JP2005268247A - 基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 処理チャンバ20内を所定方向へ連続して搬送される複数の基板Wの主面へ複数列のスプレイノズル26から洗浄水を吐出して基板を水洗処理する装置において、複数列のスプレイノズルを基板搬送方向において複数の制御ブロック32a〜32eに分け、各制御ブロックごとにスプレイノズルの吐出動作を基板の位置に応じて個別に制御する。搬送される基板同士の間隔bを、制御ブロックの1つに対応する基板搬送方向における長さaより大きく設定する。
【選択図】 図1
Description
図1は、この発明の実施形態の1例を示し、基板処理装置の一部を示す概略構成図である。この基板処理装置は、薬液処理部10、第1の水洗処理部12および第2の水洗処理部14を備え、それらを連設して構成されている。薬液処理部10は、密閉型の処理チャンバ16を備え、図示していないが、処理チャンバ16の内部には複数の基板Wを水平方向へ連続して搬送するためのローラコンベアが配設されている。また、処理チャンバ16内には、搬送される基板Wの上・下両主面に向けて洗浄液、現像液、エッチング液、剥離液等の薬液を吐出するスプレイノズル18が基板搬送方向に複数列配設されている。この薬液処理部10においては、基板Wに対し洗浄、現像、エッチング、剥離等の処理が施される。
12 第1の水洗処理部
14 第2の水洗処理部
16、20、28 処理チャンバ
18、26、30 スプレイノズル
32a〜32e 制御ブロック
34 洗浄水供給用配管
36a〜36e 洗浄水供給管
38a〜38e 開閉制御弁
40 コントローラ
42 乾燥処理部
48 純水供給用配管
50 回収用配管
52 回収タンク
54 ポンプ
W 基板
S1〜S5 基板検知センサ
Claims (2)
- 基板搬送手段により処理チャンバ内を所定方向へ連続して搬送される複数の基板に対し処理液供給手段により処理液を供給して基板を処理する基板処理装置において、
前記処理液供給手段を、基板の主面に向けて処理液を吐出する処理液吐出手段を基板搬送方向に複数列配置して構成するとともに、複数列の処理液吐出手段を基板搬送方向において複数の制御ブロックに分けて、各制御ブロックごとに処理液吐出手段の吐出動作を基板の位置に応じて個別に制御する制御手段を備えたことを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置において、
前記基板搬送手段によって搬送される基板同士の間隔が、前記制御ブロックの1つに対応する基板搬送方向における長さより大きく設定されたことを特徴とする基板処理装置。
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