JP4213805B2 - 乾燥処理装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
この発明はエアーナイフによって被処理物に気体を噴射してこの被処理物に付着した液体を除去する乾燥処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
たとえば、液晶表示装置や半導体装置の製造工程においては、被処理物としての液晶用ガラス基板や半導体ウエハなどの基板に回路パタ−ンを形成する成膜プロセスやフォトプロセスがある。これらのプロセスにおいては、上記基板をそれぞれの処理室で順次異なる処理液で処理してから洗浄液で洗浄した後、圧縮気体を噴射して乾燥処理するということが行われている。
【0003】
上記基板の乾燥処理を行う場合、乾燥処理装置が用いられる。乾燥処理装置は処理槽を有し、この処理槽内には圧縮気体を噴出するエアーナイフが配置されている。
【0004】
そして、上記基板が処理槽内に搬送されてくると、上記エアーナイフから上記基板に向けて噴射される気体によってその基板に付着した洗浄液が除去され、基板の乾燥処理が行われることになる。
【0005】
従来、上記処理槽の底部には排液管が接続され、側部には排気管が接続されていた。処理槽内には基板を搬送するための搬送ローラが長手方向に沿って所定間隔で配置されている。そのため、上記排気管は、搬送ローラとの干渉を避けるために上記処理槽の側部の上記搬送ローラよりも上方の位置に接続されている。
【0006】
このように、処理槽の側部の搬送ローラよりも上方、つまり処理槽内を搬送される基板よりも高い位置に排気管が接続されていると、エアーナイフから噴射されて基板に衝突した気体は処理槽内を上方へ舞い上がりながら上記排気管から排出されることになる。その結果、気体に含まれるミストが処理槽内で浮遊して乾燥処理された基板に付着し、その基板を汚染するという虞があった。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
このように、従来の乾燥処理装置は、エアーナイフから被処理物に向けて噴射された気体が処理槽内で舞い上がり、その結果、気体に含まれるミストが被処理物に付着し、その汚染を招くということがあった。
【0008】
この発明は、エアーナイフから噴射された気体が処理槽内で舞い上がることなく排気できるようにした乾燥処理装置を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】
この発明は、被処理物に気体を噴射して乾燥させる乾燥処理装置において、
一端側に搬入口が形成され他端側に搬出口が形成され上記搬入口側の幅方向一端部に向かって低く傾斜した底部を有する処理槽と、
この処理槽内に設けられ上記搬入口から搬入された上記被処理物を搬出口へ向けて搬送する搬送手段と、
この搬送手段によって処理槽内を搬送される上記被処理物に向けかつ被処理物の搬送方向とほぼ逆方向に気体を噴出するとともに上記処理槽の幅方向一端側に比べて他端側が上記被処理物の搬送方向に対して上流側に位置するよう上記処理槽内に設けられたエアーナイフと、
上記被処理物の搬送方向上流側となる上記処理槽の底部の最も低い位置に接続された排液管と、
この排液管に排液管を流れる液体が流れ込まない状態で接続され上記エアーナイフから噴出された気体を排出する排気管と
を具備したことを特徴とする。
【0010】
それによって、エアーナイフから被処理物に向けて噴射された気体は処理槽の底部に向って流れて排気されるから、処理槽内で舞い上がってミストが浮遊するのを防止することができる。
【0011】
さらに、上記処理槽の底部は、上記搬出口から搬入口に向って低く傾斜していて、その底部の最も低い位置には排液管が接続され、この排液管に上記排気管が上記排液管を流れる液体が流れ込まない状態で接続されている。
【0012】
それによって、排液管と排気管とを処理槽の底部の同じ位置に設けることができるから、排液管を処理槽の底部に邪魔にならないように設けることができる。
【0013】
【実施の形態】
以下、この発明の一実施の形態を図面を参照して説明する。
【0014】
図1はこの発明の乾燥処理装置を示し、この乾燥装置は処理槽1を備えている。この処理槽1は上面が幅方向一側壁1aから他側壁1bに向かって低く傾斜していて、その上面は開閉自在な内蓋2と外蓋3とによって閉塞されている。さらに、図2に示すように、処理槽1の長手方向一端面には搬入口1cが形成され、他端面には搬出口1dが形成されている。
【0015】
上記処理槽1の底部にはドレンパン4が設けられ、このドレンパン4は上記処理槽1の搬入口1c側の幅方向一端部に向かって低く傾斜していて、最も低い部分である、上記搬入口1c側の幅方向一端部には排液管5aが接続されている。この排液管5aには図3に示すように排気管5bのほぼL字状に屈曲された一端部がその開口端面を下方に向けて挿入接続されている。この排気管5bの他端は図1に示すように排気ポンプ10に接続されている。
【0016】
上記処理槽1の一側壁1aと他側壁1bとの高さ方向中途部にはそれぞれ複数の開口部6が幅方向と直交する、長手方向に沿って所定間隔で形成されている。上記処理槽1内には複数の搬送ロ−ラ7が両端部を一対の側壁1a、1bに形成された開口部6から外部に突出させて設けられている。つまり、複数の搬送ロ−ラ7は、被処理物としての液晶用ガラス基板や半導体ウエハなどの洗浄処理された基板Wの搬送方向に沿って所定間隔で配置され、後述するごとく上記搬入口1cから搬入された基板Wを搬出口1dの方向へ搬送するようになっている。
【0017】
上記処理槽1の両側壁1a、1bの外面側には、それぞれ第1の収容室8と第2の収容室9とがほぼ全長にわたって処理槽1と一体的に形成されていて、これらの収容室8、9に上記搬送ロ−ラ7の両端部が位置している。
【0018】
上記各収容室8、9には帯板状の支持体15が立設されている。支持体15には図1に示すように上記搬送ロ−ラ7が転がり軸受11を介して回転自在に支持されている。
【0019】
上記搬送ロ−ラ7には、上記基板Wを支持するための複数の支持部17が軸方向中心に対して左右に対称に設けられているとともに、両端部の上記処理槽1内に位置する部分にはそれぞれ円盤状の遮断部材18が外嵌固定されている。この遮断部材18は、上記搬送ロ−ラ7に付着した洗浄液がこの搬送ロ−ラ7の軸方向に沿って流れるのを阻止する。それによって、遮断部材18は、洗浄液が上記搬送ロ−ラ7を伝わって処理槽1の側壁1a、1bの開口部6から外部へ流出して滴下するのを防止するようになっている。
【0020】
上記処理槽1の一対の側壁1a、1bに形成された開口部6は、上端を上記側壁内面に固定した第1のカバ−21によって覆われている。この第1のカバ−21は上記搬送ロ−ラ7の上記遮断部材18よりも軸方向外側となる端部側に設けられている。第1のカバ−21よりも軸方向内方には、上記第1のカバ−21と所定間隔で対向した第2のカバ−22が上端を上記側壁内面に固定して設けられている。
【0021】
上記処理槽1内の上記搬出口1d側の端部には、搬送ロ−ラ7によって搬送される基板Wの上面側と下面側とにそれぞれ対向して上部エアーナイフ23と下部エアーナイフ24が処理槽1の幅方向に沿うとともに、基板Wの搬送方向に対して所定の角度で傾斜して設けられている。
【0022】
つまり、エアーナイフ23,24は、上記排液管5aが接続された処理槽1の幅方向一端部側に比べて他端部側が基板Wの搬送方向に対して上流側に位置するよう、水平方向に対して傾斜して配置されている。
【0023】
さらに、各エアーナイフ23,24は処理槽1内を搬送される基板Wの搬送方向と逆方向、つまり圧縮気体が噴射される下端が搬入口1c側に向けて所定の角度となるよう垂直方向に対して傾斜して配置されている。
【0024】
そして、各エアーナイフ23,24には図示しない供給源から空気や不活性ガスなどの圧縮気体が供給される。それによって、上記基板Wの上面と下面とに付着した洗浄液は基板Wの搬送方向後方側(基板Wの搬送方向と逆方向)で、処理槽1の排液管5aが接続された幅方向一端側に圧縮気体とともに流れるから、その上下面が乾燥処理されることになる。
【0025】
上記第1の収容室8の外側には図1に示すように駆動手段を構成するモ−タからなる駆動源25が配置されている。この駆動源25の駆動軸25aには駆動部材としての駆動スプロケット26が嵌着されている。この駆動スプロケット26の回転はチェ−ン27を介して従動スプロケット28に伝達される。なお、駆動源25を第1の収容室8の外部に設けることで、この収容室8を小さくすることができる。
【0026】
上記従動スプロケット28は従動軸31に嵌着されている。この従動軸31は上記第1の収容室8の底部、つまり第1の収容室8に突出した搬送ロ−ラ7の一端部よりも下方で、しかも軸線を上記搬送ロ−ラ7の軸線に対して直交させて回転自在に設けられている。
【0027】
上記従動軸31と上記搬送ロ−ラ7の一端部とには、図2に示すように互いに噛合する歯車33,34が設けられている。したがって、上記駆動源25の駆動軸25aが回転駆動されると、その回転がチェ−ン27を介して駆動スプロケット26から従動スプロケット28が設けられた従動軸31に伝達されるから、この従動軸31を介して搬送ロ−ラ7が回転駆動されることになる。それによって、搬送ロ−ラ7の支持部17に支持された基板Wが所定方向、つまり図2に矢印Aで示す搬入口1c側から搬出口1d側へ搬送されるようになっている。
【0028】
つぎに、上記構成の乾燥処理装置の作用について説明する。
【0029】
処理槽1の搬入口1cからその内部へ基板Wが搬入されると、その基板Wは回転駆動される搬送ローラ7によって搬出口1dの方向へ搬送される。基板Wがエアーナイフ23,24に対向する位置まで搬送されてくると、これらエアーナイフ23,24から基板Wの上面と下面とに向けて気体が噴射される。
【0030】
それによって、基板Wの上面と下面とに付着した洗浄液は基板Wの搬送方向と逆方向で、しかも基板Wの幅方向一端側に押し流されるから、基板Wが乾燥処理されることになる。
【0031】
基板Wから除去された洗浄液は、基板Wの幅方向一端側、つまり処理槽1の幅方向一端側に位置する排液管5aへ排出されることになる。また、基板Wに向けて噴射された気体は基板Wから除去される洗浄液とほぼ同じ経路で上記排液管5aを通って排気管5bへ排気されることになる。つまり、排液管5aには排気管5bを介して吸引ポンプ10の吸引力が作用するから、その吸引力によって洗浄液や基板Wに噴射された気体が排出されることになる。
【0032】
上記排気管5bは処理槽1の搬入口1b側の底部に排液管5aを介して接続されているから、エアーナイフ23,24から基板Wの上面と下面とに噴射された気体は基板Wの上下面に沿って流れた後、排液管5aの方向、つまり下方へ向って流れ、排液管5aを通じて排気管5bへ吸引されることになる。
【0033】
そのため、エアーナイフ23,24から噴射された気体は処理槽1内で上方へ舞い上がることなく、排液管5aが接続された下方に向って流れて排気されることになるから、上記気体に含まれるミストが処理槽1内に飛散して基板Wに付着するのを防止することができる。つまり、排出される気体に含まれるミストによって基板Wが汚染されるのを防ぐことができる。
【0034】
上記排気管5bは、L字状に折曲された端部が開口端面を下方に向けて排液管5aに挿入接続されている。そのため、排気管5bには、排液管5aから排出される洗浄液が流れ込むことがないから、気体だけを確実に排出することができる。つまり、処理槽1の底部の同一箇所に排液管5aと排気管5bとを、これらの機能を損うことなく接続することができるから、別々の箇所に接続する場合に比べて全体の構成をコンパクトにすることができる。
【0035】
さらに、エアーナイフ23,24を水平方向及び垂直方向に対して所定方向に傾斜させ、これらエアーナイフ23,24から噴射される気体の流れ方向を処理槽1内を搬送される基板Wの搬送方向と逆方向、つまり搬入口1c側方向に設定するとともに、その流れ方向に位置する搬入口1c側の処理槽1の底部に排液管5aと排気管5bとを接続した。そのため、エアーナイフ23,24から噴射された気体及びこの気体によって基板Wから除去される洗浄液が上記排液管5bの方向へ流れ易くなるから、そのことによってもエアーナイフ23,24から噴射された気体を洗浄液とともに処理槽1から円滑に排出することが可能となり、ミストを含んだ気体が搬出口1d側へは流れにくくなる。これにより、エアーナイフ23,24から噴射された気体によって乾燥処理された後の基板Wにはミストが付着しにくくなる。
【0036】
【発明の効果】
この発明によれば、被処理物の搬送方向上流側となる上記処理槽の底部に、エアーナイフから噴出された気体を排出する排気管を設けるようにした。
【0037】
そのため、処理槽内を搬送される被処理物に向けてエアーナイフから噴出される気体は被処理物を乾燥処理してから処理槽の底部に接続された排気管へ排気されるため、ミストを含んだ気体が処理槽内で舞い上がり、そのミストが基板に付着するのを防止することができる。
【0038】
さらに、排気管を、処理槽の底部に接続された排液管に、この排液管に流れる液体が流れ込むことがないように接続した。
それによって、排気管を排液管と処理槽の同じ箇所に設けることができるから、排気管を処理槽の底部に接続するために専用の接続箇所を確保しなくてすむ。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施の形態の乾燥処理装置を示す縦断面図。
【図2】同じく横断面図。
【図3】同じく処理槽に接続された排液管と排気管との接続部分の拡大断面図。
【符号の説明】
1…処理槽
5b…排気管
7…搬送ローラ(搬送手段)
23,24…エアーナイフ
W…基板(被処理物)
Claims (2)
- 被処理物に気体を噴射して乾燥させる乾燥処理装置において、
一端側に搬入口が形成され他端側に搬出口が形成され上記搬入口側の幅方向一端部に向かって低く傾斜した底部を有する処理槽と、
この処理槽内に設けられ上記搬入口から搬入された上記被処理物を搬出口へ向けて搬送する搬送手段と、
この搬送手段によって処理槽内を搬送される上記被処理物に向けかつ被処理物の搬送方向とほぼ逆方向に気体を噴出するとともに上記処理槽の幅方向一端側に比べて他端側が上記被処理物の搬送方向に対して上流側に位置するよう上記処理槽内に設けられたエアーナイフと、
上記被処理物の搬送方向上流側となる上記処理槽の底部の最も低い位置に接続された排液管と、
この排液管に排液管を流れる液体が流れ込まない状態で接続され上記エアーナイフから噴出された気体を排出する排気管と
を具備したことを特徴とする乾燥処理装置。 - 上記排気管はほぼL字状に屈曲された一端部の開口端面を下方に向けて上記排液管に挿入接続されていることを特徴とする請求項1記載の乾燥処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP03117099A JP4213805B2 (ja) | 1999-02-09 | 1999-02-09 | 乾燥処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP03117099A JP4213805B2 (ja) | 1999-02-09 | 1999-02-09 | 乾燥処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000230783A JP2000230783A (ja) | 2000-08-22 |
JP4213805B2 true JP4213805B2 (ja) | 2009-01-21 |
Family
ID=12323975
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP03117099A Expired - Fee Related JP4213805B2 (ja) | 1999-02-09 | 1999-02-09 | 乾燥処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4213805B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103528351A (zh) * | 2013-05-27 | 2014-01-22 | 广西北流市锦昌瓷业有限公司 | 链式干燥机节能装置 |
CN109631544A (zh) * | 2018-12-10 | 2019-04-16 | 浙江大学台州研究院 | 基于双涵道风刀的节能型合成革烘干设备 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3865717B2 (ja) * | 2003-06-27 | 2007-01-10 | 東京応化工業株式会社 | 基板乾燥装置および基板乾燥方法 |
JP2020040757A (ja) * | 2018-09-07 | 2020-03-19 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス板の製造装置、及びガラス板の製造方法 |
JP7031831B1 (ja) | 2021-03-16 | 2022-03-08 | 株式会社アルフテクノ | 乾燥装置 |
-
1999
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CN103528351A (zh) * | 2013-05-27 | 2014-01-22 | 广西北流市锦昌瓷业有限公司 | 链式干燥机节能装置 |
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---|---|
JP2000230783A (ja) | 2000-08-22 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060206 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070618 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070626 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070824 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080219 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080409 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20081028 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20081031 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111107 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111107 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121107 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131107 Year of fee payment: 5 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |