガスの漏出や処理室５内への微細粉塵の飛散といっ
たトラブルが発生するおそれはなく、常に安定した状態
で処理作業を行い、高品質の基板を得ることが出来る効
果を有し、極めて実用的なものである。
【図１】従来の基板のガス処理装置の一例の平面断面
図。
図。
【図２】同じく図１における矢視Ａ−Ａ線側面断面図。
【図３】その処理室５の側壁２３の回転シャフト７貫通
部分の拡大断面図。
部分の拡大断面図。
【図４】この発明に係る基板のガス処理装置の一実施形
態の平面断面図。
態の平面断面図。
【図５】同じく、図４における矢視Ｂ−Ｂ線側面断面
図。
図。
【図６】この発明に係る基板のガス処理装置の一実施形
態のマグネットカップリング部分の拡大斜視図。
態のマグネットカップリング部分の拡大斜視図。
【図７】同じくマグネットカップリング取付け部分の拡
大断面図。
大断面図。
１ 側面
２ 側面
３ 被処理物搬入口
４ 被処理物搬出口
５ 処理室
６ 送りローラー
７ 回転シャフト
８ 軸受
１０ スパイラルギア
１２ 処理ガス
１３ ガス噴射孔
１４ シール材
１５ 被処理物
１７ マグネットカップリング
１８ 従動側の磁気ディスク
１９ 磁石
２０ 駆動軸
２１ スパイラルギア
２２ 回転駆動源
２３ 側壁
２４ 処理ガス吸気孔
２５ 駆動側の磁気ディスク
２６ シャッター
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 大石 哲士
東京都調布市柴崎２丁目１番地３ 島田理
化工業株式会社内
(72)発明者 石神 敬志
東京都調布市柴崎２丁目１番地３ 島田理
化工業株式会社内
(72)発明者 篠塚 保志
東京都調布市柴崎２丁目１番地３ 島田理
化工業株式会社内
(72)発明者 野田 清治
東京都千代田区丸の内二丁目２番３号 三
菱電機株式会社内
(72)発明者 宮本 誠
東京都千代田区丸の内二丁目２番３号 三
菱電機株式会社内
Ｆターム(参考） 2H088 FA21 FA30 HA01
2H090 JC19
3B116 AA01 AB14 AB43 BB22 CD22
CD31
5F031 CA05 FA02 FA12 GA53 LA04
Claims (7)
- 【請求項１】 箱形をした処理室５内に、送りローラー
６を同軸状に固定した複数の回転シャフト７を並列状に
軸支し、前記送りローラー６に載置した被処理物１５で
ある各種基板を一定方向に搬送出来る様にすると共に、
処理室５内にガス噴射孔１３を設け、被処理物１５表面
に向って処理ガス１２を吹き付けられる様にした基板の
ガス処理装置において、処理室５内の回転シャフト７の
軸端にマグネットカップリング１７の従動側の磁気ディ
スク１８を、処理室５の側壁２３を隔てて前記従動側の
磁気ディスク１８と対向する位置に駆動側の磁気ディス
ク２５をそれぞれ位置せしめ、処理室５外に設置された
回転駆動源２２から供給された回転力をマグネットカッ
プリング１７を介して処理室５内の送りローラー６に非
接触状態で伝達できる様にしたことを特徴とする基板の
ガス処理装置。 - 【請求項２】 処理ガス１２が有毒ガスあるいは有毒成
分を含有する混合ガスであることを特徴とする請求項１
記載の基板のガス処理装置。 - 【請求項３】 処理ガス１２が腐食性の高いガスあるい
は腐食性の高い成分を含有した混合ガスであることを特
徴とする請求項１記載の基板のガス処理装置。 - 【請求項４】 処理ガス１２が可燃性のガスあるいは可
燃性の混合ガスであることを特徴とする請求項１記載の
基板のガス処理装置。 - 【請求項５】 処理ガス１２がオゾンを含有したガスで
あることを特徴とする請求項１記載の基板のガス処理装
置。 - 【請求項６】 処理室５の被処理物搬入口３または／及
び被処理物搬出口４にシャッター２６を設け、これらを
開閉自在にしたことを特徴とする請求項１記載の基板の
ガス処理装置。 - 【請求項７】処理室５の内面がフッ素樹脂でコーティン
グされていることを特徴とする請求項１記載の基板のガ
ス処理装置。
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