JP2001104897A - 超音波洗浄装置及び洗浄方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 複雑な構造及び多量の洗浄液の流通を要せず
に超音波の振動素子の安定的動作を可能にし、洗浄時の
ランニングコストを低減し確実に洗浄できる超音波洗浄
装置を提供する。加えて、被洗浄物の上下両面の洗浄を
容易に行うことができる超音波洗浄装置及び超音波洗浄
方法を提供する。 【解決手段】 搬送ローラは、被洗浄物（基板）１１
を、略搬送方向を軸にして傾斜させて搬送する。上部洗
浄液供給ノズル１２は、傾斜して搬送される基板１１の
搬送経路の上方に配置され、被洗浄物の上面に上面用洗
浄液１３を供給する。下部洗浄液供給ノズル１４は基板
１１の搬送経路下方に配置され、基板１１の下面に、超
音波を印加した下面用洗浄液１５を供給する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば液晶表示素
子、ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）等のフラッ
トパネルディスプレイや半導体の製造工程で用いられる
超音波洗浄装置、及び、超音波洗浄方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えば、液晶表示素子、ＰＤＰ等のフラ
ットパネルディスプレイや半導体基板等の製造工程で用
いられる、従来の枚葉ディップ式の超音波洗浄装置の洗
浄部は、洗浄液を貯えた洗浄層の下方に振動板などの振
動素子を備えた構成となっている。そして、洗浄液中に
基板などの被洗浄物を浸漬した状態で、振動板を動作さ
せることにより、該洗浄液に超音波振動が照射されて被
洗浄物の超音波洗浄が行われる。

【０００３】しかしながら、上記の超音波洗浄装置は基
板などの被洗浄物を浸漬させるものであるため、多量の
洗浄液が必要である。また、洗浄層に貯えられた洗浄液
の交換は一定期間毎に行われるため、洗浄液の交換前は
洗浄液がある程度汚染されており、被洗浄物の洗浄の仕
上がりが不十分となるおそれがある。さらに、洗浄処理
を行う際には、洗浄液中に被洗浄物を浸漬する間少なく
ろも被洗浄物の搬送を停止する必要があるため、処理に
時間がかかることとなる。

【０００４】一方、被洗浄物に対して、超音波洗浄ノズ
ルにより洗浄液を供給する枚葉式の超音波洗浄装置の洗
浄部は、図７に示すように、被洗浄物である基板１０１
の上方に超音波洗浄ノズル１０２を備えている。そし
て、超音波が印加された洗浄液１０３を水平に保って搬
送される基板１０１の上面に対して噴射し、該基板１０
１に付着した例えば有機物、金属等のパーティクルを除
去し洗浄を行う。

【０００５】洗浄液１０３の噴射形態としては、超音波
ノズル１０２より基板１０１の幅長と同等以上の幅でシ
ャワー状に洗浄液１０３を噴射しさらに振動子により洗
浄液１０３に超音波を照射するシャワー式が一般的に用
いられている。

【０００６】上記構成によれば、基板１０１の洗浄を常
に新しい洗浄液１０３により行うことができる。また、
基板１０１の洗浄は、図示しない搬送ローラ等によって
該基板１０１を搬送しながら行うことができる。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記振動子
は、気泡等のない液体中にて動作を行わないと、発熱に
より短時間で破壊されてしまう。そのため、超音波発振
時には振動素子を洗浄液１０３等の液体で充分満たして
おく必要がある。また、洗浄液１０３は水平に搬送され
る基板１０１上に滞留させないようにし、液置換の遅れ
を防止する必要がある。

【０００８】ところが、上記説明の従来の超音波洗浄装
置は、被洗浄物として基板１０１の上方に、下向きにノ
ズル口１０２ａが設けられており、そこから洗浄液１０
３を下方に噴射する構造である。したがって、ノズル口
１０２ａより気泡が侵入しやすい。また、洗浄液１０３
の流通経路がノズル１０２から下方ないし斜め下方に伸
びる構造であり、流通経路内に設けられた振動素子が作
動することにより発生した気泡が、その周辺に残留しや
すい。さらに、いったん混入した気泡は、洗浄液１０３
の流通経路外に排出されにくい。

【０００９】この問題点を解決するため、洗浄液１０３
を常時流し、振動子周辺に気泡が残留することを防ぐこ
とが考えられるが、この場合、例えば超音波洗浄ノズル
１０２に複数の洗浄液供給路を設け、超音波洗浄ノズル
１０２内壁をテーパ形状にするなどの複雑な構造を必要
とする。また、ノズル口１０２ａより気泡を排出するた
めに、常時、多量の洗浄液１０３を流動させることが必
要とされる。

【００１０】さらに、基板搬送が水平のため、中央部に
洗浄液１０３の滞留が起こり、基板１０１端面との液置
換の遅れから、洗浄の不均一の要因となる。このような
問題は、基板の大型化に伴い、ますます顕著になってき
ている。

【００１１】さらに、上記超音波洗浄装置では、常時、
多量の洗浄液１０３を流動させることが必要であるのに
も関わらず、基板１０１の両面の洗浄を同時に行うこと
ができず、両面を洗浄するためには２回の洗浄が必要で
あり、莫大な洗浄液を要することになる。

【００１２】本発明は、上記問題点を解決するためにな
されたものであり、その目的は、複雑な構造及び多量の
洗浄液の流通を要せずに超音波の振動素子の安定的動作
を可能にし、洗浄時のランニングコストを低減し確実に
洗浄できる超音波洗浄装置及び洗浄方法を提供すること
にある。加えて、被洗浄物の上下両面の洗浄を容易に行
うことができる超音波洗浄装置及び超音波洗浄方法を提
供することにある。

【００１３】

【課題を解決するための手段】第１の発明の超音波洗浄
装置は、被洗浄物を略水平方向に搬送するとともに、前
記被洗浄物を超音波を用いて洗浄する超音波洗浄装置に
おいて、前記被洗浄物を、略搬送方向を軸にして傾斜さ
せて搬送する傾斜搬送手段と、該傾斜搬送手段による前
記被洗浄物の搬送経路の上方に配置され、前記被洗浄物
の上面に上面洗浄液を供給する上部洗浄液供給手段と、
前記傾斜手段による前記被洗浄物の搬送経路下方に配置
され、前記被洗浄物の下面に、超音波を印加した下面洗
浄液を供給する下部洗浄液供給手段と、を具備している
ことを特徴とする。

【００１４】第２の発明の超音波洗浄装置は、第１の発
明の超音波洗浄装置において、前記傾斜搬送手段による
前記被洗浄物の傾斜角度は、水平方向に対して５°以上
１５°以下であることを特徴とする。

【００１５】第３の発明の超音波洗浄装置は、第１また
は第２の発明の超音波洗浄装置において、前記上部洗浄
液供給手段は、下方から前記被洗浄物の搬送方向上流側
へ傾いた方向に向かって前記上面洗浄液を噴出するよう
形成されたノズル口を有していることを特徴とする。

【００１６】第４の発明の超音波洗浄装置は、第１乃至
第３のいずれかに記載の超音波洗浄装置において、前記
上部洗浄液供給手段は、前記上面洗浄液をライン状に噴
出するよう形成されており、前記傾斜搬送手段による前
記被洗浄物の傾斜の高い側ほど搬送方向上流側に位置す
るよう配置されていることを特徴とする。

【００１７】第５の発明の超音波洗浄装置は、超音波を
用いて被洗浄物を洗浄する超音波洗浄装置において、前
記被洗浄物の上面に、上方から上面洗浄液を噴出する上
部ノズル口を有する上部洗浄液供給手段と、前記被洗浄
物の下面に、超音波を印加した下面洗浄液を下方から噴
出する下部ノズル口を有する下部洗浄液供給手段と、を
具備し、前記上部ノズル口は、前記下部ノズル口よりも
狭ギャップに形成されていることを特徴とする。

【００１８】第６の発明の超音波洗浄装置は、第５の発
明の超音波洗浄装置において、前記上部洗浄液供給手段
は、上面洗浄液として新しい洗浄液を供給し、前記下部
洗浄液供給手段は、下面洗浄液として、前記基板に対し
て以前に供給された洗浄液を回収・フィルタリングした
再利用の洗浄液を供給することを特徴とする。

【００１９】第７の発明の超音波洗浄方法は、超音波を
用いて被洗浄物を洗浄する超音波洗浄方法において、前
記被洗浄物における高い清浄度を要求される側の面が上
を向くように、前記被洗浄物を配置し、下部ノズル口よ
り前記被洗浄物の下面に対して超音波を印加した下面洗
浄液を下方から供給するとともに、前記下部ノズル口よ
り狭ギャップに形成された上部ノズル口より前記被洗浄
物の上面に対して上方から上面洗浄液を供給することを
特徴とする。

【００２０】第８の発明の超音波洗浄方法は、第７の発
明の超音波洗浄方法において、前記被洗浄物を略搬送方
向を軸にして傾斜させて略水平方向に搬送しながら、前
記上面洗浄液、下面洗浄液の供給を行うことを特徴とす
る。

【００２１】

【発明の実施の形態】本発明の実施の一形態について、
図１〜図６に基づいて説明すれば、以下の通りである。
但し、これによって、本発明が限定されるものではな
い。例えば、ここでは液晶表示素子の洗浄について説明
するが、半導体素子等他の用途にも使用できることは言
うまでもない。

【００２２】本実施の形態にかかる超音波洗浄装置は、
液晶表示素子の製造工程において用いられるものであ
り、図１に示す基板（ガラス）１１は、図４に示すよう
に、搬送方向上流側から順に、ローダ部４１、第１洗浄
槽４２、第２洗浄槽４３、第３洗浄槽４４、乾燥部４
５、並びにアンローダ部４６により構成されている。
尚、第１〜第３洗浄槽（４２〜４４）をまとめて、以
下、洗浄処理部と称する。

【００２３】上記ローダ部４１は、基板１１を複数枚収
納可能な搬送専用カセットから順次１枚ずつ取りだし、
洗浄処理部側に一定距離間隔をあけて略水平に送り出す
ものである。基板１１の搬送時間は６００ｍｍ／分であ
り、超音波洗浄装置内のすべてのユニットで共通であ
る。

【００２４】ローダ部４１より洗浄処理部へと搬送され
た基板１１の洗浄処理は、具体的には、以下に示すよう
に行う。まず第１に、搬送方向の最上流側に位置する第
１洗浄槽４２において、ディスク状のブラシによる洗浄
を実行し、主に直径５μｍ以上の有機物、金属等のパー
ティクルを除去する。次に、搬送方向の下流側に続く、
第２洗浄槽４３において、高圧のジェット洗浄により直
径３〜５μｍ程度のパーティクルを除去する。そして、
搬送方向の最下流側に位置する第３洗浄槽４４におい
て、直径１〜３μｍ程度のパーティクルを除去する。上
記の洗浄処理部（第１乃至第３の洗浄槽４２〜４４）に
おいて洗浄された基板１１は、乾燥部４５に搬入され、
エアナイフにより乾燥される。続いて、アンローダ部４
６において順次カセットに収納され基板１１の洗浄処理
が完了する。

【００２５】次に、本発明の特徴部分である第３洗浄槽
４４について説明する。第３の洗浄槽４４は、超音波洗
浄によりパーティクルの除去を行うものである。図１〜
図３、図５，６を用いて詳述する。

【００２６】図１は第３の洗浄槽４４の構成及び洗浄方
法を説明する図である。第３の洗浄槽４４は、被洗浄物
としての基板１１の搬送経路の上方に上部洗浄液供給ノ
ズル１２を、搬送経路の下方に下部洗浄液供給ノズル１
４を有している。また、下部洗浄液供給ノズル１４は、
上部洗浄液供給ノズル１２に対し、基板１１を挟むよう
に相対している。尚、下部洗浄液供給用ノズル１４は上
部洗浄液供給ノズル１２に対して搬送方向上流側になら
ないように配置することが望ましい。

【００２７】上部洗浄液供給ノズル１２は基板１１の幅
長と略同等の幅長を有するライン状のスリットノズル口
１２ａ（１つのノズル口でも良いし、複数のノズル口を
配列したものであっても良い）を有し、上面用洗浄液１
３を基板１１の上面に対してシャワー供給する。一方、
下部洗浄液供給ノズル１４は基板１１の幅長と略同等の
幅長のノズル口１４ａより、基板１１の下面に対し、下
面用洗浄液１５を例えば周波数１ＭＨｚの超音波が印加
されたライン状のスリットシャワーとして供給する。

【００２８】図３は、図１の矢印Ｂからの矢視図であ
る。この図に示すように、基板１１は、略搬送方向を軸
としてｂ°傾いて略水平方向に搬送される。具体的に
は、基板１１を傾斜させながら略水平方向に搬送する搬
送ローラ（図示していない）が設けられている。

【００２９】図２は、図１の矢印Ａからの矢視図であ
る。この図に示すように、上部洗浄液ノズル１２は、傾
斜搬送されている基板１１の上面に対し、ノズル開口方
向が下方から搬送方向上流側に向かってａ°傾いて基板
１１の垂線に対してａ°傾いている）設けられており、
基板１１の上面に対して、下方から前記被洗浄物の搬送
方向上流側へ傾いた方向に向かって前記洗浄液を噴出す
る。ノズル開口方向が基板１に垂直または搬送方向下流
側に向いていると、洗浄液１３が既に洗浄された部位に
逆流して、洗浄液１３に溶け込んだ微粒子がその部位に
付着する惧れがあるが、本実施の形態のようにノズル開
口方向が下方から搬送方向上流側に向かってａ°傾いて
設けられていると、逆流に伴う微粒子の再付着を防止で
きる。この角度は、搬送速度等に応じて適度に調整すれ
ば良いが、例えば０°〜４５°である。

【００３０】また、図１に示すように、ライン状の上部
洗浄液ノズル１２は、その基板１１の搬送方向を軸とし
た傾きの上方側ほど搬送方向上流側において上面用洗浄
液１３を供給するように、搬送方向に直交する方向に対
して傾いて配置されていることが望ましい。すなわち、
ライン状の上部洗浄液ノズル１２のスリット開口部１２
ａのライン（長手方向）が基板１１の傾斜の高い方が傾
斜の低い方に比べて搬送方向上流側に位置するように配
置することが望ましい。

【００３１】上記ラインが搬送方向に直交している場
合、上面用洗浄液１３の傾斜方向下側への排出が阻害さ
れ、局所的な乾きむらが生じてしまう。また、上記ライ
ンが傾斜の高い方が傾斜の低い方に比べて搬送方向下流
側に位置していたら、傾斜の高い部分からの洗浄液１３
が傾斜の低い部分の洗浄後の部位に付着することになっ
てしまう。本実施の形態のように配置すれば、基板１１
上の洗浄液１３を重力によって自然に液切りすることが
でき、また傾斜の高い部分からの洗浄液１３が傾斜の低
い部分に流れてきても、その後に洗浄が行われるため問
題が生じない。また、洗浄液１３の逆流に伴う汚染も防
止できる。

【００３２】下部洗浄液供給ノズル１４は、上記説明の
ように超音波の照射された下面用洗浄液１５を基板１１
の下面に対し供給するものである。したがって、下部洗
浄液供給ノズル１４の構造は、上方に向かって下面用洗
浄液をライン状に供給できるようにスリット開口部（ノ
ズル口）１４ａ（１つのノズル口でも良いし、複数のノ
ズル口を配列したものであっても良い）を有している。

【００３３】下面用洗浄液１５の供給時に作動され、該
下面用洗浄液１５に対し超音波を発振する振動素子（図
示していない）は、下面洗浄液１５の流通経路内の、下
部洗浄液供給ノズル１４に設けられた供給口１４ａの上
流側（上記流通経路における上流側）に位置している。
ここで、流通経路とは、具体的には、下面用洗浄液１５
が、洗浄液供給ポンプ（図示していない）、洗浄液供給
管１６、下部洗浄液供給ノズル１４の開口部１４ａに至
るまでの経路である。

【００３４】上記流通経路は、振動素子の直下流側に位
置する部位が、上流側から下流側にかけて、上方に延び
ているように形成されている。このように構成すれば、
下面洗浄液１５の供給時に振動素子が作動することによ
り発生する気泡は、比重が小さいため、容易に下流側
（すなわち上方）に排出される。また、振動素子の下流
側に一旦排出された気泡が振動素子の周辺に侵入するこ
とはない。したがって、下面用洗浄液１５の供給時に
は、気泡が振動素子の周辺に侵入及び残留することがな
い。したがって、振動素子が発熱により損傷するおそれ
がない。

【００３５】上記振動素子の周波数は０．１ＭＨｚ〜１
０ＭＨｚの範囲の周波数帯で、高いパーティクル除去能
力が認められる。さらには、０．８ＭＨｚ〜２ＭＨｚの
範囲内であることが望ましく、基板１１に付着したパー
ティクルの９０％以上を除去し、洗浄面に損傷を与える
おそれもない。

【００３６】上面用洗浄液１３、下面用洗浄液１５は同
じもの使用しても良いし、別のものを使用しても良い。
具体的には、純水、超純水、水素水、オゾン水、界面活
性剤溶液等の超音波洗浄に使用される従来公知の洗浄液
を挙げることができるが、実験ではアルカリ水素水が洗
浄後の除去粒子の洗浄面に対する再付着が少なく、結局
粒子除去率が高い。

【００３７】基板１１に、それぞれ上面用洗浄液１３、
下面用洗浄液１５を供給するタイミングは、上部供給液
ノズルの下方にまた下部供給液ノズルの上方に基板１１
が位置するときのみに、上面洗浄液１３及び下面洗浄液
１５が供給されるように制御してもよい。このように供
給タイミング制御することにより、上面用洗浄液１３の
使用量をさらに削減することができる。

【００３８】以上説明した本実施の形態の洗浄方法、洗
浄装置では、第３の洗浄槽４４で、基板１１に上方より
上面用洗浄液１３を供給しながら、下方よりライン状の
超音波シャワー（下面用洗浄液１５）を照射する。基板
１１の下面に伝播した超音波振動は、洗浄液（上面用洗
浄液１３、下面用洗浄液１５）や基板１１の液体、固体
中では、ほぼ減衰されずに伝播される。そのため、本実
施の形態の構成によれば、基板１１の下面に伝播した振
動は基板１１の上面に伝播され、基板１１の両面の洗浄
を同時に実行することができ、上下面に付着した粒子を
同時に除去できる。

【００３９】また、本実施の形態では上部供給ノズル１
２からは超音波を供給せず、単に、洗浄液を均一に供給
することだけが目的であるため、上部供給ノズル１３の
開口部１３ａを狭ギャップ（スリット幅が狭い（開口部
がスリット状でないときには開口部の大きさが小さい）
ことを意味する）とすることができる。これにより、洗
浄液使用量を低減できる。図６は、本実施の形態の上部
供給ノズル１２を用いた場合と、従来のシャワー式の超
音波洗浄装置における供給ノズル（超音波の付与を行う
もの：図７参照）を用いた場合おいて、基板サイズ（５
５０ｍｍ×６００ｍｍ）の基板１１を洗浄した際の基板
１１の上面の洗浄に必要とされる洗浄液使用量を比較し
た図である。この図から分かるように、本実施の形態の
上部供給ノズル１２を用いれば、同一面積の基板を洗浄
するための洗浄液の使用量を約１／１０とすることがで
きる。

【００４０】なお、下部供給ノズル１４は、超音波を伝
播させるノズルであるため、上部供給ノズル１２のよう
に狭ギャップ（スリット幅が狭い（開口部がスリット状
でないときには開口部の大きさが小さい）ことを意味す
る）とすることはできないが、上述したように、下方か
ら洗浄液を供給する構成であるため、洗浄液滞留を防止
する必要が無く、図７の従来の供給ノズルよりは下面洗
浄液１５の使用量を抑制できる。

【００４１】また、本実施の形態では、基板１１を搬送
方向を軸として傾斜させている（傾斜角ｂ）ため、基板
１１上の洗浄液は長時間滞留することなく、重力によっ
て基板１１から落ちていく。したがって、滞留を防止す
る必要性が低減し、上面用洗浄液１３の使用量を大幅に
減らすことができる図５は、上面用洗浄液１３を滞留さ
せないための洗浄液使用量と上記傾斜角ｂの関係を実験
により求めた結果である。この図から、傾斜角ｂが５°
以上で、使用量が大きく減って、水平時（０°）に比べ
約１／５程度とすることができることが分かる。したが
って、傾斜角ｂとしては５°以上が好ましい。

【００４２】また、傾斜角ｂが大きくなりすぎると、基
板１１を乾かしてしまい、基板１１が汚染される惧れが
あり、また、基板搬送も複雑となる。よって、傾斜角ｂ
は１５°以下が望ましい。

【００４３】このように、本実施の形態によれば、上面
用洗浄液１３と下面用洗浄液１５の使用量を大幅に削減
することができ、低ランニングコストを実現できる。加
えて、振動素子周辺への気泡の侵入、残留を防止するた
めに特別な装置を設ける必要がなく、超音波洗浄装置の
構造を簡素化することができ、装置コストを低減するこ
とができる。

【００４４】尚、基板１１の下面に対して供給された下
面用洗浄液１５及び基板上面からこぼれおちた上面用洗
浄液１３を回収する回収手段及び回収された洗浄液をろ
過するフィルタリング手段をさらに設けることにより、
洗浄液を循環、再利用しさらに洗浄液使用量を低減する
ことも可能である。

【００４５】洗浄液を再利用する例について説明する。
例えば、液晶表示素子のガラス基板の場合、一方側の面
は半導体回路が形成されるため高い清浄度が要求される
が、他方側の面はそれほど高い清浄度は要求されない。
このような場合、高い清浄度を要する側の面を上面とし
て上部供給ノズル１２からの新しい洗浄液による洗浄を
施し、その反対の面(清浄化が低い面)は下部供給ノズル
１４からの再利用された洗浄液（以前に使用された洗浄
液を回収しフィルタリングしたもの）により洗浄するこ
とが考えられる。このようにすれば、比較的使用量が多
くなり得る下面用洗浄液は再利用洗浄液となり、使用量
が極めて少ない上面用洗浄液は新しい洗浄液となるた
め、少量の洗浄液による効率的な洗浄が可能となる。

【００４６】なお、以上の説明では基板の洗浄について
記したが、被洗浄物は基板に限るものではない。但し、
被洗浄物は板状のものであることが好ましい。

【００４７】

【発明の効果】本発明によれば、基板等の被洗浄物の両
面の洗浄を同時に実行することができ、上下面に付着し
た粒子を同時に除去できる。また、同一面積の被洗浄物
を洗浄するための洗浄液の使用量を大幅に削減できる。

【００４８】また、被洗浄物を搬送方向を軸として傾斜
させているため、被洗浄物上の洗浄液は長時間滞留する
ことなく、重力によって基板から落ちていく。したがっ
て、滞留を防止する必要性が低減し、上面用洗浄液の使
用量を大幅に減らすことができる。よって、低ランニン
グコストを実現できる。加えて、振動素子周辺への気泡
の侵入、残留を防止するために特別な装置を設ける必要
がなく、超音波洗浄装置の構造を簡素化することがで
き、装置コストを低減することができる。

【００４９】さらに、上面用洗浄液を供給するノズル口
を下面用洗浄液を供給するノズル口よりも狭ギャップ
（スリット幅が狭い（開口部がスリット状でないときに
は開口部の大きさが小さい）ことを意味する）とするこ
とで、上面での洗浄液の使用量を大幅に減少できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態にかかる超音波装置の超音
波洗浄部の構成を示す概略斜視図である。

【図２】図１の超音波洗浄部の矢視Ａからみた側面図で
ある。

【図３】図１の超音波洗浄部の矢視Ｂからみた側面図で
ある。

【図４】本発明の実施の形態にかかる超音波装置の構成
を示す説明図である。

【図５】基板の傾斜角と液置換に必要な上面用洗浄液量
との関係を表すグラフである。

【図６】従来の超音波シャワー方式と本発明との上面用
洗浄液量との関係を表すグラフである。

【図７】従来のシャワー式超音波洗浄装置の超音波洗浄
部の構成を示す概略の側面図である。

【符号の説明】

１１ 基板 １２ 上部洗浄液供給ノズル １３ 上面用洗浄液 １４ 下部洗浄液供給ノズル １５ 下面用洗浄液 １６ 洗浄液供給管

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 木村 崇 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内 Ｆターム(参考） 2H088 FA21 FA30 MA16 MA20 3B201 AA02 AB23 BA02 BB24 BB83 BB90 BB92 BB93 BB94 CB15 CC12

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 被洗浄物を略水平方向に搬送するととも
   に、前記被洗浄物を超音波を用いて洗浄する超音波洗浄
   装置において、 前記被洗浄物を、略搬送方向を軸にして傾斜させて搬送
   する傾斜搬送手段と、 該傾斜搬送手段による前記被洗浄物の搬送経路の上方に
   配置され、前記被洗浄物の上面に上面洗浄液を供給する
   上部洗浄液供給手段と、 前記傾斜手段による前記被洗浄物の搬送経路下方に配置
   され、前記被洗浄物の下面に、超音波を印加した下面洗
   浄液を供給する下部洗浄液供給手段と、を具備している
   ことを特徴とする超音波洗浄装置。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の超音波洗浄装置におい
   て、 前記傾斜搬送手段による前記被洗浄物の傾斜角度は、水
   平方向に対して５°以上１５°以下であることを特徴と
   する超音波洗浄装置。
3. 【請求項３】 請求項１または請求項２に記載の超音波
   洗浄装置において、 前記上部洗浄液供給手段は、下方から前記被洗浄物の搬
   送方向上流側へ傾いた方向に向かって前記上面洗浄液を
   噴出するよう形成されたノズル口を有していることを特
   徴とする超音波洗浄装置。
4. 【請求項４】 請求項１乃至請求項３のいずれかに記載
   の超音波洗浄装置において、 前記上部洗浄液供給手段は、前記上面洗浄液をライン状
   に噴出するよう形成されており、前記傾斜搬送手段によ
   る前記被洗浄物の傾斜の高い側ほど搬送方向上流側に位
   置するよう配置されていることを特徴とする超音波洗浄
   装置。
5. 【請求項５】 超音波を用いて被洗浄物を洗浄する超音
   波洗浄装置において、 前記被洗浄物の上面に、上方から上面洗浄液を噴出する
   上部ノズル口を有する上部洗浄液供給手段と、 前記被洗浄物の下面に、超音波を印加した下面洗浄液を
   下方から噴出する下部ノズル口を有する下部洗浄液供給
   手段と、を具備し、 前記上部ノズル口は、前記下部ノズル口よりも狭ギャッ
   プに形成されていることを特徴とする超音波洗浄装置。
6. 【請求項６】 請求項５に記載の超音波洗浄装置におい
   て、 前記上部洗浄液供給手段は、前記上面洗浄液として新し
   い洗浄液を供給し、 前記下部洗浄液供給手段は、前記下面洗浄液として、前
   記被洗浄物に対して以前に供給された洗浄液を回収・フ
   ィルタリングした再利用の洗浄液を供給することを特徴
   とする超音波洗浄装置。
7. 【請求項７】 超音波を用いて被洗浄物を洗浄する超音
   波洗浄方法において、 前記被洗浄物における高い清浄度を要求される側の面が
   上を向くように、前記被洗浄物を配置し、 下部ノズル口より前記被洗浄物の下面に対して超音波を
   印加した下面洗浄液を下方から供給するとともに、前記
   下部ノズル口より狭ギャップに形成された上部ノズル口
   より前記被洗浄物の上面に対して上方から上面洗浄液を
   供給することを特徴とする超音波洗浄方法。
8. 【請求項８】 請求項７に記載の超音波洗浄方法におい
   て、 前記被洗浄物を略搬送方向を軸にして傾斜させて略水平
   方向に搬送しながら、前記上面洗浄液、下面洗浄液の供
   給を行うことを特徴とする超音波洗浄方法。