KR101254697B1

KR101254697B1 - 기판 습식처리용 베스

Info

Publication number: KR101254697B1
Application number: KR1020060124936A
Authority: KR
Inventors: 정인석; 황인형; 서봉규
Original assignee: 주식회사 케이씨텍
Priority date: 2006-12-08
Filing date: 2006-12-08
Publication date: 2013-04-15
Also published as: KR20080053028A

Abstract

본 발명은 기판 습식처리용 베스에 관한 것으로, 기판이송방향을 따라 병렬로 설치되어 기판을 일방향으로 이송하는 복수의 이송축과, 상기 이송축에 지지되어 일방향으로 수평이송되는 기판에 대하여 습식처리가 진행되는 처리존을 포함하는 기판 습식처리용 베스에 있어서, 상기 처리존의 양측 경계에 설치되어 상기 처리존을 밀폐하며 상기 이송축의 양단을 회전가능하게 지지하는 측벽부를 포함하는 기판 습식처리용 베스를 제공한다. 본 발명에 의하면, 이송축이 인베스타입의 측벽부에 회동가능하게 지지되므로 장비를 간소화 할 수 있어 공간활용도를 극대화할 수 있는 효과가 있다.

기판, 습식처리, 베스, 인베스타입, 측벽부

Description

기판 습식처리용 베스{Bath for wet treating glass substrate}

도 1은 종래 접촉식 구동방식이 적용된 베스의 개략적인 구성을 나타낸 정면구성도이다.

도 2는 도 1에 도시된 베스의 이송축 구동구조를 개략적으로 나타낸 평면구성도이다.

도 3은 본 발명에 따른 기판 습식처리용 베스를 개략적으로 나타낸 일실시 정면 구성도이다.

도 4는 도 3에 도시된 기판 습식처리용 베스의 측벽부를 나타낸 일실시 분리 사시도이다.

*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명*

101 : 처리존 102 : 구동존

103 : 설비존 104 : 연장단부

110 : 이송축 120 : 습식처리수단

200 : 측벽부 210 : 베이스블럭

211 : 제1단차 212 : 제2단차

220 : 서포트블럭 221 : 베어링

230 : 이너월 240 : 플레이트커버

250 : 워터월

본 발명은 기판 습식처리용 베스에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 기판을 일방향으로 이송하며 습식처리하는 습식처리용 베스에 관한 것이다.

일반적으로 기판에 대하여 다양한 종류의 습식처리 예컨데 식각, 박리, 세정 및 현상 공정 등의 습식처리를 수행하는 습식처리장비는 일방향으로 수평이송되는 기판을 일측으로 입고받아 그 내부를 통과시키며 다양한 종류의 습식처리를 수행하고 타측으로 출고하는 방식의 베스(bath)를 구비한다.

상기 베스는 통상 강철(SUS계열), 폴리비닐클로라이드(Poly Vinyl Chloride)와 같은 내구성 재질을 용접하거나 결합하여 제작할 수 있고, 그 내부에서 기판을 지지하여 일방향으로 수평이송하도록 기판이송방향을 따라 병렬로 설치되는 복수의 이송축을 구비한다.

이러한 베스는 상기의 이송축을 회전구동시키기 위한 방식으로 접촉식 구동방식과 비접촉식 구동방식이 제안된 바 있으며, 접촉식 구동방식의 대표적 일례로 기어 구동방식을 예시할 수 있고, 비접촉식 구동방식의 대표적 일례로 마그네틱 구동방식을 예시할 수 있다.

상기의 비접촉식 구동방식은 파티클 소스가 발생하지 않는다는 장점이 있으나, 아직까지 여러가지 보완해야될 문제점 예컨데 전자기적 특성에 의한 이송축의 구동제어를 정확하게 구현하기가 용이하지 않다는 등의 문제점으로 인해 상용화에 어려움이 있었다.

상기의 접촉식 구동방식은 파티클 소스가 발생된다는 단점은 있으나, 정확한 구동제어에 유리하여 많이 채택되고 있다. 따라서 상기의 접촉식 구동방식이 채택된 베스는 파티클 소스를 처리하는 것이 중요한 이슈 중의 하나이다.

도 1은 종래 접촉식 구동방식이 적용된 베스의 개략적인 구성을 나타낸 정면구성도이고, 도 2는 도 1에 도시된 베스의 이송축 구동구조를 개략적으로 나타낸 평면구성도이다.

도 1 및 도 2를 참조하면, 종래 접촉식 구동방식이 적용된 베스(10)는 기판이송방향을 따라 병렬로 설치되어 기판(S)을 일방향으로 이송하는 복수의 이송축(14)과, 상기 이송축(14)에 지지되어 일방향으로 수평이송되는 기판(S)에 대하여 습식처리가 진행되는 처리존(11)을 포함한다.

상기 처리존(11)은 그 내부에 습식처리수단(30) 예컨데 세정노즐이나 현상노즐 등의 습식처리수단(30)이 설치되어 이송축(14)에 의해 수평이송되는 기판(S)에 대하여 다양한 종류의 습식처리를 수행하고, 상기 처리존(11)의 하측은 습식처리수단(30)에 처리액을 공급하기 위한 각종 탱크, 배관, 펌프 등이 설치되는 설비존(13)이 설치될 수 있다.

그리고 이송축(14)은 양단이 처리존(11)의 측벽(15)을 관통하여 구동존(12)으로 진입하고 구동존(12)에 설치되는 베어링블럭(23)에 의해 회전가능하게 지지되 며, 일측 구동존(12)에는 이송축(14) 일단의 종동기어(22)에 치합되는 구동기어(21)가 축선상을 따라 복수 설치되는 구동축(20)이 설치된다.

따라서 처리존(11)과 구동존(12)이 측벽(15)에 의해 상호 차단되어 구동존(12)에서 이송축(14)을 회전시키기 위한 구동수단(20, 21, 22)에서 발생되는 파티클 소스가 처리존(11)측으로 유입되지 않는 기밀구조이다. 또한 처리존(11)에서 발생되는 처리액이 구동존(12)으로도 유입되지 않는 기밀구조이다.

그러나 단일의 측벽에 관통공을 형성하고 상기의 관통공에 회전하는 구소요소인 이송축이 삽입관통되는 구조이므로 기밀을 달성하는 것이 용이하지 못하다는 불편함이 있었다.

더욱이 이송축이 구동존에 설치되는 베어링블럭에 회전가능하게 지지되는 구조이므로 베어링블럭의 설치공간을 더 고려하여야 되므로 장비의 크기가 더 비대해지는 단점이 있었다.

또한 종래 베스는 도 1에 도시된 바와 같이 기판의 경사반송을 구현할 시에 이송축을 설정높이로 정밀하게 셋팅하는 것이 용이하지 못하고, 이송축이 셋팅된 상태에서 추후에 이를 보정하는 것도 용이하지 못하다는 불편함이 있었다.

상기와 같은 문제점을 감안한 본 발명은, 처리존과 구동존과의 완벽한 기밀을 유지하면서도 이송축의 원활한 회전지지가 가능한 습식처리장비의 베스를 제공함에 그 목적이 있다.

본 발명의 또 다른 목적은, 기판의 경사반송을 위한 이송축의 설정높이 셋팅이 정밀하면서도 추후 보정이 용이한 습식처리장비의 베스를 제공함에 있다.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 기판이송방향을 따라 병렬로 설치되어 기판을 일방향으로 이송하는 복수의 이송축과, 상기 이송축에 지지되어 일방향으로 수평이송되는 기판에 대하여 습식처리가 진행되는 처리존을 포함하는 기판 습식처리용 베스에 있어서, 상기 처리존의 양측 경계에 설치되어 상기 처리존을 밀폐하며 상기 이송축의 양단을 회전가능하게 지지하는 측벽부를 포함한다.

상기 측벽부는, 상기 이송축의 양 단부 하측으로 각각 고정설치되어 상기 처리존의 양측 기초를 설정하는 정밀가공의 베이스블럭과, 상기 이송축의 설치높이에 대응하여 상기 베이스블럭에 분리 가능하게 결합되고 상기 이송축의 양 단부를 회전가능하게 지지하는 서포트블럭과, 상기 서포트블럭의 상측으로 설치되어 상기 처리존의 양측 경계를 설정하는 이너월을 포함한다.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 실시 예를 상세하게 설명한다. 그러나 이하의 실시 예는 이 기술분야에서 통상적인 지식을 가진 자에게 본 발명이 충분히 이해되도록 제공되는 것으로서 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 다음에 기술되는 실시 예에 한정되는 것은 아니다. 도면상에서 동일 부호는 동일한 요소를 지칭한다.

도 3은 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 기판 습식처리용 베스를 개략적 으로 나타낸 정면 구성도이고, 도 4는 도 3에 도시된 기판 습식처리용 베스의 측벽부를 나타낸 분리 사시도이다.

도 3 및 도 4를 참조하면, 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 기판 습식처리용 베스는 기판이송방향을 따라 병렬로 설치되어 기판을 일방향으로 이송하는 복수의 이송축(110)과, 상기 이송축(110)에 지지되어 일방향으로 수평이송되는 기판에 대하여 습식처리가 진행되는 처리존(101)과, 상기 처리존(101)의 양측 경계에 설치되어 상기 처리존(101)을 밀폐하며 상기 이송축(110)의 양단을 회전가능하게 지지하는 측벽부(200)를 포함한다.

종래 기술에서 이송축이 구동존 내부에 설치되는 베어링블럭에 의해 지지되는 것에 비하여, 본 일실시예에서는 이송축(110)의 양단이 처리존(101)의 양측 경계를 설정하는 측벽부(200)에 회전가능하게 지지되는 인베스타입(inbath type)이므로 구동존(102)에 이송축(110)의 양단을 지지하기 위한 베어링블럭을 생략가능하므로 장비크기를 감소시킬 수 있는 장점이 있다.

그리고 처리존(101)에는 이송축(110)에 의해 일방향으로 이송되는 기판에 대하여 습식처리를 수행하는 습식처리수단(120)이 설치되며, 일측의 구동존(102)에는 이송축(110)을 회동시키기 위한 구동수단(130)이 설치된다.

또한, 처리존(101)의 하측은 종래 기술에서와 같이 습식처리수단(120)에 처리액을 공급하기 위한 각종 탱크, 배관, 펌프 등이 설치되는 설비존(103)이 설치될 수 있다.

상기에서, 측벽부(200)는 이송축(110)의 양 단부 하측으로 각각 고정설치되 어 처리존(101)의 양측 기초를 설정하는 정밀가공의 베이스블럭(210)과, 이송축(110)의 설치높이에 대응하여 상기 베이스블럭(210)에 분리 가능하게 결합되고 이송축(110)의 양 단부를 회전가능하게 지지하는 서포트블럭(220)과, 상기 서포트블럭(220)의 상측으로 설치되어 처리존(101)의 양측 경계를 설정하는 이너월(230)을 포함하는 것이 바람직하다.

상기 베이스블럭(210)은 처리존(101)의 바닥에 예컨데 용접 등의 방식으로 고정설치되는 구성부품으로, 추후 레벨수준을 재차 조정을 할 필요없이 정밀한 가공방식(금형을 이용한 압출가공으로 1차 가공한 후 후가공하는 등의 방식)으로 2차 가공되는 것이 가장 바람직하다.

상기 서포트블럭(220)은 기판의 경사반송시 이송축(110)의 설정높이에 알맞는 레벨의 것을 선정하여 베이스블럭(210)에 교체 장착하는 것이 바람직하고, 각 이송축(110)을 회전가능하게 지지할 수 있도록 이송축(110)이 삽입되는 부위에 각 삽입홈(221)이 형성되어 상기 각 삽입홈(221)에 이송축(110)이 삽입되는 베어링(222)이 설치된다.

더욱이 서포트블럭(220)은 각 삽입홈(221)에 장착된 베어링(222)의 갈림현상이 최소화되도록 각 삽입홈(221)에 장착된 베어링(222)측으로 윤활유를 공급하는 윤활유 공급라인(미도시)을 내부에 형성하는 것도 고려될 수 있다.

상기에서, 베이스블럭(210)은 서포트블럭(220)을 지지하는 제1단차(211)를 포함하는 것이 더욱 바람직하다. 따라서 서포트블럭(220)은 베이스블럭(210)의 제1단차(211)에 안착지지되는 방식으로 베이스블럭(210)에 위치설정이 용이해지며 안 정적으로 베이스블럭(210)에 안착지지될 수 있는 장점이 있다.

상기에서, 서포트블럭(220)의 상측으로 결합되며 상면에는 이너월(230)의 저단이 삽입되는 끼움홈(241)이 형성되는 플레이트커버(240)를 더 포함하는 것이 바람직하다.

상기 플레이트커버(240)는 서포트블럭(220)의 상측으로 결합하여 각 삽입홈(221)에 장착된 베어링(222)의 이탈을 방지하는 것은 물론 상면에서 처리존(101)의 양측 경계를 설정하는 이너월(230)과 끼움결합된다.

상기에서, 플레이트커버(240)는 처리존(101)의 내부를 향하는 단부가 하향경사지게 형성되는 절곡단부(242)를 포함하는 것이 더욱 바람직하다. 따라서 플레이트커버(240)는 처리존(101) 내부에서 발생된 케미컬 또는 세정액 등의 처리액이 절곡단부(242)를 따라 하향하여 흘러내리도록 함으로써 처리액이 이송축(110)을 따라 처리존(101) 외부로 유출되는 것을 최대한 방지한다.

상기에서, 각 이송축(110)이 삽입관통되는 설치홈(251)이 형성되어 서포트블럭(220)의 처리존(101) 내부를 향하는 면에 설치되는 워터월(250)을 더 포함하는 것이 바람직하다.

상기 워터월(250)은 서포트블럭(220)의 처리존(101) 내부를 향하는 면에 설치되므로, 처리존(101) 내부에서 발생된 처리액이 서포트블럭(220)측으로 유입되는 것을 최대한 방지하여 처리존(101) 외부로 유출되는 것을 방지하는 장점이 있다.

상기에서, 베이스블럭(210)은 워터월(250)을 지지하는 제2단차(212)를 포함하는 것이 더욱 바람직하다. 따라서 워터월(250)은 베이스블럭(210)의 제2단 차(212)에 안착지지되는 방식으로 베이스블럭(210)에 위치설정이 용이해지며 안정적으로 베이스블럭(210)에 안착지지될 수 있는 장점이 있다.

상기에서, 이너월(230)은 그 상단부가 처리존(101)의 천정부에 분리결합가능하게 이루어지는 것이 바람직하다. 상기 처리존(101)의 천정부는 베이스블럭(210)에서 수직상방향으로 연장되는 가상의 수직선상과 교차되는 부위가 수직하방향으로 일정구간 연장되는 연장단부(104)가 형성된다.

이와 같은 천정부의 연장단부(104)에 이너월(230)이 분리결합가능하게 결합하여 처리존(101)의 밀폐성은 유지하면서도 이너월(230)을 분리해 낼 수 있으므로 장비의 메인터넌스에 유리하다는 장점이 있다.

이상에서는 본 발명을 특정의 바람직한 실시 예들을 들어 도시하고 설명하였으나, 본 발명은 상기한 실시 예들에 한정되지 않으며 본 발명의 개념을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변경과 수정이 가능하다.

상기한 바와 같이 본 발명은, 이송축이 인베스타입의 측벽부에 회동가능하게 지지되므로 장비를 간소화 할 수 있어 공간활용도를 극대화할 수 있는 효과가 있다.

또한 본 발명은, 이송축을 설정높이로 정밀하게 셋팅할 수 있는 것은 물론 추후에 레벨수준 보정이 용이하여 기판의 경사반송구현에 유리하다는 효과가 있다.

또한 본 발명은, 처리존과 구동존과의 기밀유지성능이 뛰어나면서도 처리존 내부의 개방이 용이하여 처리존 내부의 메인터넌스가 유리하다는 효과가 있다.

Claims

기판이송방향을 따라 병렬로 설치되어 기판을 일방향으로 이송하는 복수의 이송축과, 상기 이송축에 지지되어 일방향으로 수평이송되는 기판에 대하여 습식처리가 진행되는 처리존을 포함하는 기판 습식처리용 베스에 있어서,

상기 이송축의 양 단부 하측으로 각각 고정설치되어 상기 처리존의 양측 기초를 설정하는 베이스블럭과, 상기 이송축의 설치높이에 대응하여 상기 베이스블럭에 분리 가능하게 결합되고, 상기 이송축의 양 단부를 회전가능하게 지지하는 서포트블럭과, 상기 서포트블럭의 상측으로 설치되어 상기 처리존의 양측 경계를 설정하는 이너월을 구비하는 측벽부를 포함하는 기판 습식처리용 베스.
삭제
제1항에 있어서,

상기 서포트블럭의 상측으로 결합되며, 상면에는 상기 이너월의 저단이 삽입되는 끼움홈이 형성되는 플레이트커버를 더 포함하는 기판 습식처리용 베스.
제3항에 있어서,

상기 플레이트커버는 상기 처리존의 내부를 향하는 단부가 하향경사진 것을 특징으로 하는 기판 습식처리용 베스.
제3항 또는 제4항에 있어서,

상기 각 이송축이 삽입관통되는 설치홈이 형성되어 상기 서포트블럭의 상기 처리존 내부를 향하는 면에 설치되는 워터월을 더 포함하는 기판 습식처리용 베스.
제3항 또는 제4항에 있어서,

상기 이너월은 그 상단부가 상기 처리존의 천정부에 분리결합가능한 것을 특징으로 하는 기판 습식처리용 베스.