JP4307876B2 - 基板搬送装置 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板を搬送する基板搬送装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示装置用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用ガラス基板、半導体ウエハ等の基板に種々の処理を行うために基板処理装置が用いられている。このような基板処理装置は、主にクリーンルーム内で使用されるため、設置スペースの削減が要求されている。
【０００３】
図１８は、基板処理装置の全長を短縮して省スペース化を図った基板処理装置の一例を示す図である（特許文献１参照）。
【０００４】
図１８に示す基板処理装置９００では、互いに平行な搬送路１５１および搬送路１５２ならびにこれらを結合する反転経路１５３が形成されている。
【０００５】
基板処理装置９００においては、インデクサ部１１１のカセットＣに収納された基板が一枚ずつ取り出されて、搬送路１５１、反転経路１５３および搬送路１５２のほぼＵ字状の順に搬送されつつ処理が施され、再びインデクサ部１１１のカセットＣ内に収納される。
【０００６】
図１８の基板処理装置９００の搬送路１５１には、コンベア１１２、紫外線照射部１１３、オゾンアッシング部１１４およびブラシ水洗部１１５が順に配置され、基板処理装置９００の搬送路１５２には、紫外線照射部１１９、エアーナイフ部１１８、水洗部１１７が順に配置されている。
【０００７】
また、基板処理装置９００の反転経路１５３には、基板搬送装置８００、薬液処理を行う薬液処理部８１０および基板搬送装置８０１が順に配置されている。薬液処理部８１０においては、基板の表面処理の均一化のため、基板を所定の角度だけ傾斜姿勢にさせて処理が行われる。
【０００８】
図１９は図１８の基板搬送装置８０１の横断面図であり、図２０は図１９の基板搬送装置８０１のＡ−Ａ線断面図である。
【０００９】
図１９および図２０において、水平面内で直交する２方向をＸ方向およびＹ方向とし、鉛直方向をＺ方向とする。図１９に示すように、基板が搬送室３００の基板搬入口３１０からＹ方向に搬入され、基板搬出口３２０からＸ方向に搬出される。
【００１０】
図１９の基板搬送装置８０１の搬送室３００内には、複数の搬送軸８０ａと複数の搬送軸８０ｂとが所定の間隔Ｌ１０を隔ててそれぞれＸ方向に沿って配置されている。複数の搬送軸８０ｃは、搬送軸８０ａと搬送軸８０ｂとの間の所定の間隔Ｌ１０内でＹ方向に沿って配置されている。複数の搬送軸８０ｄは、搬送軸８０ａ，８０ｂの間にＹ方向に沿って配置されている。
【００１１】
各搬送軸８０ａ，８０ｂには複数のローラＰ１１０が設けられ、各搬送軸８０ｃには複数のローラＰ２１０が設けられ、各搬送軸８０ｄには複数のローラＰ２１１が設けられている。
【００１２】
また、搬送室３００外に設けられたモータＭ１０のシャフトは、搬送室３００の側壁を貫通して伝達機構Ｇ１に連結され、その伝達機構Ｇ１から複数の搬送軸８０ａに回転力が伝達される。同様に、搬送室３００外に設けられたモータＭ２０のシャフトは、搬送室３００の側壁を貫通して伝達機構Ｇ２に連結され、その伝達機構Ｇ２から複数の搬送軸８０ｂに回転力が伝達される。それにより、複数のローラＰ１１０が複数の搬送軸８０ａ，８０ｂとともに回転する。
【００１３】
さらに、搬送室３００外に設けられたモータＭ３０は、搬送室３００の側壁を貫通して伝達機構Ｇ３に連結され、その伝達機構Ｇ３から複数の搬送軸８０ｃに回転力が伝達される。それにより、複数のローラＰ２１０が複数の搬送軸８０ｃとともに回転する。
【００１４】
図２０に示すように、搬送軸８０ａ，８０ｂは水平面に対して傾斜した状態で設けられる。搬送軸８０ｃ，８０ｄは、固定台９０の上方に複数の支持部材９６により支持される。固定台９０は、シリンダ９５により上下方向に駆動される。
【００１５】
図１９の基板搬入口３１０から搬入された基板２００は、図２０に示すように、傾斜姿勢でローラＰ１１０により支持される。搬送室３００外に設けられたモータＭ１０，Ｍ２０により伝達機構Ｇ１，Ｇ２を介して搬送軸８０ａ，８０ｂのローラＰ１１０が回転し、基板２００がＹ方向に搬送される。
【００１６】
続いて、基板２００が所定の位置まで搬送されると、モータＭ１０，モータＭ２０は回転動作を停止する。それにより、複数のローラＰ１１０の回転が停止し、基板２００が停止する。
【００１７】
続いて、シリンダ９５により固定台９０がＺ方向に持ち上げられる。それにより、複数の支持部材９６に支持された複数の搬送軸８０ｃのローラＰ２１０および複数の搬送軸８０ｄのローラＰ２１１が、複数のローラＰ１１０よりも上方へ移動する。したがって、基板２００がローラＰ１１０から離れ、ローラＰ２１０，２１１に支持されて上方に持ち上げられる。
【００１８】
さらに、搬送軸８０ｃ，８０ｄが上方に移動した際、図１９のモータＭ３０および伝達機構Ｇ３のギア（図示せず）と搬送軸８０ｃに設けられたギア（図示せず）とが噛み合う。それにより、複数のローラＰ２１０にモータ（Ｍ３０）の回転力が伝達されてローラＰ２１０が回転する。その結果、ローラＰ２１０，Ｐ２１１に支持された基板２００が基板搬出口３２０から矢印Ｘの方向に搬出される。
【００１９】
このように、基板搬送装置８０１では、傾斜姿勢でＸ方向に搬入された基板２００を水平姿勢でＹ方向へ搬出することができる。
【００２０】
【特許文献１】
特開２０００−３１２３９号公報
【００２１】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来の基板搬送装置８０１では、搬送室３００外に設けられたモータＭ１０，Ｍ２０，Ｍ３０のシャフトが搬送室３００の側壁に設けられた孔を通して搬送室３００の内部の伝達機構Ｇ１，Ｇ２，Ｇ３に連結されているため、側壁の孔から処理液を含む雰囲気が外部に漏洩する可能性がある。
【００２２】
さらに、伝達機構Ｇ１，Ｇ２，Ｇ３のギアの磨耗粉が搬送室３００内に拡散することを防止するために、伝達機構Ｇ１，Ｇ２，Ｇ３に囲い２５０を設け、基板２００と隔離する必要がある。しかし、上述したように、搬送軸８０ｃが上昇した場合に搬送軸８０ｃに駆動力を伝達することができるように伝達機構Ｇ３の囲いの下部を開放しておかねばならない。それにより、伝達機構Ｇ３のギアが噛み合うことにより生じる磨耗粉がその開放部より拡散して基板２００の表面に付着する場合がある。さらに、伝達機構Ｇ３のギアが噛み合うことにより振動が生じる場合がある。これらの結果、基板２００の均一な処理が妨げられる。
【００２３】
また、上述した伝達機構Ｇ１，Ｇ２，Ｇ３のギアのために潤滑剤を収納する収容部２６０（バット）を搬送室３００内に設けることが必要となる。さらに、その収容部２６０内に潤滑剤を供給する必要もある。伝達機構Ｇ３の駆動時に潤滑剤を供給することは困難である。それにより、搬送室３００内の構造が複雑化すると共に部品点数が増加し、基板搬送装置８０１の省スペース化および低コスト化を阻害する要因となっていた。
【００２４】
本発明の目的は、雰囲気の漏洩を防止することができ、基板の均一な処理を妨げることなく簡単な構造で基板の姿勢を変更することができかつ省スペース化および低コスト化が可能な基板搬送装置を提供することである。
【００２５】
【課題を解決するための手段および発明の効果】
（第１の発明）
第１の発明に係る基板搬送装置は、基板を搬送する基板搬送装置であって、壁部を有する搬送室と、搬送室内に回転可能に設けられ、基板を支持する第１のローラ部材と、第１のローラ部材を移動または傾斜させることにより第１のローラ部材を第１の状態および第２の状態に変更する状態変更手段と、搬送室外に設けられ、回転力を発生する回転駆動手段と、回転駆動手段により発生された回転力を磁力により第１のローラ部材に伝達する伝達手段と、搬送室内に回転可能に設けられ、基板を支持する第２のローラ部材とを備え、伝達手段は、搬送室外において壁部に対向するように配置され、回転駆動手段により発生された回転力により回転する第１の伝達部材と、搬送室内において第１のローラ部材とともに回転可能に設けられた第２の伝達部材とを含み、第１のローラ部材が第１の状態にある場合に第１の伝達部材と第２の伝達部材との間で回転力が伝達する第１の位置に第２の伝達部材があり、第１のローラ部材が第２の状態にある場合に第１の伝達部材と第２の伝達部材との間で回転力が伝達しない第２の位置に第２の伝達部材があり、第１のローラ部材が第１の状態にある場合に基板が第１のローラ部材上に支持されるように第１のローラの頂部が第２のローラの頂部よりも上方に位置し、第１のローラ部材が第２の状態にある場合に基板が第２のローラ上に支持されるように第２のローラの頂部が第１のローラの頂部よりも上方に位置するものである。
【００２６】
第１の発明に係る基板搬送装置において、第１のローラ部材が第１の状態にある場合に、第２の伝達部材が第１の位置にあり、第１の伝達部材と第２の伝達部材との間で回転駆動手段により発生された回転力が伝達される。また、第１のローラ部材が第２の状態にある場合に第２の伝達部材が第２の位置にあり、第１の伝達部材と第２の伝達部材との間で回転駆動手段により発生された回転力が伝達されない。
【００２７】
この場合、回転駆動手段の回転力を第１の伝達部材および第２の伝達部材に伝達するために側壁に孔を設ける必要がないので、処理液を含む雰囲気が搬送室の外部に漏洩することが防止される。
【００２８】
また、回転駆動手段および第１の伝達部材が搬送室外に設けられているため、回転駆動手段および第１の伝達部材から発生する磨耗粉が基板に付着することが防止される。さらに、第１の伝達部材および第２の伝達部材の振動も生じない。また、第１の伝達部材と第２の伝達部材との間に潤滑剤を供給する必要がない。したがって、基板の均一な処理が妨げられない。
【００２９】
さらに、回転駆動手段および第１の伝達部材が搬送室外に設けられているので、潤滑剤を収納する収容器を搬送室内に設ける必要がなく、搬送室内への潤滑剤の補給も必要としない。そのため、部品点数を削減できるとともに搬送室内の構造を単純化できる。したがって、簡単な構造で基板の姿勢を変更することができかつ基板搬送装置の小型化および省スペース化を実現することができる。
また、第１のローラ部材が第１の状態にある場合に基板が第１のローラ部材上に支持され、第１のローラ部材が第２の状態にある場合に基板が第２のローラ上に支持される。それにより、第１のローラ部材から第２のローラ部材に容易に基板を受け渡すことができる。
【００３０】
（第２の発明）
第２の発明に係る基板搬送装置は、第１の発明に係る基板搬送装置の構成において、第２の伝達部材は、第１の位置で壁部を介して第１の伝達部材に対向し、第２の位置で第１の位置に比べて第１の伝達部材から離れるものである。
【００３１】
この場合、第２の伝達部材は、第１の位置で壁部を介して第１の伝達部材に対向することにより、回転駆動手段により発生された回転力が伝達される。また、第２の位置で第１の位置に比べて第１の伝達部材から離れることにより、回転駆動手段により発生された回転力が伝達されない。
【００３４】
(第４の発明)
第４の発明に係る基板搬送装置は、第３の発明に係る基板搬送装置の構成において、第１の状態は第１のローラ部材が水平面に対して第１の角度をなす状態であり、第２の状態は第１のローラ部材が水平面に対して第１の角度と異なる第２の角度をなす状態であるものである。
【００３５】
この場合、第１の状態では、第１のローラ部材が水平面に対して第１の角度をなし、基板が第１のローラ部材により支持される。このとき、第２の伝達部材は、第１の位置で壁部を介して第１の伝達部材に対向するので、回転駆動手段により発生された回転力が第１のローラ部材に伝達され、第１のローラ部材により基板が搬送される。
【００３６】
一方、第２の状態では、複数の第１のローラ部材が水平面に対して第２の角度をなし、基板が第２のローラ部材により支持される。このとき、第２の伝達部材は、第２の位置で第１の位置に比べて第１の伝達部材から離れるので、回転駆動手段により発生された回転力が第１のローラ部材に伝達されない。
【００３７】
（第５の発明）
第５の発明に係る基板搬送装置は、第３または第４の発明に係る基板搬送装置の構成において、第１のローラ部材と第２のローラ部材とは、互いに交差するように設けられたものである。
【００３８】
この場合、第１のローラ部材と第２のローラ部材とは、互いに交差するように設けられているため、搬送方向を変更しつつ第１のローラから第２のローラに基板を受け渡すことができる。
【００３９】
（第６の発明）
第６の発明に係る基板搬送装置は、第３または第４の発明に係る基板搬送装置の構成において、第１のローラ部材と第２のローラ部材とは、互いに略平行に設けられたものである。
【００４０】
この場合、第１のローラ部材と第２のローラ部材とは、互いに略平行に設けられているため、基板の搬送方向を維持しつつ第１のローラ部材から第２のローラ部材に基板を受け渡すことができる。
【００４１】
（第７の発明）
第７の発明に係る基板搬送装置は、第１〜第６のいずれかの発明に係る基板搬送装置の構成において、第１の伝達部材は、壁部に対向する第１の面および第１の回転軸を有するとともに、第１の回転軸を中心とする円周に沿って配置された複数の第１の磁石を内蔵し、第２の伝達部材は、壁部に対向可能な第２の面および第２の回転軸を有するとともに、第２の回転軸を中心とする円周に沿って配置された複数の第２の磁石を内蔵するものである。
【００４２】
この場合、第１の伝達部材には、第１の回転軸を中心とする円周に沿って第１の磁石が内蔵され、第２の伝達部材には、第２の回転軸を中心とする円周に沿って第２の磁石が内蔵されているため、複数の磁石の磁力により回転力を伝達することができる。その結果、確実に第１の伝達部材の回転力を第２の伝達部材に伝達することができる。
【００４３】
（第８の発明）
第８の発明に係る基板搬送装置は、第７の発明に係る基板搬送装置の構成において、複数の第１の磁石は、第１の面にＮ極およびＳ極が交互に形成されるように等ピッチで配置され、複数の第２の磁石は、第２の面にＮ極およびＳ極が交互に形成されるように複数の第１の磁石と同じピッチで配置されたものである。
【００４４】
この場合、第１の磁石と第２の磁石との間で互いに異なる極性により引き合う引力が発生し、第１の伝達部材から第２の伝達部材に効率よく回転力を伝達することができる。
【００４５】
（第９の発明）
第９の発明に係る基板搬送装置は、第７または第８の発明に係る基板搬送装置の構成において、第１の伝達部材の複数の第１の磁石は非磁性体部材に内蔵され、第２の伝達部材の複数の第２の磁石は非磁性体部材に内蔵されるものである。この場合、第１の伝達部材および第２の伝達部材は、非磁性体部材に第１の磁石および第２の磁石を内蔵するので、第１の伝達部材の回動力が第２の伝達部材に効率よく伝達される。
【００４６】
（第１０の発明）
第１０の発明に係る基板搬送装置は、第９の発明に係る基板搬送装置の構成において、第２の伝達部材の非磁性体部材の少なくとも外周面は、樹脂からなるものである。この場合、処理液による第２の伝達部材の腐食が防止される。
【００４７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。
【００４８】
（第１の実施の形態）
図１は、本発明の第１の実施の形態に係る基板搬送装置を備えた基板処理装置を示す模式的平面図である。
【００４９】
図１に示す基板処理装置５００は、液晶表示装置用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用ガラス基板、半導体ウエハ等の基板を処理する装置である。
【００５０】
基板処理装置５００は、インデクサ部６０、コンベア６１，６９、紫外線（ＵＶ）照射部６２、薬液処理部６３，６４、一次水洗部６５、二次水洗部６６，６７、エアーナイフ部６８および基板搬送装置１００，１０１から構成される。
【００５１】
図１の基板処理装置５００では、互いに平行な搬送路１５４および搬送路１５６並びにこれらを結合する反転経路１５５が形成されている。搬送路１５４，１５６と反転経路１５５とはほぼ直交している。
【００５２】
基板処理装置５００の搬送路１５４には、コンベア６１、紫外線（ＵＶ）照射部６２、薬液処理部６３，６４が順に設けられている。基板処理装置５００の反転経路１５５には、基板搬送装置１００、一次水洗部６５および基板搬送装置１０１が順に設けられている。基板搬送装置５００の搬送路１５６には、二次水洗部６６，６７、エアーナイフ部６８およびコンベア６９が順に設けられている。
【００５３】
まず、基板処理装置５００のインデクサ部６０に、複数の基板２００が収納されたカセットＣが搬入される。カセットＣ内に収納された基板２００は、搬送装置（図示せず）により１枚ずつ取り出され、コンベア６１に搬入される。ここで、搬送路１５４では、基板処理の均一化のために基板２００が水平面から所定の角度だけ傾斜した姿勢で処理される。
【００５４】
コンベア６１への搬入時に基板２００の姿勢が水平姿勢から所定の角度だけ傾斜した姿勢（以下、傾斜姿勢と呼ぶ。）に変更される。傾斜姿勢の基板２００がコンベア６１により紫外線（ＵＶ）照射部６２に搬送される。紫外線（ＵＶ）照射部６２において、基板２００に紫外線が照射される。その結果、基板２００の表面に付着した有機物および油分が分解され、基板２００の塗れ性が向上する。その後、薬液処理部６３，６４において基板２００にエッチング等の薬液の処理が施される。
【００５５】
続いて、搬送路１５５において基板２００に一次水洗処理が行われる。基板搬送装置１００においては、基板２００の搬送方向を変更するとともに傾斜姿勢で搬送されてきた基板２００を水平姿勢に変更させる。そして、基板２００は一次水洗部６５に搬送される。一次水洗部６５において、水平姿勢で基板２００の表面に水洗処理が行われる。一次水洗処理は、基板２００の表面が乾燥して、不純物が析出して固着することを防止するために行う。したがって、本実施の形態における基板搬送装置１００，１０１においても、基板２００を搬送するとともに上方から基板２００に対して純水が噴射される。
【００５６】
次に、基板２００は基板搬送装置１０１に搬送される。本実施の形態においては、搬送路１５６において基板２００が傾斜姿勢で処理される。したがって、基板搬送装置１０１においては、基板２００の搬送方向を変更するとともに水平姿勢で搬送されてきた基板２００を傾斜姿勢に変更させる。そして、基板２００は二次水洗部６６，６７に搬送される。
【００５７】
次いで、二次水洗部６６，６７において基板２００の表面が純水で洗浄される。さらに、エアーナイフ部６８に基板２００が搬送される。エアーナイフ部６８において基板２００にカーテン状の空気が噴射される。その後、基板２００がコンベア６９により搬送され、搬送装置（図示せず）により基板２００がカセットＣ内に収納される。処理済の複数の基板２００を収納するＣは、インデクサ部６０から搬出される。
【００５８】
次に、基板搬送装置１００，１０１の詳細について説明する。なお、基板搬送装置１００と基板搬送装置１０１とは、ほぼ同一構造を有する。以下、基板搬送装置１００について説明する。
【００５９】
図２は、基板搬送装置１００の横断面図である。図２において、水平面内で直交する２方向をＸ方向およびＹ方向とし、鉛直方向をＺ方向とする。
【００６０】
図２に示す基板搬送装置１００は、搬送室３０を有する。搬送室３０は、Ｙ方向に平行な一対の側壁３０ａ，３０ｃおよびＸ方向に平行な一対の側壁３０ｂ，３０ｄにより形成される。搬送室３０の側壁３０ａには基板搬入口３３が設けられ、搬送室３０の側壁３０ｂには基板搬出口３４が設けられる。
【００６１】
基板搬送装置１００は、基板搬入口３３から搬送室３０内にＸ方向に搬入された基板２００の方向を変更して基板搬出口３４からＹ方向に基板２００を搬出する。
【００６２】
搬送室３０内において、複数の搬送軸１０がＹ方向に沿って配置され、複数の搬送軸２０がＸ方向に沿って配置されている。搬送軸１０の各々には、複数の小型搬送ローラ１１がほぼ等間隔で設けられている。搬送軸２０の各々には、複数の大型搬送ローラ２１が等間隔で設けられている。
【００６３】
複数の搬送軸１０の一端近傍は、支持部材１２ａにより回転可能に支持され、複数の搬送軸１０の他端近傍は、支持部材１５ａにより回転可能に支持され、複数の搬送軸１０の一端には、マグネット円板８ａがそれぞれ取り付けられている。
【００６４】
複数の搬送軸２０の一端近傍は、支持部材１２ｂにより回転可能に支持され、複数の搬送軸２０の他端近傍は、支持部材１５ｂにより回転可能に支持され、複数の搬送軸２０の一端には、マグネット円板８ｂがそれぞれ取り付けられている。
【００６５】
搬送室３０の側壁３０ｄと周壁３１とで囲まれた空間には、複数の搬送軸１０を回転駆動するためのモータＭ１、ベルトＢ１および複数のマグネット円板７ａが設けられている。各マグネット円板７ａは、側壁３０ｄを介してマグネット円板８ａに対向するように配置されている。モータＭ１のシャフトと複数のマグネット円板７ａとの間にベルトＢ１が架け渡されており、モータＭ１のシャフトが回転することにより、複数のマグネット円板７ａが同一方向に回転する。
【００６６】
マグネット円板７ａが回転することによりマグネット円板８ａが回転する。それにより、搬送軸１０が、小型搬送ローラ１１とともに回転する。その結果、小型搬送ローラ１１上に支持された基板２００をＸ方向に搬送することが可能となる。マグネット円板７ａおよびマグネット円板８ａの構造の詳細については後述する。
【００６７】
搬送室３０の側壁３０ｃと周壁３２とで囲まれた空間には、複数の搬送軸２０を回転駆動するためのモータＭ２、ベルトＢ２および複数のマグネット円板７ｂが設けられている。各マグネット円板７ｂは、側壁３０ｃを介してマグネット円板８ｂに対向するように配置されている。モータＭ２のシャフトと複数のマグネット円板７ｂとの間にベルトＢ２が架け渡されており、モータＭ２のシャフトが回転することにより、複数のマグネット円板７ｂが同一方向に回転する。
【００６８】
マグネット円板７ｂが回転することによりマグネット円板８ｂが回転する。それにより、搬送軸２０が、大型搬送ローラ２１とともに回転する。その結果、大型搬送ローラ２１上に支持された基板２００をＹ方向に搬送することが可能となる。マグネット円板７ｂおよびマグネット円板８ｂの構造の詳細については後述する。
【００６９】
図３および図４は、図２の基板搬送装置１００のＡ−Ａ線断面図である。図３は、基板２００を傾斜姿勢で支持した状態を示し、図４は基板２００を水平姿勢で支持した状態を示す。
【００７０】
搬送軸１０の一端近傍が、支持部材１２ａにより支持台１３の上方に回転可能に支持される。搬送軸１０の他端が支持部材１５ａにより支持台１３の上方に回転可能に支持されている。
【００７１】
また、支持台１３の一端は、支持軸１３Ａにより回動可能に支持されている。支持台１３の他端は、シリンダ１６により上下動可能に支持されている。このシリンダ１６のピストン１６ａの先端が、支持台１３の下面に取り付けられている。
【００７２】
図３に示すように、シリンダ１６のピストン１６ａの突出量が増加した場合、支持台１３が支持軸１３Ａを中心として矢印Ｒ１０の方向に回動する。それにより、搬送軸１０が傾斜状態となる。この状態で、搬送軸１０の小型搬送ローラ１１の頂部が、搬送軸２０の大型搬送ローラ２１の頂部よりも上方に位置する。したがって、基板２００が小型搬送ローラ１１により傾斜姿勢で支持される。
【００７３】
また、図３に示すように、搬送室３０の側壁３０ｄの一部には、鉛直方向からやや傾斜した傾斜壁３０ｅが設けられている。マグネット円板８ａは、傾斜壁３０ｅの内面に平行に対向する。また、マグネット円板７ａは、傾斜壁３０ｅの外面に平行に対向するように、軸７６ａに取り付けられている。それにより、マグネット円板８ａが傾斜壁３０ｅを介してマグネット円板７ａに対向する。したがって、ベルトＢ１によりマグネット円板７ａが軸７６ａとともに回転すると、マグネット円板７ａとマグネット円板８ａとの間に働く磁力によりマグネット８ａが搬送軸１０とともに回転する。
【００７４】
図４に示すように、シリンダ１６のピストン１６ａの突出量が減少した場合、支持台１３が軸１３Ａを中心として矢印Ｒ１１の方向に回動する。それにより、搬送軸１０が水平姿勢となる。この状態では、基板２００の大型搬送ローラ２１の頂部が、搬送軸１０の小型搬送ローラ１１の頂部よりも上方に位置する。したがって、基板２００が大型搬送ローラ２１により水平姿勢で支持される。
【００７５】
この場合、搬送軸１０の一端に設けられたマグネット円板８ａが傾斜壁３０ｅから離れる方向へ移動する。それにより、マグネット円板７ａとマグネット円板８ａとの間の距離が大きくなり、マグネット円板７ａとマグネット円板８ａとの間に磁力が働かなくなる。したがって、ベルトＢ１によりマグネット円板７ａが回転した場合でも、マグネット円板８ａは回転しない。その結果、搬送軸１０および小型搬送ローラ１１が回転しない。
【００７６】
図５は、図２の基板搬送装置１００のＢ−Ｂ線断面図である。
搬送軸２０の一端近傍が支持部材１２ｂにより支持台１３Ｂの上方に回転可能に支持され、搬送軸２０の他端近傍が支持部材１５ｂにより支持台１３Ｂの上方に回転可能に支持されている。支持台１３Ｂは側壁３０ａ，３０ｃに水平状態で固定されている。それにより、搬送軸２０ｂは水平状態となっている。
【００７７】
マグネット円板８ｂは側壁３０ｃの内面に平行に対向する。また、マグネット円板７ｂは側壁３０ｃの外面に平行に対向するように軸７６ｂに取り付けられている。それにより、マグネット円板８ｂが側壁３０ｃを介してマグネット円板７ｂに平行に対向する。したがって、ベルトＢ２によってマグネット円板７ｂが軸７６ｂとともに回転すると、マグネット円板７ｂとマグネット円板８ｂとの間に働く磁力によりマグネット円板８ｂが搬送軸２０ｂとともに回転する。
【００７８】
次に、マグネット円板７ａおよびマグネット円板８ａの構成について図６に基づき説明する。図６は、マグネット円板の内部構造を示す図である。図６（ａ）は、マグネット円板の横断面図、図６（ｂ）は図６（ａ）のマグネット円板のＤ−Ｄ線断面図、図６（ｃ）は傾斜壁３０ｅを挟んで対向するマグネット円板の側面図である。
【００７９】
図６（ａ），（ｂ）に示すようにマグネット円板７ａの内部には、一面側にＳ極を有し他面側にＮ極を有する磁石７１と、一面側にＮ極を有し他面側にＳ極を有する磁石７２とが交互に円形に設けられている。マグネット円板８ａの構造はマグネット円板７ａの構造と同様である。
【００８０】
また、図６（ｂ）に示すように、マグネット円板７ａは、ボルト７７ａにより回転軸１０の端面に固定されている。
【００８１】
本発明の実施の形態において、マグネット円板７ａは、非磁性体で形成される。例えば、ＰＴＦＥ（四フッ化エチレン），ＰＣＴＦＥ（三フッ化エチレン）等のフッ素樹脂、ＰＣＶ（ポリ塩化ビニル）等の樹脂またはチタン、アルミニウム、ステンレス等の非磁性体の金属若しくは合金を用いることができる。また、上記の非磁性体の金属および合金は例示であって、これに限定されるものではなく、他の非磁性体を用いることもできる。
【００８２】
図６（ｃ）に示すように、傾斜壁３０ｅの一面にマグネット円板７ａが対向し、傾斜壁３０ｅの他面にマグネット円板８ａが対向する。
【００８３】
この場合、図２のモータＭ１による回転運動が、ベルトＢ１を介して軸７６ａに伝達され、マグネット円板７ａが回転する。マグネット円板７ａの内部の磁石７１とマグネット円板８ａの内部の磁石８２とが磁石により引き合い、マグネット円板７ａの内部の磁石７２とマグネット円板８ａの内部の磁石８１とが磁石により引き合う。それにより、マグネット円板８ａが搬送軸１０とともに回転する。
【００８４】
なお、傾斜壁３０ｅのマグネット円板７ａとマグネット円板８ａとで挟まれた部分は、マグネット円板７ａとマグネット円板８ａとの間の磁力を強く作用させるために、他の部分の側壁３０ｄよりも厚みが薄くなっている。
【００８５】
次に、マグネット円板７ａとマグネット円板８ａとの間の回転力の伝達および遮断について説明する。
【００８６】
図７（ａ）はマグネット円板７ａの回転力がマグネット円板８ａに伝達される状態を示す図であり、図７（ｂ）はマグネット円板７ａの回転力がマグネット円板８ａに伝達されない状態を示す図である。
【００８７】
図３に示したように、搬送軸１０が傾斜した状態では、図７（ａ）に示すように、マグネット円板７ａとマグネット円板８ａとの間の距離が、マグネット円板７ａの磁石７１とマグネット円板８ａの磁石８２との間に引力が働く限界の距離およびマグネット円板７ａの磁石７２とマグネット円板８ａの磁石８１との間に引力が働く限界の距離よりも短いため、マグネット円板７ａの回転力がマグネット円板８ａに確実に伝達される。
【００８８】
図４に示したように、搬送軸１０が水平の状態では、マグネット円板７ａとマグネット円板８ａとの間の距離が、マグネット円板７ａの磁石７１とマグネット円板８ａの磁石８２との間に引力が働く限界の距離およびマグネット円板７ａの磁石７２とマグネット円板８ａの磁石８１との間に引力が働く限界の距離よりも長くなるため、マグネット円板７ａの回転力がマグネット円板８ａに伝達されない。
【００８９】
このように、本発明に係る実施の形態においては、従来の基板搬送装置と異なり、モータＭ１，Ｍ２およびベルトＢ１，Ｂ２とともに、傾斜姿勢から水平姿勢への変更をする必要がなく、構造が簡単にでき、省スペース化および低コスト化を実現することができる。
【００９０】
図８は、図２〜図５の基板搬送装置１００の動作を説明するための斜視図である。
【００９１】
図８（ａ）は搬送軸１０が傾斜した状態を示し、図８（ｂ）は搬送軸１０の傾斜途中の状態を示し、図８（ｃ）は搬送軸１０が水平になった状態を示す。
【００９２】
図８（ａ）に示すように、シリンダ１６のピストン１６ａの突出量が最大の場合、複数の搬送軸１０は、Ｘ−Ｙ平面（水平面）より角度θの傾斜した状態で支持される。この場合、複数の搬送軸１０が回転することにより基板２００が搬送軸１０の小型搬送ローラ１１によりＸ方向に搬入される。なお、図８においては、小型搬送ローラ１１の図示を省略している。
【００９３】
基板２００が所定の位置まで搬送されると、図８（ｂ）に示すように、シリンダ１６のピストン１６ａの突出量が徐々に減少し、複数の搬送軸１０が角度θ傾斜した状態からＸ−Ｙ平面に平行な状態へ移行する。
【００９４】
図８（ｃ）に示すように、シリンダ１６のピストン１６ａの突出量が最小になると、複数の搬送軸１０がＸ−Ｙ平面に平行な状態になる。それにより、搬送軸１０の小型搬送ローラ１１の外周面の頂部が、大型搬送ローラ２１の外周面の頂部よりも下方に位置する。その結果、搬送軸１０の小型搬送ローラ１１により支持されていた基板２００が、大型搬送ローラ２１により支持される。したがって、大型搬送ローラ２１が回転することにより基板２００がＹ方向に搬出される。
【００９５】
本実施の形態に係る基板搬送装置１０１では、モータＭ１，Ｍ２の回転力を搬送軸１０，２０に伝達するために側壁３０ａ〜３０ｄに孔を設ける必要がないので、処理液を含む雰囲気が搬送室３０の外部に漏洩することが防止される。
【００９６】
また、本実施の形態に係る基板搬送装置１００においては、モータＭ１，Ｍ２の回転力を搬送軸１０，２０に伝達するための伝達機構が搬送室３０外に設けられているため、伝達機構から発生する磨耗粉が基板２００に付着することが防止される。さらに、基板搬送装置１００により基板２００の姿勢が変更される際に、マグネット円板７ａ，７ｂ，８ａ，８ｂによる振動も生じない。したがって、基板２００の均一な処理が妨げられない。
【００９７】
さらに、モータＭ１，Ｍ２の回転力を搬送軸１０，２０に伝達するための伝達機構が搬送室３０外に設けられているので、潤滑剤を収納する収容器を搬送室３０内に設ける必要がなく、搬送室３０内への潤滑剤の補給も必要としない。そのため、部品点数を削減できるとともに搬送室３０内の構造を単純化できる。したがって、基板搬送装置１０１の小型化および省スペース化を実現することができる。
【００９８】
また、傾斜姿勢において基板２００の全域が小型搬送ローラ１１により支持され、水平姿勢において基板２００の全域が大型搬送ローラ２１により支持される。それにより、基板２００に自重による撓みが発生することが防止されるとともに、基板２００に部分的に過度な負荷が加えられることが防止される。
【００９９】
また、全ての小型搬送ローラ１１および大型搬送ローラ２１に回転力が伝達されるので、基板２００の搬送不良を防止することができる。したがって、基板２００を変形および破損させることなく所定の角度のθの傾斜姿勢から水平姿勢に変更させるとともに基板２００の搬送方向をＸ方向からＹ方向に方向転換させることができる。
【０１００】
本実施の形態に係る基板搬送装置１００では、基板２００に部分的に過度の負荷を加えることなく、基板２００の搬送方向をＸ方向からＹ方向に方向転換させることができる。
【０１０１】
本実施の形態においては、側壁３０ａ〜３０ｄが壁部に相当し、小型搬送ローラ１１が第１のローラ部材に相当し、大型搬送ローラ２１が第２のローラ部材に相当し、シリンダ１６およびピストン１６ａが状態変更手段に相当し、モータＭ１，Ｍ２およびベルトＢ１，Ｂ２が回転駆動手段に相当し、マグネット円板７ａ，７ｂ，８ａ，８ｂが伝達手段に相当し、マグネット円板７ａ，７ｂが第１の伝達部材に相当し、マグネット円板８ａ，８ｂが第２の伝達部材に相当し、磁石７１，８１と磁石７２，８２とが、複数の第１の磁石および複数の第２の磁石に相当する。
【０１０２】
（第２の実施の形態）
第２の実施の形態に係る基板搬送装置は、水平姿勢搬入された基板の搬送方向を変更するとともに水平姿勢で基板を搬出する。以下、第２の実施の形態に係る基板処理装置の基板搬送装置１００ａについて説明する。
【０１０３】
図９は、基板搬送装置１００ａの横断面図である。図９において、水平面内で直交する２方向をＸ方向およびＹ方向とし、鉛直方向をＺ方向とする。
【０１０４】
図９に示す基板搬送装置１００ａは、搬送室３０を有する。搬送室３０は、Ｙ方向に平行な一対の側壁３０ａ，３０ｃおよびＸ方向に平行な一対の側壁３０ｂ，３０ｄにより形成される。搬送室３０の側壁３０ａには基板搬入口３３が設けられ、搬送室３０の側壁３０ｂには基板搬出口３４が設けられる。
【０１０５】
基板搬送装置１００ａは、基板搬入口３３から搬送室３０内にＸ方向に搬入された基板２００の方向を変更して基板搬出口３４からＹ方向に基板２００を搬出する。
【０１０６】
搬送室３０内において、複数の搬送軸１０がＹ方向に沿って配置され、複数の搬送軸２０がＸ方向に沿って配置されている。搬送軸１０の各々には、複数の小型搬送ローラ１１がほぼ等間隔で設けられている。搬送軸２０の各々には、複数の大型搬送ローラ２１が等間隔で設けられている。
【０１０７】
複数の搬送軸１０の一端は、側壁３０ｄに回転可能に支持され、複数の搬送軸１０の他端は、側壁３０ｂに回転可能に支持され、複数の搬送軸１０の一端には、マグネット円板８ａがそれぞれ取り付けられている。
【０１０８】
複数の搬送軸２０の一端近傍は、支持部材１２ｃにより回転可能に支持され、複数の搬送軸２０の他端近傍は、支持部材１５ｃにより回転可能に支持され、支持部材１２ｃおよび支持部材１５ｃは、支持部材１２ｄおよび支持部材１５ｄにより支持される。複数の搬送軸２０の一端には、マグネット円板８ｂがそれぞれ取り付けられている。
【０１０９】
搬送室３０の側壁３０ｄと周壁３１とで囲まれた空間には、複数の搬送軸１０を回転駆動するためのモータＭ１、ベルトＢ１および複数のマグネット円板７ａが設けられている。各マグネット円板７ａは、側壁３０ｄを介してマグネット円板８ａに対向するように配置されている。モータＭ１のシャフトと複数のマグネット円板７ａとの間にベルトＢ１が架け渡されており、モータＭ１のシャフトが回転することにより、複数のマグネット円板７ａが同一方向に回転する。
【０１１０】
マグネット円板７ａが回転することによりマグネット円板８ａが回転する。それにより、搬送軸１０が、小型搬送ローラ１１とともに回転する。その結果、小型搬送ローラ１１上に支持された基板２００をＸ方向に搬送することが可能となる。
【０１１１】
搬送室３０の側壁３０ｃと周壁３２とで囲まれた空間には、複数の搬送軸２０を回転駆動するためのモータＭ２、ベルトＢ２および複数のマグネット円板７ｂが設けられている。各マグネット円板７ｂは、側壁３０ｃを介してマグネット円板８ｂに対向するように配置されている。モータＭ２のシャフトと複数のマグネット円板７ｂとの間にベルトＢ２が架け渡されており、モータＭ２のシャフトが回転することにより、複数のマグネット円板７ｂが同一方向に回転する。
【０１１２】
マグネット円板７ｂが回転することによりマグネット円板８ｂが回転する。それにより、搬送軸２０が、大型搬送ローラ２１とともに回転する。その結果、大型搬送ローラ２１上に支持された基板２００をＹ方向に搬送することが可能となる。
【０１１３】
図１０および図１１は、図９の基板搬送装置１００ａのＣ−Ｃ線断面図である。図１０は基板２００が小型搬送ローラ１１により支持された状態を示し、図１１は基板２００が大型搬送ローラ２１により支持された状態を示す。
【０１１４】
搬送軸２０は、支持部材１５ｃにより支持されている。支持部材１５ｃの一端近傍が、支持部材１２ｄにより支持台１３の上方に回転可能に支持される。支持部材１５ｃの他端が支持部材１５ｄにより支持台１３の上方に回転可能に支持されている。
【０１１５】
また、支持台１３の一端は、支持軸１３Ａにより回動可能に支持されている。支持台１３の他端は、シリンダ１６により上下動可能に支持されている。このシリンダ１６のピストン１６ａの先端が、支持台１３の下面に取り付けられている。
【０１１６】
図１０に示すように、シリンダ１６のピストン１６ａの突出量が減少した場合、支持台１３が支持軸１３Ａを中心として矢印Ｒ１１の方向に回動する。それにより、支持部材１５ｃが傾斜状態となる。この状態で、搬送軸１０の小型搬送ローラ１１の頂部が、搬送軸２０の大型搬送ローラ２１の頂部よりも上方に位置する。したがって、基板２００が小型搬送ローラ１１により水平姿勢で支持される。
【０１１７】
また、図１０に示すように、マグネット円板８ａは、搬送室３０の側壁３０ｄの内面に平行に対向する。また、マグネット円板７ａは、側壁３０ｄの外面に平行に対向するように、軸７６ａに取り付けられている。それにより、マグネット円板８ａが側壁３０ｄを介してマグネット円板７ａに対向する。したがって、ベルトＢ１によりマグネット円板７ａが軸７６ａとともに回転すると、マグネット円板７ａとマグネット円板８ａとの間に働く磁石によりマグネット円板８ａが搬送軸１０とともに回転する。
【０１１８】
図１１に示すように、シリンダ１６のピストン１６ａの突出量が増加した場合、支持台１３が軸１３Ａを中心として矢印Ｒ１０の方向に回動する。それにより、支持部材１５ｃが水平姿勢となる。この状態では、基板２００の大型搬送ローラ２１の頂部が、搬送軸１０の小型搬送ローラ１１の頂部よりも上方に位置する。したがって、基板２００が大型搬送ローラ２１により水平姿勢で支持される。
【０１１９】
図１２および図１３は、図９の基板搬送装置１００ａのＤ−Ｄ線断面図である。図１２は基板２００が小型搬送ローラ１１により支持された状態を示し、図１３は基板２００が大型搬送ローラ２１により支持された状態を示す。
【０１２０】
搬送軸２０の一端近傍が支持部材１２ｃにより支持台１３Ｂの上方に回転可能に支持され、搬送軸２０の他端近傍が支持部材１５ｃにより支持台１３Ｂの上方に回転可能に支持されている。支持台１３Ｂの下方にシリンダ１６が設けられている。
【０１２１】
マグネット円板８ｂは側壁３０ｃの内面に平行に対向する。また、マグネット円板７ｂは側壁３０ｃの外面に平行に対向するように軸７６ｂに取り付けられている。
【０１２２】
図１２に示すように、シリンダ１６のピストン１６ａの突出量が減少した場合、マグネット円板７ｂとマグネット円板８ｂとの間の距離が大きくなり、マグネット円板７ｂとマグネット円板８ｂとの間に磁力が働かなくなる。したがって、ベルトＢ２によりマグネット円板７ｂが回転した場合でも、マグネット円板８ｂは回転しない。その結果、搬送軸２０および大型搬送ローラ２１が回転しない。
【０１２３】
一方、図１３に示すように、シリンダ１６のピストン１６ａの突出量が増加した場合、マグネット円板８ｂが側壁３０ｃを介してマグネット円板７ｂに平行に対向する。したがって、ベルトＢ２によってマグネット円板７ｂが軸７６ｂとともに回転すると、マグネット円板７ｂとマグネット円板８ｂとの間に働く磁力によりマグネット円板８ｂが搬送軸２０ｂおよび大型搬送ローラ２１とともに回転する。
【０１２４】
本実施の形態に係るマグネット円板７ａ、７ｂ，８ａ，８ｂの内部構造については、第１の実施の形態に係るマグネット円板７ａ，７ｂ，８ａ，８ｂと同様である。
【０１２５】
次に、本実施の形態に係る基板搬送装置１００ａのマグネット円板７ｂとマグネット円板８ｂとの間の回転力の伝達および遮断について説明する。
【０１２６】
図１４（ａ）はマグネット円板７ｂの回転力がマグネット円板８ｂに伝達される状態を示す図であり、図１４（ｂ）はマグネット円板７ｂの回転力がマグネット円板８ｂに伝達されない状態を示す図である。
【０１２７】
図１０および図１２に示したように、支持部材１５ｃが傾斜した状態では、図１４（ａ）に示すように、マグネット円板７ｂとマグネット円板８ｂとが上下方向にずれて配置されている。したがって、マグネット円板７ｂとマグネット円板８ｂとの間の距離が、マグネット円板７ｂの磁石７１とマグネット円板８ｂの磁石８２との間に引力が働く限界の距離およびマグネット円板７ｂの磁石７２とマグネット円板８ｂの磁石８１との間に引力が働く限界の距離よりも長くなるため、マグネット円板７ｂの回転力がマグネット円板８ｂに伝達されない。
【０１２８】
図１１および図１３に示したように、支持部材１５ｃが水平の状態では、図１４（ｂ）に示すように、マグネット円板７ｂとマグネット円板８ｂとが対向可能な位置に配置されている。したがって、マグネット円板７ｂとマグネット円板８ｂとの間の距離が、マグネット円板７ｂの磁石７１とマグネット円板８ｂの磁石８２との間に引力が働く限界の距離およびマグネット円板７ｂの磁石７２とマグネット円板８ｂの磁石８１との間に引力が働く限界の距離よりも短くなるため、マグネット円板７ｂの回転力がマグネット円板８ｂに確実に伝達される。
【０１２９】
本実施の形態に係る基板搬送装置１００ａでは、モータＭ１，Ｍ２の回転力を搬送軸１０，２０に伝達するために側壁３０ａ〜３０ｄに孔を設ける必要がないので、処理液を含む雰囲気が搬送室３０の外部に漏洩することが防止される。
【０１３０】
また、本実施の形態に係る基板搬送装置１００ａにおいては、モータＭ１，Ｍ２の回転力を搬送軸１０，２０に伝達するための伝達機構が搬送室３０外に設けられているため、伝達機構から発生する磨耗粉が基板２００に付着することが防止される。さらに、基板搬送装置１００ａにより基板２００の姿勢が変更される際に、マグネット円板７ａ，７ｂ，８ａ，８ｂによる振動も生じない。したがって、基板２００の均一な処理が妨げられない。
【０１３１】
さらに、モータＭ１，Ｍ２の回転力を搬送軸１０，２０に伝達するための伝達機構が搬送室３０外に設けられているので、潤滑剤を収納する収容器を搬送室３０内に設ける必要がなく、搬送室３０内への潤滑剤の補給も必要としない。そのため、部品点数を削減できるとともに搬送室３０内の構造を単純化できる。したがって、基板搬送装置１００ａの小型化および省スペース化を実現することができる。
【０１３２】
また、水平姿勢において基板２００の全域が小型搬送ローラ１１または大型搬送ローラ２１により支持される。それにより、基板２００に自重による撓みが発生することが防止されるとともに、基板２００に部分的に過度な負荷が加えられることが防止される。
【０１３３】
また、全ての小型搬送ローラ１１および大型搬送ローラ２１に回転力が伝達されるので、基板２００の搬送不良を防止することができる。したがって、基板２００を変形および破損させることなく基板の搬送方向をＸ方向からＹ方向に方向転換させることができる。
【０１３４】
本実施の形態においては、側壁３０ａ〜３０ｄが壁部に相当し、小型搬送ローラ１１が第１のローラ部材に相当し、大型搬送ローラ２１が第２のローラ部材に相当し、シリンダ１６およびピストン１６ａが状態変更手段に相当し、モータＭ１，Ｍ２およびベルトＢ１，Ｂ２が回転駆動手段に相当し、マグネット円板７ａ，７ｂ，８ａ，８ｂが伝達手段に相当し、マグネット円板７ａ，７ｂが第１の伝達部材に相当し、マグネット円板８ａ，８ｂが第２の伝達部材に相当し、磁石７１，８１と磁石７２，８２とが、複数の第１の磁石および複数の第２の磁石に相当する。
【０１３５】
（第３の実施の形態）
第３の実施の形態に係る基板搬送装置は、水平姿勢で搬入された基板の姿勢を変更して傾斜姿勢で基板を搬出する。以下、第３の実施の形態に係る基板処理装置の基板搬送装置１００ｂについて説明する。
【０１３６】
図１５は、基板搬送装置１００ｂの横断面図である。図１５において、水平面内で直交する２方向をＸ方向およびＹ方向とし、鉛直方向をＺ方向とする。
【０１３７】
図１５に示す基板搬送装置１００ｂは、搬送室３０を有する。搬送室３０は、Ｙ方向に平行な一対の側壁３０ａ，３０ｃおよびＸ方向に平行な一対の側壁３０ｂ，３０ｄにより形成される。搬送室３０の側壁３０ａには基板搬入口３３が設けられ、搬送室３０の側壁３０ｃには基板搬出口３４が設けられる。
【０１３８】
基板搬送装置１００ｂは、基板搬入口３３から搬送室３０内に水平姿勢で搬入された基板２００の姿勢を変更して基板搬出口３４から傾斜姿勢で基板２００を搬出する。
【０１３９】
搬送室３０内において、複数の搬送軸１０ｂがＹ方向に沿って配置され、複数の搬送軸２０ｂもＹ方向に沿って配置されている。搬送軸１０ｂの各々には、複数の搬送ローラ１１ｂがほぼ等間隔で設けられている。搬送軸２０ｂの各々には、複数の搬送ローラ２１ｂが等間隔で設けられている。
【０１４０】
複数の搬送軸１０ｂの一端近傍は、支持部材１２ｆにより回転可能に支持され、複数の搬送軸１０ｂの他端近傍は、支持部材１５ｆにより回転可能に支持され、複数の搬送軸１０ｂの一端には、マグネット円板８ａがそれぞれ取り付けられている。
【０１４１】
複数の搬送軸２０ｂの一端近傍は、支持部材１２ｇにより回転可能に支持され、複数の搬送軸２０ｂの他端近傍は、支持部材１５ｇにより回転可能に支持され、複数の搬送軸２０ｂの他端には、マグネット円板８ｂがそれぞれ取り付けられている。
【０１４２】
搬送室３０の側壁３０ｄと周壁３１とで囲まれた空間には、複数の搬送軸１０ｂを回転駆動するためのモータＭ１、ベルトＢ１および複数のマグネット円板７ａが設けられている。各マグネット円板７ａは、側壁３０ｄを介してマグネット円板８ａに対向するように配置されている。モータＭ１のシャフトと複数のマグネット円板７ａとの間にベルトＢ１が架け渡されており、モータＭ１のシャフトが回転することにより、複数のマグネット円板７ａが同一方向に回転する。
【０１４３】
マグネット円板７ａが回転することによりマグネット円板８ａが回転する。それにより、搬送軸１０ｂが、搬送ローラ１１ｂとともに回転する。その結果、搬送ローラ１１ｂ上に支持された基板２００を傾斜姿勢で搬送することが可能となる。なお、マグネット円板７ａ，８ａの構造の詳細は、第１の実施の形態に係るマグネット円板７ａ，８ａの構造と同様である。
【０１４４】
搬送室３０の側壁３０ｂと周壁３２とで囲まれた空間には、複数の搬送軸２０ｂを回転駆動するためのモータＭ２、ベルトＢ２および複数のマグネット円板７ｂが設けられている。各マグネット円板７ｂは、側壁３０ｂを介してマグネット円板８ｂに対向するように配置されている。モータＭ２のシャフトと複数のマグネット円板７ｂとの間にベルトＢ２が架け渡されており、モータＭ２のシャフトが回転することにより、複数のマグネット円板７ｂが同一方向に回転する。
【０１４５】
マグネット円板７ｂが回転することによりマグネット円板８ｂが回転する。それにより、搬送軸２０ｂが、搬送ローラ２１ｂとともに回転する。その結果、搬送ローラ２１ｂ上に支持された基板２００を水平姿勢で搬送することが可能となる。なお、マグネット円板７ｂ，８ｂの構造の詳細は、第１の実施の形態に係るマグネット円板７ｂ，８ｂの構造と同様である。
【０１４６】
図１６および図１７は、図１５の基板搬送装置１００ｂのＥ−Ｅ線断面図である。図１６は、基板２００を搬送ローラ２１ｂで支持した状態を示し、図１７は基板２００を搬送ローラ１１ｂで支持した状態を示す。
【０１４７】
搬送軸２０ｂの一端近傍が、支持部材１２ｅにより支持台１３の上方に回転可能に支持される。搬送軸２０ｂの他端が支持部材１５ｅにより支持台１３の上方に回転可能に支持されている。
【０１４８】
また、支持台１３の一端は、支持軸１３Ａにより回動可能に支持されている。支持台１３の他端は、シリンダ１６により上下動可能に支持されている。このシリンダ１６のピストン１６ａの先端が、支持台１３の下面に取り付けられている。
【０１４９】
図１６に示すように、シリンダ１６のピストン１６ａの突出量が減少した場合、支持台１３が支持軸１３Ａを中心として矢印Ｒ１１の方向に回動する。それにより、支持部材１２ｆが水平状態となる。この状態で、搬送軸２０ｂの搬送ローラ２１ｂの頂部が、搬送軸１０ｂの搬送ローラ１１ｂの頂部よりも上方に位置する。したがって、基板２００が搬送ローラ２１ｂにより水平姿勢で支持される。
【０１５０】
この場合、搬送軸２０ｂの一端に設けられたマグネット円板８ｂとマグネット円板７ｂとが側壁３０ｂを介して対抗し、マグネット円板７ｂとマグネット円板８ｂとの間に磁力が働く。したがって、ベルトＢ２によりマグネット円板７ｂが回転した場合、マグネット円板８ｂが回転し、搬送軸２０ｂとともに搬送ローラ２１ｂが回転する。
【０１５１】
また、図１７に示すように、シリンダ１６のピストン１６ａの突出量が増加した場合、支持台１３が軸１３Ａを中心として矢印Ｒ１０の方向に回動する。それにより、支持部材１２ｆが傾斜姿勢となる。この状態では、搬送軸２０ｂの搬送ローラ２１ｂの頂部が、搬送軸１０ｂの搬送ローラ１１ｂの頂部よりも下方に位置する。したがって、基板２００が搬送ローラ１１ｂにより傾斜姿勢で支持される。
【０１５２】
この場合、搬送軸１０ｂの一端に設けられたマグネット円板８ａとマグネット円板７ａとが側壁３０ｄを介して対抗し、マグネット円板７ａとマグネット円板８ａとの間に磁力が働く。したがって、ベルトＢ１によりマグネット円板７ａが回転した場合、マグネット円板８ａが回転し、搬送軸１０ｂとともに搬送ローラ１１ｂが回転する。
【０１５３】
本実施の形態に係る基板搬送装置１００ｂでは、モータＭ１，Ｍ２の回転力を搬送軸１０，２０に伝達するために側壁３０ａ〜３０ｄに孔を設ける必要がないので、処理液を含む雰囲気が搬送室３０の外部に漏洩することが防止される。
【０１５４】
また、本実施の形態に係る基板搬送装置１００ｂにおいては、モータＭ１，Ｍ２の回転力を搬送軸１０ｂ，２０ｂに伝達するための伝達機構が搬送室３０外に設けられているため、伝達機構から発生する磨耗粉が基板２００に付着することが防止される。さらに、基板搬送装置１００ｂにより基板２００の姿勢が変更される際に、マグネット円板７ａ，７ｂ，８ａ，８ｂによる振動も生じない。したがって、基板２００の均一な処理が妨げられない。
【０１５５】
さらに、モータＭ１，Ｍ２の回転力を搬送軸１０ｂ，２０ｂに伝達するための伝達機構が搬送室３０外に設けられているので、潤滑剤を収納する収容器を搬送室３０内に設ける必要がなく、搬送室３０内への潤滑剤の補給も必要としない。そのため、部品点数を削減できるとともに搬送室３０内の構造を単純化できる。したがって、基板搬送装置１００ｂの小型化および省スペース化を実現することができる。
【０１５６】
また、傾斜姿勢において基板２００の全域が搬送ローラ１１ｂにより支持され、水平姿勢において基板２００の全域が搬送ローラ２１ｂにより支持される。それにより、基板２００に自重による撓みが発生することが防止されるとともに、基板２００に部分的に過度な負荷が加えられることが防止される。
【０１５７】
また、全ての搬送ローラ１１ｂおよび搬送ローラ２１ｂに回転力が伝達されるので、基板２００の搬送不良を防止することができる。したがって、基板２００を変形および破損させることなく水平姿勢から所定の角度のθの傾斜姿勢に変更させることができる。
【０１５８】
なお、本実施の形態においては、支持部材１２ｆを水平面に対して支持軸１３Ａを中心として回動させることとしたが、支持部材１２ｆを上下に平行移動させてもよい。
【０１５９】
本実施の形態においては、側壁３０，３０ａ〜３０ｄが壁部に相当し、小型搬送ローラ１１が第１のローラ部材に相当し、大型搬送ローラ２１が第２のローラ部材に相当し、シリンダ１６およびピストン１６ａが状態変更手段に相当し、モータＭ１，Ｍ２およびベルトＢ１，Ｂ２が回転駆動手段に相当し、マグネット円板７ａ，７ｂ，８ａ，８ｂが伝達手段に相当し、マグネット円板７ａ，７ｂが第１の伝達部材に相当し、マグネット円板８ａ，８ｂが第２の伝達部材に相当し、磁石７１，８１と磁石７２，８２とが、複数の第１の磁石および複数の第２の磁石に相当する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施の形態に係る基板搬送装置を備えた基板処理装置を示す模式的平面図である。
【図２】基板搬送装置の横断面図である。
【図３】図２の基板搬送装置のＡ−Ａ線断面図である。
【図４】図２の基板搬送装置のＡ−Ａ線断面図である。
【図５】図２の基板搬送装置のＢ−Ｂ線断面図である。
【図６】マグネット円板の内部構造を示す図である。
【図７】（ａ）はマグネット円板の回転力がマグネット円板に伝達される状態を示す図であり、（ｂ）はマグネット円板の回転力がマグネット円板に伝達されない状態を示す図である。
【図８】図２〜図５の基板搬送装置の動作を説明するための斜視図である。
【図９】基板搬送装置の横断面図である。
【図１０】図９の基板搬送装置のＡ−Ａ線断面図である。
【図１１】図９の基板搬送装置のＡ−Ａ線断面図である。
【図１２】図９の基板搬送装置のＢ−Ｂ線断面図である。
【図１３】図９の基板搬送装置のＢ−Ｂ線断面図である。
【図１４】（ａ）はマグネット円板の回転力がマグネット円板に伝達される状態を示す図であり、（ｂ）はマグネット円板の回転力がマグネット円板に伝達されない状態を示す図である。
【図１５】基板搬送装置の横断面図である。
【図１６】図１５の基板搬送装置のＡ−Ａ線断面図である。
【図１７】図１５の基板搬送装置のＡ−Ａ線断面図である。
【図１８】基板処理装置の全長を短縮して省スペース化を図った基板処理装置の一例を示す図である。
【図１９】図１８の基板搬送装置の横断面図である。
【図２０】図１９の基板搬送装置のＡ−Ａ線断面図である。
【符号の説明】
７ａ，７ｂ，８ａ，８ｂ マグネット円板
１０，２０ 搬送軸
１１ 小型搬送ローラ
７１，７２，８１，８２ 磁石
１２ａ，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ，１２ｅ，１２ｆ，１２ｇ 支持部材
１３ 支持台
１３Ａ 支持軸
１５ａ，１５ｂ，１５ｃ，１５ｄ，１５ｅ，１５ｆ，１５ｇ 支持部材
１６ シリンダ
１６ａ ピストン
２１ 大型搬送ローラ
３０ａ，３０ｂ，３０ｃ，３０ｄ 側壁
３１，３２ 周壁
１００，１０１ 基板搬送装置
２００ 基板
５００ 基板処理装置
Ｂ１，Ｂ２ ベルト
Ｍ１，Ｍ２ モータ

Claims (9)

1. 基板を搬送する基板搬送装置であって、
   壁部を有する搬送室と、
   前記搬送室内に回転可能に設けられ、基板を支持する第１のローラ部材と、
   前記第１のローラ部材を移動または傾斜させることにより前記第１のローラ部材を第１の状態および第２の状態に変更する状態変更手段と、
   前記搬送室外に設けられ、回転力を発生する回転駆動手段と、
   前記回転駆動手段により発生された回転力を磁力により前記第１のローラ部材に伝達する伝達手段と、
   前記搬送室内に回転可能に設けられ、基板を支持する第２のローラ部材とを備え、
   前記伝達手段は、
   前記搬送室外において前記壁部に対向するように配置され、前記回転駆動手段により発生された回転力により回転する第１の伝達部材と、
   前記搬送室内において前記第１のローラ部材とともに回転可能に設けられた第２の伝達部材とを含み、
   前記第１のローラ部材が前記第１の状態にある場合に前記第１の伝達部材と前記第２の伝達部材との間で回転力が伝達する第１の位置に前記第２の伝達部材があり、前記第１のローラ部材が前記第２の状態にある場合に前記第１の伝達部材と前記第２の伝達部材との間で回転力が伝達しない第２の位置に前記第２の伝達部材があり、
   前記第１のローラ部材が前記第１の状態にある場合に基板が前記第１のローラ部材上に支持されるように前記第１のローラの頂部が前記第２のローラの頂部よりも上方に位置し、前記第１のローラ部材が前記第２の状態にある場合に基板が前記第２のローラ上に支持されるように前記第２のローラの頂部が前記第１のローラの頂部よりも上方に位置することを特徴とする基板搬送装置。
2. 前記第２の伝達部材は、前記第１の位置で前記壁部を介して前記第１の伝達部材に対向し、前記第２の位置で前記第１の位置に比べて前記第１の伝達部材から離れることを特徴とする請求項１記載の基板搬送装置。
3. 前記第１の状態は前記第１のローラ部材が水平面に対して第１の角度をなす状態であり、前記第２の状態は前記第１のローラ部材が水平面に対して前記第１の角度と異なる第２の角度をなす状態であることを特徴とする請求項２記載の基板搬送装置。
4. 前記第１のローラ部材と前記第２のローラ部材とは、互いに交差するように設けられたことを特徴とする請求項２または３に記載の基板搬送装置。
5. 前記第１のローラ部材と前記第２のローラ部材とは、互いに略平行に設けられたことを特徴とする請求項３または４に記載の基板搬送装置。
6. 前記第１の伝達部材は、前記壁部に対向する第１の面および第１の回転軸を有するとともに、前記第１の回転軸を中心とする円周に沿って配置された複数の第１の磁石を内蔵し、前記第２の伝達部材は、前記壁部に対向可能な第２の面および第２の回転軸を有するとともに、前記第２の回転軸を中心とする円周に沿って配置された複数の第２の磁石を内蔵することを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の基板搬送装置。
7. 前記複数の第１の磁石は、前記第１の面にＮ極およびＳ極が交互に形成されるように等ピッチで配置され、前記複数の第２の磁石は、前記第２の面にＮ極およびＳ極が交互に形成されるように前記複数の第１の磁石と同じピッチで配置されたことを特徴とする請求項６記載の基板搬送装置。
8. 前記第１の伝達部材の前記複数の第１の磁石は非磁性体部材に内蔵され、前記第２の伝達部材の前記複数の第２の磁石は非磁性体部材に内蔵されることを特徴とする請求項６または７のいずれかに記載の基板処理装置。
9. 前記第２の伝達部材の非磁性体部材の少なくとも外周面は、樹脂からなることを特徴とする請求項８記載の基板処理装置。

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