KR20040058839A - 습식장치 - Google Patents

습식장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20040058839A
KR20040058839A KR1020020085352A KR20020085352A KR20040058839A KR 20040058839 A KR20040058839 A KR 20040058839A KR 1020020085352 A KR1020020085352 A KR 1020020085352A KR 20020085352 A KR20020085352 A KR 20020085352A KR 20040058839 A KR20040058839 A KR 20040058839A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
substrate
rinse
rinse liquid
spray nozzle
wet
Prior art date
Application number
KR1020020085352A
Other languages
English (en)
Inventor
구진모
Original Assignee
엘지.필립스 엘시디 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엘지.필립스 엘시디 주식회사 filed Critical 엘지.필립스 엘시디 주식회사
Priority to KR1020020085352A priority Critical patent/KR20040058839A/ko
Publication of KR20040058839A publication Critical patent/KR20040058839A/ko

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1313—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells specially adapted for a particular application
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/02041—Cleaning
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
    • H01L21/302—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
    • H01L21/306—Chemical or electrical treatment, e.g. electrolytic etching
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/6704—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
    • H01L21/67051—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing using mainly spraying means, e.g. nozzles
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1316—Methods for cleaning the liquid crystal cells, or components thereof, during manufacture: Materials therefor

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
  • Weting (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

본 발명은 습식장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 에칭공장 이후 잔존물을 세정하기 위한 린스액의 분사를 더욱 효과적으로 수행하기 위한 것으로서, 기판 표면에 린스액을 공급하기 위해, 상기 기판을 상기 기판 외부의 제1위치에서 제2위치로 이송시키는 이송수단과, 상기 이송수단과 이격되어 린스액을 기판에 분사하기 위한 다수의 린스분사노즐과, 상기 린스분사노즐로 린스액을 공급하는 노즐파이프를 구비한 습식장치에 있어서, 상기 린스분사노즐에서 분사되는 린스액과 상기 기판이 이루는 각도는 90도 미만인 것을 특징으로 하는 습식장치를 제시하여 린스액의 수직분사보다 높은 세정효과를 도출하는 장점이 있다.

Description

습식장치{Apparatus for wet-etching}
본 발명은 습식장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 액정표시장치를 포함하는 평판 디스플레이(FPD:Flat Panel Display)장치의 제조공정에서 수행되는 기판의 약액 및 수/세정 처리를 수행하는 습식장치에 관한 것이다.
일반적으로 액정 표시 장치의 제조 공정에서는 생산성을 증대시키기 위해 대부분의 공정을 자동화하고 있다. 이에 따라, 특정 장치에서 공정을 진행하고자 하는 경우에는 작업이 수행될 작업 대상물이 보관되어 있는 카세트를 특정 장치로 이송하여 장치에 로딩하고, 뒤이어 필요한 작업을 자동으로 진행한다. 이러한 특정 공정을 수행하는 장치는 박막(thin film)증착, 사진(photo-lithography), 식각(etching), 세정(cleaning) 등의 다수의 단위 공정으로 이루어지며, 각각의 단위 공정은 순차적으로 연결되어 해당 작업을 순차적으로 수행하여 해당 공정을 완료한다.
이러한 특정 장치에서 진행하는 단위 공정들 중 세정, 식각, 사진 공정 등의 단위 공정은 습식 장치에서 진행되며, 습식 장치는 약액 및 린스 처리를 위해 기판이 반송되는 과정에서 노즐 파이프 모듈의 분사노즐로부터 약액 또는 고압의 순수(water) 등의 유체를 분사한다.
상기와 같은 습식장치는 일반적으로 도 1의 평면도와 같이, 컨베이어와 같은 이송수단(130)을 통해 글라스 또는 기판(10)이 화살표방향으로 진행하고, 상기 기판상에 잔존하는 에천트(Etchant)의 세정을 위해 노즐파이프(110)를 통해 공급된 린스액이 상기 기판(10)으로 분사되는 린스분사노즐(120)을 구비한 구성을 가진다.
여기서 상기 린스액은 DI세정액(De-ionized water) 등이 될 것이다.
상기와 같은 구조를 가지는 습식장치(100)는 도 2의 측면도와 같이, 상기 기판(10)이 이송수단(130)을 통해 이송되는 동안, 상기 기판(10)의 상/하부에 구성된 노즐파이프(110)와 린스분사노즐(120)에 의해 린스액(140)이 상기 기판(10)으로 수직 하향분사되도록 상기 린스분사노즐(120)의 분사방향이 상기 기판과 수직을 이루고 있다.
그러나 상기와 같이 기판(10)과 수직으로 린스분사노즐(120)이 형성되어 상기 기판 상에 린스액(140)을 수직 분사할 경우 글라스의 전면에 고루 린스액이 도포될 수는 있지만 잔존 에천트 또는 이물질의 제거에는 미흡한 점이 있다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해, 상기 분사노즐의 분사방향을 수정하여 잔존물의 제거에 보다 효율적인 습식 세정장치를 제시한다.
도 1은 일반적인 습식장치를 도시한 간략 평면도
도 2는 일반적인 습식장치의 린스액 분사방향을 도시한 도면
도 3은 본 발명에 따른 습식장치의 일 부분을 도시한 도면
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
10 : 기판 130 : 이송장치
140 : 린스액 230 : 린스분사노즐
상기와 같은 목적을 달성하기 위해, 본 발명은 기판 표면에 린스액을 공급하기 위해, 상기 기판을 상기 기판 외부의 제1위치에서 제2위치로 이송시키는 이송수단과, 상기 이송수단과 이격되어 린스액을 기판에 분사하기 위한 다수의 린스분사노즐과, 상기 린스분사노즐로 린스액을 공급하는 노즐파이프를 구비한 습식장치에 있어서, 상기 린스분사노즐에서 분사되는 린스액과 상기 기판이 이루는 각도는 90도 미만인 것을 특징으로 하는 습식장치를 제시한다.
여기서 상기 린스분사노즐은 상기 제1위치 방향으로 기울어져 구성되는 것을 특징으로 한다.
또한 상기 린스분사노즐에서 분사되는 린스액은 상기 기판과 40°내지 45°를 이루는 것을 특징으로 한다.
이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 대해 설명한다.
도 3은 본 발명에 따른 습식장치(200)의 일 부분을 도시한 도면으로서, 린스분사노즐(230)의 분사방향이 개선된 모습을 도시하고 있다.
즉, 상기 린스분사노즐(230)이 상기 기판(10)이 상기 습식장치(200)로 인입되는 방향을 향해 기울어져 구성되어 있다.
상기와 같이 린스분사노즐(230)을 구성하는 이유는, 상기 기판(10)이 이전공정에서 에칭 등의 화학 처리를 수행한 후 그 잔존물의 세정을 위해 상기 습식장치(200)로 이송되는데, 이때 상기 린스분사노즐(230)에서 상기 기판이 인입되는 방향으로 린스액(140)을 분사할 경우, 상기 기판(10)은 상기 린스액 분사방향에 반하여 진행하기 때문에 분사 이후 상기 기판(10)상에 정체되어 잔존하는 린스액의 양을 줄일 수 있으며, 또한 상기 린스액의 수직분사 방법과는 달리 기판의 잔존물질을 측면으로 밀어낼 수 있도록 하는 린스액 분사에 따른 전체 분사력에서 백터적으로 일부 힘 성분을 기판(10)에 적용할 수 있기 때문에 더 큰 세정효과를 얻을 수 있기 때문이다.
상기와 같이 상기 기판(10)과 수직이 아닌 방향으로 린스액(140)을 분사하도록 구성되는 린스분사노즐(23)이 이루는 각도는 수직이 아니라면 무관하겠고, 바람직하게는 상기 기판이 인입되는 방향으로 40~45도 정도가 가장 적당하겠다.
상기와 같이 설명한 본 발명에 따른 습식장치는 그 이용이 린스의 용도에 더욱 적합하다 할 수 있으며, 이는 분사노즐을 통한 린스액의 분사방향의 변화만으로 더욱 큰 세정효과를 얻는 특징이 있다.

Claims (3)

  1. 기판 표면에 린스액을 공급하기 위해, 상기 기판을 상기 기판 외부의 제1위치에서 제2위치로 이송시키는 이송수단과, 상기 이송수단과 이격되어 린스액을 기판에 분사하기 위한 다수의 린스분사노즐과, 상기 린스분사노즐로 린스액을 공급하는 노즐파이프를 구비한 습식장치에 있어서,
    상기 린스분사노즐에서 분사되는 린스액과 상기 기판이 이루는 각도는 90도 미만인 것을 특징으로 하는 습식장치
  2. 청구항 제 1 항에 있어서,
    상기 린스분사노즐은 상기 제1위치 방향으로 기울어져 구성되는 것을 특징으로 하는 습식장치
  3. 청구항 제 1 항에 있어서,
    상기 린스분사노즐에서 분사되는 린스액은 상기 기판과 40°내지 45°를 이루는 것을 특징으로 하는 습식장치
KR1020020085352A 2002-12-27 2002-12-27 습식장치 KR20040058839A (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020020085352A KR20040058839A (ko) 2002-12-27 2002-12-27 습식장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020020085352A KR20040058839A (ko) 2002-12-27 2002-12-27 습식장치

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20040058839A true KR20040058839A (ko) 2004-07-05

Family

ID=37350906

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020020085352A KR20040058839A (ko) 2002-12-27 2002-12-27 습식장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20040058839A (ko)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100812563B1 (ko) * 2006-12-22 2008-03-13 주식회사 디엠에스 습식 식각장치
JP2022092713A (ja) * 2020-12-11 2022-06-23 芝浦メカトロニクス株式会社 基板処理装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100812563B1 (ko) * 2006-12-22 2008-03-13 주식회사 디엠에스 습식 식각장치
JP2022092713A (ja) * 2020-12-11 2022-06-23 芝浦メカトロニクス株式会社 基板処理装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101193229B1 (ko) 반도체 기판 표면의 화학적 처리 방법 및 이를 위한 장치
KR20110080863A (ko) 웨이퍼 처리 방법, 이를 수행하기 위하여 사용되는 웨이퍼 이송 로봇 및 이의 수행을 위한 웨이퍼 처리 장치
KR100794919B1 (ko) 글라스 식각장치 및 식각방법
JP3341727B2 (ja) ウエット装置
KR20040058839A (ko) 습식장치
JP2005019991A (ja) 基板処理装置
JP2013086978A (ja) 枚葉式化学研磨装置
KR101100961B1 (ko) 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
KR20080039367A (ko) Ｔｆｔ-ｌｃｄ용 글라스의 표면 식각장치
KR100812096B1 (ko) 글라스 식각장치 및 식각방법
KR20030004511A (ko) 엘시디 제조용 포토레지스트 제거장비의 에어커튼 발생장치
KR101856197B1 (ko) 약액 공급 장치
KR102171275B1 (ko) 기판 처리장치 및 기판 처리방법
KR100693761B1 (ko) 상압 플라즈마 발생기를 구비한 세정장치
KR20100094153A (ko) 기판 처리 장치 및 그 방법
JP2011066352A (ja) 基板の製造装置及び製造方法
KR100695232B1 (ko) 기판을 세정하는 장치 및 방법
JP2016187049A (ja) ウェハの洗浄装置および洗浄方法
KR20080062920A (ko) 기판 세정장치 및 이를 이용한 기판 세정방법
KR20070102030A (ko) 기판세정장치 및 그 세정방법
KR20030083779A (ko) 액정표시소자용 처리장치 및 처리방법
JP6049257B2 (ja) ウェハの洗浄装置および洗浄方法
CN112786477A (zh) 晶圆清洁装置、系统以及方法
KR102239520B1 (ko) 기판 처리 장치 및 방법
KR20020088264A (ko) 습식 설비

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E601 Decision to refuse application