KR200295029Y1 - 기판 세정 장치 - Google Patents
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Abstract
본 고안은 액정표시장치(LCD) 또는 평판표시장치(FPD) 등의 기판을 세정하기 위한 기판 세정 장치에 관한 것이다. 본 고안에 따른 기판 세정 장치는 투입부에서 배출부까지 기판을 이송하기 위한 롤러 컨베이어; 기판의 진행 방향을 따라 소정 간격으로 배치되어 기판의 표면으로 세정액을 분사하는 제 1 내지 제 3 세정 유닛을 포함하는 세정부; 및 세정부를 통과한 기판의 표면에 잔류하는 이물질을 제거하도록 설치된 에어 나이프를 가지는 건조부를 포함한다. 제 1 세정 유닛은 노즐형 분사 유닛이고, 제 2 및 제 3 세정 유닛은 슬릿형 분사 유닛이다. 또한, 기판 표면의 세정액과 오염물을 흡입, 제거하는 한 쌍의 흡입 유닛이 상기 세정 유닛들 사이에 설치된다. 또는, 기판의 진행 방향과 평행하게 배치되어 기판의 폭방향으로 왕복이동되면서 기판으로 순수를 분사하는 왕복 분사 유닛이 상기 제 2 세정 유닛 및 제 3 세정 유닛 사이에 설치될 수도 있다. 더욱이, 본 고안에 따른 기판 세정 장치는 투입부와 세정부 사이에 설치되며, 상기 기판의 이송 방향과 직교하게 배열되고 기판의 이송 방향으로 왕복 이동가능하게 설치되어 상기 기판에 린싱용 순수를 분사하는 하나 이상의 분사 유닛을 가지는 린스부를 더 포함할 수도 있다.
Description
본 고안은 액정표시장치(LCD) 또는 평판표시장치(FPD) 등의 기판을 세정하기 위한 기판 세정 장치에 관한 것이다.
액정 표시 장치 또는 평판 표시 장치 등의 기판을 제조하는 공정에는 기판의 표면에 기계적 또는 화학적 처리를 가하는 공정이 수반되며, 이에 따라 처리된 기판의 표면을 세정하는 공정이 또한 필요하다.
이러한 세정 공정은 기판들이 기판 이송용 컨베이어를 따라 이송되는 동안 컨베이어의 상측에 설치된 린싱용 분사 유닛, 브러시 유닛, 세정용 분사 유닛, 초음파 유닛 등을 이용하여 기판에 대해 순수(純水)와 같은 세정액을 분사하고 브러시로 닦아내며 초음파를 가하는 등의 작업을 통해 기판의 표면으로부터 이물질을 제거하고, 에어 나이프(air knife)를 이용하여 기판의 표면을 건조시킨 다음 기판의 배출한다.
그러나, 최근 LCD나 PDP 등의 기판이 대형화되는 추세에 따라 상기와 같은 기판 세정 장치를 단순히 대형화하는 것만으로는 만족할 만한 세정 효과를 얻지 못하는 상황이 초래되고 있다. 또한, 이러한 종래의 기판 세정 장치는 여러 번의 세정 과정을 거치기 때문에 순수와 같은 세정액의 소모가 많고 세정 시간도 많이 걸리는 단점이 있다.
본 고안은, 상기와 같은 점들을 감안하여 안출된 것으로, 대형 기판에서도 우수한 세정 능력을 나타낼 수 있는 기판 세정 장치를 제공하는데 그 목적이 있다.
본 고안의 다른 목적은 세정액을 적게 소모하면서도 신속하고 우수한 세정효과를 얻을 수 있는 기판 세정 장치를 제공하는데 있다.
도 1은 본 고안의 일 실시예에 따른 기판 세정 장치의 구성을 개략적으로 도시한 평면도.
도 2는 도 1의 장치의 구성을 개략적으로 도시한 측면도.
도 3은 본 고안의 다른 실시예에 따른 기판 세정 장치의 구성을 개략적으로 도시한 평면도.
도 4는 도 3의 장치의 구성을 개략적으로 도시한 측면도.
도 5는 본 고안에 따른 기판 세정 장치에 있어서 기판을 경사지게 이송하기 위한 기판 이송 수단의 일 예를 도시한 도면.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *
10 : 롤러 컨베이어 20 : 세정부
21, 22, 23 : 세정 유닛 24, 25 : 세정액 흡입 유닛
27 : 왕복 분사 유닛 30 : 건조부
32 : 에어 나이프 40 : 린스부
상기와 같은 목적은, 투입부에서 배출부까지 기판을 이송하기 위한 롤러 컨베이어; 기판의 진행 방향을 따라 소정 간격으로 배치되어 기판의 표면으로 세정액을 분사하는 제 1 내지 제 3 세정 유닛을 포함하는 세정부; 및 세정부를 통과한 기판의 표면에 잔류하는 이물질을 제거하도록 설치된 에어 나이프를 가지는 건조부를 포함하는 본 고안에 따른 기판 세정 장치에 의해 달성된다.
바람직하게는, 제 1 세정 유닛은 노즐형 분사 유닛이고, 제 2 및 제 3 세정 유닛은 슬릿형 분사 유닛이다.
또한, 바람직하게는, 기판 표면의 세정액과 오염물을 흡입, 제거하는 한 쌍의 흡입 유닛이 상기 세정 유닛들 사이에 설치된다.
또는, 기판의 진행 방향과 평행하게 배치되어 기판의 폭방향으로 왕복이동되면서 기판으로 순수를 분사하는 왕복 분사 유닛이 상기 제 2 세정 유닛 및 제 3 세정 유닛 사이에 설치될 수도 있다.
더욱이, 본 고안에 따른 기판 세정 장치는 투입부와 세정부 사이에 설치되며, 상기 기판의 이송 방향과 직교하게 배열되고 기판의 이송 방향으로 왕복 이동가능하게 설치되어 상기 기판에 린싱용 순수를 분사하는 하나 이상의 분사 유닛을 가지는 린스부를 더 포함할 수도 있다.
더욱이, 롤러 컨베이어는 기판이 세정부를 통과할 때 수평면에 대해 소정 각도로 경사진 상태에서 이송되도록 구성될 수도 있다.
이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 고안의 바람직한 실시예를 상세하게 설명한다.
본 고안의 일 실시예에 따른 기판 세정 장치가 도 1 및 도 2에 도시되어 있다.
도시된 바와 같이, 본 고안의 일 실시예에 따른 기판 세정 장치는 기판(P)을 이송하기 위한 롤러 컨베이어(10)와 세정부(20)와 건조부(30)를 포함한다. 세정부(20)와 건조부(30)는 롤러 컨베이어(10)의 투입부(12)와 배출부(14) 사이에 배치되어 있다.
세정부(20)는 제 1 내지 제 3 세정 유닛(21, 22, 23)과 한 쌍의 세정액 흡입 유닛(24, 25)으로 이루어져 있으며, 투입부(12)와의 사이에 세정액의 누설을 방지하기 위한 에어 커튼(26)이 설치되어 있다.
제 1 내지 제 3 세정 유닛(21, 22, 23)은 기판(P)의 이송 방향을 따라 소정 간격으로 배치되어 있으며 이 세정 유닛들(21, 22, 23) 사이에 한 쌍의 세정액 흡입 유닛(24, 25)이 배치되어 있다. 여기서, 제 1 및 제 2 세정 유닛(21, 22)은 기판(P)의 이송 방향과 직교하는 방향으로 설치되는 반면, 제 3 세정 유닛(23)은 제 1 또는 제 2 유닛(21, 22)과 소정 각도를 이루도록 설치되어 있다. 바람직하게는, 제 1 세정 유닛(21)은 다수의 고압 분사 노즐들이 배치된 노즐형 분사 유닛이며, 제 2 및 제 3 세정 유닛(22, 23)은 슬릿형 분사 유닛이다. 슬릿형 분사 유닛은 본 출원인의 선출원인 대한민국 특허출원 2001-31053 및 2002-17476 등에 개시되어 있는 것을 사용할 수 있으며, 기존의 노즐형 분사 유닛에 비하여 매우 우수한 세정력을 나타낸다.
건조부(30)는 샤워 유닛(31)과 에어 나이프(32)를 포함하고 있다. 샤워 유닛(31)은 세정부(20)에서 기판(P)으로 분사된 세정액이 자연 건조되어 기판(P)의 표면에 워터마크(water-mark)가 발생되는 것을 방지하도록 기판(P)의 표면 전체를 고르게 순수로 적셔주기 위한 것으로, 다수의 노즐을 가진 저압 분사 유닛이다.
에어 나이프(32)는 고압의 공기를 기판(P)의 표면으로 분사하여 기판(P)의 표면에 잔류하는 세정액 또는 샤워 유닛(31)으로부터 분사된 순수를 기판(P)의 표면으로부터 제거한다.
투입부(12)를 통해 롤러 컨베이어(10)로 투입된 기판(P)은 세정부(20)를 통과하면서 제 1 내지 제 3 세정 유닛(21, 22, 23)으로부터 각각 분사되는 세정액에 의해 세정된다. 제 1 및 제 2 세정 유닛(21, 22)에서 부사된 세정액은 세정액 흡입 유닛(24, 25)에 의해 이물질과 함께 흡입되어 제거됨으로써 세정 효과가 더 증대될 수 있다. 또한, 제 2 및 제 3 세정 유닛(22, 23)으로 세정력이 우수한 슬릿형 세정 유닛을 사용함으로써 세정력은 더 향상된다.
세정부(20)에서 세정된 기판P은 건조부(30)로 이송되어 에어 나이프(32)에 의해 건조된다. 이때, 세정액의 자연 건조로 인한 워터마크의 발생을 방지하기 위해 에어 나이프(32)의 전방에 샤워 유닛(31)이 설치되어 있는 것은 상술한 바와 같다.
도 3 및 도 4는 본 고안의 다른 실시예를 도시한다. 본 고안의 다른 실시예에 따른 기판 세정 장치는 롤러 컨베이어(10)와 린스부(40)와 세정부(30)와 건조부(20)를 포함한다. 린스부(40)와 세정부(20)와 건조부(30)는 롤러 컨베이어(10)의 투입부(12)와 배출부(14) 사이에 배치되어 있다.
린스부(40)는 다수의 노즐형 분사 유닛(41)을 가지고 있으며, 이 분사 유닛들(41)은 롤러 컨베이어(10)의 양측 상부에 설치된 레일(42)을 따라 기판(P)의 이송 방향으로 왕복 이동될 수 있도록 설치되어 있다. 이 분사 유닛들(41)이 왕복이동하면서 기판(P)으로 순수를 저압 분사하는 것에 의해 기판(P)에 대한 린싱 작업이 이루어진다.
세정부(20)는 제 1 내지 제 3 세정 유닛(21, 22, 23)과 왕복 분사 유닛(27)을 가진다. 제 1 세정 유닛(21)과 제 2 세정 유닛(22)은 기판(P)의 이송 방향과 직교하는 방향으로 설치되며, 제 3 세정 유닛(23)은 제 1 또는 제 2 세정 유닛(21, 22)과 소정의 각도를 이루도록 설치되어 있다. 바람직하게는, 제 1 세정 유닛(21)은 다수의 고압 분사 노즐들이 배치된 노즐형 분사 유닛이며, 제 2 및 제 3 세정 유닛(22, 23)은 슬릿형 분사 유닛이다.
한편, 왕복 분사 유닛(27)은 제 2 세정 유닛(22)과 제 3 세정 유닛(23) 사이에서 기판P의 이송 방향과 평행하게 배열되어 있으며, 그 위에 설치된 레일 등의 수단(미도시)에 의해 기판(P)의 폭방향으로 왕복이동 가능하다. 이 왕복 분사 유닛(27)으로는 다수의 노즐을 가지는 노즐형 분사 유닛이 사용된다.
건조부(30)의 구성은 앞서의 실시예의 건조부와 동일하므로 여기서는 더 이상 설명하지 않는다.
바람직하게는, 롤러 컨베이어(10)는 세정부(20)를 통과하는 구간에서 기판(P)이 소정 각도로 경사진 상태로 이송되도록 구성된다. 이는, 도 5와 같이, 이송축(16)에 설치되어 기판(P)을 지지하는 롤러들(17)의 직경이 일측에서 타측으로 갈수록 작게 형성되는 것에 의해 실현될 수 있다. 이와 같이 기판(P)이 경사진 상태에서 진행됨으로써 세정액 및 오염물이 기판(P)으로부터 신속하게 제거될 수 있다. 다만, 기판(P)의 경사가 너무 심하면 기판P에 가해지는 응력(stress)으로 인하여 기판이 파손될 우려가 있으므로, 기판(P)의 경사는 대략 1 내지 10°가 바람직하다.
이상과 같은 구성으로, 이 실시예에서는 기판(P)이 세정부(20)로 들어가기전에 린스부(40)에서 먼저 기판(P)에 대한 린싱 작업이 이루어진다. 그리고, 이 실시예에서는 앞서의 실시예와 달리 세정액 흡입 유닛이 없는 대신, 왕복 분사 유닛27이 기판(P)의 폭방향으로 왕복하면서 기판(P) 표면의 잔류물을 기판(P) 밖으로 쓸어내린다.
상기된 바와 같이, 본 고안에 따른 기판 세정 장치는 슬릿형 분사 유닛과 같이 세정력이 우수한 세정 유닛을 사용하면서 다수의 세정 유닛들을 일정한 공간 내에 집중적으로 배치함으로써, 적은 양의 세정액을 소모하면서도 신속하고 우수한 세정 능력을 얻을 수 있으며, 기판의 대형화에도 충분히 대응할 수 있는 장점이 있다.
이상에서는, 본 고안을 특정의 바람직한 실시예에 대해서 도시하고 설명하였다. 그러나, 본 고안은 상술한 실시예에만 한정되는 것은 아니며, 본 고안이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이하의 실용신안등록청구범위에 기재된 본 고안의 기술적 사상의 요지를 벗어남이 없이 얼마든지 다양하게 변경실시할 수 있을 것이다.
Claims (6)
- 투입부에서 배출부까지 기판을 이송하기 위한 롤러 컨베이어;기판의 진행 방향을 따라 소정 간격으로 배치되어 기판의 표면으로 세정액을 분사하는 제 1 내지 제 3 세정 유닛을 포함하는 세정부; 및상기 세정부를 통과한 기판의 표면에 잔류하는 이물질을 제거하도록 설치된 에어 나이프를 가지는 건조부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
- 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 세정 유닛은 노즐형 분사 유닛이고, 제 2 및 제 3 세정 유닛은 슬릿형 분사 유닛인 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 기판 표면의 세정액과 오염물을 흡입, 제거하는 한 쌍의 흡입 유닛이 상기 세정 유닛들 사이에 설치되는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 기판의 진행 방향과 평행하게 배치되어 기판의 폭방향으로 왕복이동되면서 기판으로 순수를 분사하는 왕복 분사 유닛이 상기 제 2 세정 유닛 및 제 3 세정 유닛 사이에 설치되는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
- 제 1 항에 있어서, 상기 투입부와 세정부 사이에 설치되며, 상기 기판의 이송 방향과 직교하게 배열되고 상기 기판의 이송 방향으로 왕복 이동가능하게 설치되어 상기 기판에 린싱용 순수를 분사하는 하나 이상의 왕복 분사 유닛을 가지는 린스부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
- 제 1 항에 있어서, 상기 롤러 컨베이어는 기판이 상기 세정부를 통과할 때 수평면에 대해 소정 각도로 경사진 상태에서 이송되도록 구성된 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
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Cited By (3)
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|---|---|---|---|---|
| WO2004097928A1 (en) * | 2003-04-30 | 2004-11-11 | Sang-Ki Lee | Support holder of the substrate and device for centering or feeding using the same |
| KR101284683B1 (ko) * | 2007-03-08 | 2013-07-16 | 주식회사 케이씨텍 | 기판 세정용 나이프 |
| KR20190051360A (ko) * | 2017-11-06 | 2019-05-15 | 대한민국(농촌진흥청장) | 오염곡물 판별시스템 |
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2002
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| KR20190051360A (ko) * | 2017-11-06 | 2019-05-15 | 대한민국(농촌진흥청장) | 오염곡물 판별시스템 |
| KR102026771B1 (ko) | 2017-11-06 | 2019-09-30 | 대한민국 | 오염곡물 판별시스템 |
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