JP2003176982A - エアーナイフを用いた処理装置 - Google Patents
エアーナイフを用いた処理装置Info
- Publication number
- JP2003176982A JP2003176982A JP2001374570A JP2001374570A JP2003176982A JP 2003176982 A JP2003176982 A JP 2003176982A JP 2001374570 A JP2001374570 A JP 2001374570A JP 2001374570 A JP2001374570 A JP 2001374570A JP 2003176982 A JP2003176982 A JP 2003176982A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- air knife
- roller
- transport
- carry
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Cleaning In General (AREA)
- Drying Of Solid Materials (AREA)
Abstract
支持状態が損なわれることがないようにしたエアーナイ
フを用いた処理装置を提供することにある。 【解決手段】 搬送される基板26の上下両面に対向し
て上部エアーナイフ5と下部エアーナイフ6とを配置
し、各エアーナイフから基板の上面と下面とに圧縮空気
を噴射させることで、この基板に付着した処理液を除去
する処理装置において、処理槽1と、この処理槽に軸線
を基板の搬送方向に対して交差させて回転可能に設けら
れるとともに下部エアーナイフに対応する箇所で分断さ
れ基板を所定方向に沿って搬送する複数の搬送ローラ1
5と、搬送ローラの分断箇所の下部エアーナイフの基板
の搬送方向上流側と下流側に対応する位置の少なくとも
上流側に設けられ搬送ローラの分断箇所において基板の
搬送ローラによる支持状態が外れた部分を支持する支持
ローラ29とを具備する。
Description
着した処理液を上下一対のエアーナイフによって除去す
る処理装置に関する。
ラス製の基板に回路パターンを形成するフォトリソグラ
フィー工程では、上記基板を処理液で洗浄処理する洗浄
工程と、洗浄された基板から処理液を除去する乾燥工程
とが繰り返して行なわれる。
乾燥工程においては、基板を搬送しながらこの基板の上
面と下面とに上部エアーナイフと下部エアーナイフとか
ら圧縮空気を噴射して乾燥させるということが行なわれ
ている。このような処理装置としては特開平10−21
1473号公報に示されるものが提案されている。
は、所定方向一端に搬入口、他端に搬出口が形成された
処理槽を有する。この処理槽内には基板の搬送方向に沿
って複数の搬送ローラが所定間隔で配置されている。
上面側には上部エアーナイフが配置され、下面側には下
部エアーナイフが配置されている。各エアーナイフは基
板の搬送方向に対して所定の角度、たとえば45度の角
度で傾斜して設けられている。
た処理液を基板の搬送方向後端の角部に吹き寄せ、その
角部から除去するようにしている。つまり、エアーナイ
フを基板の搬送方向に対して所定の角度で傾斜させるこ
とで、基板の板面に付着した処理液を円滑かつ確実に除
去できるようにしている。
斜させて設ける場合、下部エアーナイフが搬送ローラの
下側に位置したのでは、下部エアーナイフから噴射され
る圧縮空気が上記搬送ローラに遮られるため、基板の下
面から処理液を均一かつ確実に除去することができない
ということがある。
対応する箇所で分断し、この下部エアーナイフから噴射
される圧縮空気が搬送ローラによって遮られることがな
いようにしている。
の下部エアーノズルに対応する部分を分断すると、搬送
ローラによって搬送される基板は、搬送ローラの分断さ
れた箇所において搬送ローラによる支持状態が外れ、そ
の状態で上部エアーノズルと下部エアーノズルから噴射
される圧縮空気を受けることになる。
で圧縮空気の圧力によってうねりが生じ易くなるから、
基板の搬送状態が不安定になったり、基板の板面に付着
した処理液がこの基板の板面から円滑に排出され難くな
るということがある。
ルと対応する部分を分断しても、その分断箇所でも基板
を確実に支持できるようにした処理装置を提供すること
にある。
方向に搬送される基板の上下両面に、この基板の搬送方
向に対して所定の角度で傾斜して対向する上部エアーナ
イフと下部エアーナイフとを配置し、各エアーナイフか
ら上記基板の上面と下面とに圧縮空気を噴射させること
で、この基板に付着した処理液を除去する処理装置にお
いて、所定方向の一端に搬入口、他端に搬出口を有する
処理槽と、この処理槽に軸線を上記所定方向に対して交
差させて回転可能に設けられるとともに上記下部エアー
ナイフに対応する箇所で分断され回転駆動されることで
上記基板を上記搬入口から搬出口に向けて搬送する搬送
ローラと、上記搬送ローラの分断箇所の上記下部エアー
ナイフの上記基板の搬送方向上流側と下流側に対応する
位置の少なくとも上流側に設けられ上記分断箇所におい
て上記基板の上記搬送ローラによる支持状態が外れた部
分を支持する支持ローラとを具備したことを特徴とする
エアーナイフを用いた処理装置にある。
記基板の搬送方向に対応する前後方向と、上記基板の板
面に対して直交する上下方向とに位置決め調整可能な構
成であることを特徴とする請求項1記載のエアーナイフ
を用いた処理装置にある。
と下部エアーナイフとの幅方向両端部はそれぞれ支持部
材によって回動可能に支持され、一方の支持部材には一
対のエアーナイフを同時に逆方向に回動させる角度調整
機構が設けられていることを特徴とする請求項1記載の
エアーナイフを用いた処理装置にある。
この搬送ローラが下部エアーナイフから噴射される圧縮
空気を遮ることがないようにしても、基板はその分断箇
所で支持ローラによって支持されるから、基板の支持状
態が損なわれてうねりが生じるのを防止できる。
明の一実施の形態を説明する。
装置を示し、この処理装置は処理槽1を備えている。こ
の処理槽1は箱型状をなしていて、所定方向の一端面に
は搬入口2が形成され、他端面には搬出口3が形成され
ている。
下部エアーナイフ6とが上記所定方向に対して所定の角
度、たとえば45度の角度で傾斜して設けられている。
各エアーナイフ5、6は図2に示すようにナイフ本体7
を有する。ナイフ本体7は一対の板状部材8,9を接合
してなり、これら板状部材8,9間には圧縮空気が供給
される導入部11が形成されている。各導入部11はナ
イフ本体7の先端部に形成されたノズル孔12に連通し
ている。
3が接続されている。したがって、供給管13から上記
導入部11に供給された圧縮空気は上記ノズル孔12か
ら噴射されるようになっている。
孔12が形成された先端部を所定の間隔で離間対向させ
て配置されている。
て一定間隔で搬送手段を構成する複数の搬送ローラ15
が設けられている。上記搬送ローラ15のうち、上記下
部エアーナイフ6の先端部に対応する搬送ローラ15
は、その箇所で左右一対の分断ローラ15a,15bに
分断されている。
れ支持部材16が幅方向と直交する上記所定方向全長に
亘って設けられている。上記各分断ローラ15a,15
bは、一端が上記支持部材16に回転可能に支持されて
いる。各分断ローラ15a、15bの他端は処理槽1の
内底面から立設された支柱部材17に回転可能に支持さ
れている。
6から突出した一端部には第1の従動プーリ18が嵌着
されている。処理槽1の搬入口2側に位置する搬送ロー
ラ15は下部エアーナイフ6と非対向であるため分断ロ
ーラに分断されておらず、一対の支持部材16から突出
した両端にも分断ローラ15a,15bと同様、第1の
従動プーリ18が嵌着され、さらにその搬送ローラ15
の一端には第2の従動プーリ21が嵌着されている。各
搬送ローラ15の一端部と他端部とに設けられた第1の
従動プーリ18には、それぞれ第1のベルト19が張設
されている。
によって回転駆動される駆動プーリ23とには第2のベ
ルト24が張設されている。それによって、上記駆動源
22が作動すれば、各分断ローラ15a,15bに分断
された搬送ローラ15及び分断ローラに分断されていな
い搬送ローラ15がそれぞれ同方向に回転駆動されるよ
うになっている。
て処理された矩形状の基板26が搬入口2から供給され
る。処理槽1に供給された基板26は、回転駆動される
搬送ローラ15によって搬出口3に向かって搬送され
る。基板26は、搬送の途中で上部エアーナイフ5と下
部エアーナイフ6との対向する先端部間を通過する。そ
れによって、基板26の上面と下面とに付着残留した処
理液が各エアーナイフ5、6のノズル孔12から噴射さ
れる圧縮空気によって基板26の搬送方向後端側の一方
の角部へ押し流されて除去される。
a、15bを含む)には基板26を部分的に支持するた
めの複数のローラ部25が軸方向に所定間隔で設けられ
ている。
15bに分断された箇所には、下部エアーノズル6を挟
んで基板26の搬送方向上流側と下流側とにそれぞれ支
持体28に回転可能に支持された支持ローラ29が設け
られている。支持ローラ29は、上記搬送ローラ15に
設けられたローラ部25よりも小径に形成され、回転軸
線を上記搬送ローラ15の軸線と平行にし、さらに上端
を搬送ローラ15と同じレベルにして設けられている。
ス部材31を有し、このベース部材31上には第1の可
動体32が基板26の搬送方向に沿って移動可能に設け
られている。この第1の可動体32には、上記ベース部
材31の一端に立設された第1の取付け部材33に回転
可能に支持された前後送りねじ34が螺合されている。
それによって、上記第1の可動体32は上記前後送りね
じ34によって基板26の搬送方向に沿う前後方向に位
置決め調整できるようになっている。
立設されている。この支柱部材35には第2の可動体3
6が支柱部材35に沿う上下方向に移動可能に設けられ
ている。この第2の可動体36には上下送りねじ37が
螺合されている。この上下送りねじ37は上記支柱部材
35の上端に設けられた第2の取付け部材38に回転可
能に支持されている。したがって、上下送りねじ37を
回転させることで、上記第2の可動体36を上下方向、
つまり搬送される基板26の板面に対して直交する方向
に位置決め調整できるようになっている。
て、支柱部材35に上下動可能に支持された一端部には
固定ねじ39を螺合できるようになっており、この固定
ねじ39を締め付けることで、上記第2の可動体36を
移動不能に固定できる。
ーラ29が上述した状態で回転可能に設けられている。
したがって、この支持ローラ29は上記支持体28によ
って基板26の搬送方向に沿う前後方向と、基板26の
板面に直交する上下方向とに位置決め調整できるように
なっている。
けられたローラ部25よりも小径に形成されている。そ
のため、搬送ローラ15のローラ部25による基板26
の円滑な搬送が上記支持ローラ29によって阻害される
ことがない。
フ6とは、図4に示すように幅方向両端に支軸41が設
けられ、各支軸41はそれぞれ左右一対の支持部材とし
てのブロック42に回転可能に支持されている。
42には、それぞれ操作軸43がこれらのブロック42
を貫通して回転可能に支持されている。上記操作軸43
の上部エアーナイフ5を支持したブロック42の上面か
ら突出した部分には、操作摘み44と第1のベベルギア
45とが固定され、下部エアーナイフ6を支持したブロ
ック42の下面から突出した下端部には第2のベベルギ
ア46が設けられている。
イフ5をブロック42に回転可能に支持した一方の支軸
41に嵌着固定された第3のベベルギア47に噛合し、
第2のベベルギア46は下部エアーナイフ6を回転可能
に支持した一方の支軸41に嵌着固定された第4のベベ
ルギア48に噛合している。それによって、上記操作摘
み44を介して操作軸43を回転させれば、第3、第4
のベベルギア47,48を図5に矢印で示すように逆方
向に回転させることができるから、その回転に一対のエ
アーナイフ5、6を連動させることができる。
から噴射される圧縮空気の基板26の板面に対する角度
を設定することができる。なお、上記操作軸43、第1
乃至第4のベベルギア45〜48によってエアーナイフ
5,6の角度調整機構を構成している。
26を乾燥処理する場合について説明する。処理液によ
って処理された基板26が処理槽1に送り込まれると、
その基板26は回転駆動される搬送ローラ15によって
所定方向に沿って搬送される。基板26が上部エアーナ
イフ5と下部エアーナイフ6との先端部間を通過する
と、各エアーナイフ5,6のノズル孔12から基板26
の搬送方向後方に向かって噴射される圧縮空気により、
基板26の上面と下面とに付着した処理液が搬送方向後
方に押し流され、この基板26の一方の角部から円滑に
排出される。それによって、基板26が乾燥処理される
ことになる。
対応する部分を分断し、分断ローラ15a,15bとし
たことで、下部エアーナイフ6は分断ローラ15a,1
5bの分断箇所から露出する。そのため、下部エアーナ
イフ6から噴射される圧縮空気は搬送ローラ15によっ
て邪魔されることなく基板6の下面側に到達するから、
基板26の下面を上記下部エアーナイフ6によって確実
に乾燥処理することができる。
bに分断したことで、その分断箇所で基板26は支持さ
れていない状態になり、各エアーナイフ5,6から噴射
される圧縮空気の圧力及び自重によって基板26にうね
りが生じる虞がある。
所には、支持ローラ29が下部エアーナイフ6を挟んで
基板26の搬送方向上流側と下流側とに設けられてい
る。そのため、搬送ローラ15の分断箇所において、基
板26は支持ローラ29によって支持されるため、基板
26にうねりが生じるのが防止されるから、基板26を
安定した状態で確実に搬送することができるばかりか、
基板26に付着した処理液の除去も確実かつ円滑に行な
うことができる。
送方向に沿う前後方向と、基板26の板面に対して垂直
な上下方向とに位置決め調整できるようにしたから、支
持ローラ29を、搬送される基板26の下面に確実に接
触する高さに調整することができる。そのため、そのこ
とによっても、搬送ローラ15の分断箇所で、基板26
にうねりが生じるのを防止することができる。さらに、
支持ローラ29は、搬送ローラ15にも受けられたロー
ラ部25よりも小径なので、下部エアーナイフ6に近接
して設けることができる。
とは、操作摘み44によって操作軸3を回転させること
で、同時に角度調整することができる。そのため、一対
のエアーナイフ5,6の角度調整を、別々に行なう場合
に比べて容易に、しかも確実に行なうことができる。
分断箇所には、下部エアーナイフを挟んで基板の搬送方
向上流側と下流側との両方向にそれぞれ支持ローラを設
けるようにしたが、圧縮空気は基板の搬送方向後端側
(上流側)に向けて噴射されるから、圧縮空気による撓
みを防止するだけであれば、支持ローラはエアーナイフ
の上流側だけに設けるようにしてもよい。
ーラを分断し、この搬送ローラが下部エアーナイフから
噴射される圧縮空気を遮ることがないよう分断したとき
に、その分断箇所に基板を支持する支持ローラを設ける
ようにした。
所では搬送ローラに代わり支持ローラによって支持され
るから、上記分断箇所で基板の支持状態が損なわれてう
ねりなどの変形が発生するのを防止できる。
面図。
図。
を示す正面図。
Claims (3)
- 【請求項1】 所定方向に搬送される基板の上下両面
に、この基板の搬送方向に対して所定の角度で傾斜して
対向する上部エアーナイフと下部エアーナイフとを配置
し、各エアーナイフから上記基板の上面と下面とに圧縮
空気を噴射させることで、この基板に付着した処理液を
除去する処理装置において、 所定方向の一端に搬入口、他端に搬出口を有する処理槽
と、 この処理槽に軸線を上記所定方向に対して交差させて回
転可能に設けられるとともに上記下部エアーナイフに対
応する箇所で分断され回転駆動されることで上記基板を
上記搬入口から搬出口に向けて搬送する複数の搬送ロー
ラと、 上記搬送ローラの分断箇所の上記下部エアーナイフの上
記基板の搬送方向上流側と下流側に対応する位置の少な
くとも上流側に設けられ上記分断箇所において上記基板
の上記搬送ローラによる支持状態が外れた部分を支持す
る支持ローラとを具備したことを特徴とするエアーナイ
フを用いた処理装置。 - 【請求項2】 上記支持ローラは、上記基板の搬送方向
に対応する前後方向と、上記基板の板面に対して直交す
る上下方向とに位置決め調整可能な構成であることを特
徴とする請求項1記載のエアーナイフを用いた処理装
置。 - 【請求項3】 上記上部エアーナイフと下部エアーナイ
フとの幅方向両端部はそれぞれ支持部材によって回動可
能に支持され、一方の支持部材には一対のエアーナイフ
を同時に逆方向に回動させる角度調整機構が設けられて
いることを特徴とする請求項1記載のエアーナイフを用
いた処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001374570A JP3880386B2 (ja) | 2001-12-07 | 2001-12-07 | エアーナイフを用いた処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001374570A JP3880386B2 (ja) | 2001-12-07 | 2001-12-07 | エアーナイフを用いた処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003176982A true JP2003176982A (ja) | 2003-06-27 |
JP3880386B2 JP3880386B2 (ja) | 2007-02-14 |
Family
ID=19183115
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001374570A Expired - Fee Related JP3880386B2 (ja) | 2001-12-07 | 2001-12-07 | エアーナイフを用いた処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3880386B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006003036A (ja) * | 2004-06-18 | 2006-01-05 | Shimada Phys & Chem Ind Co Ltd | 乾燥装置 |
JP2010093196A (ja) * | 2008-10-10 | 2010-04-22 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板乾燥装置 |
JP2014525824A (ja) * | 2011-06-28 | 2014-10-02 | シルベント アーベェ | スチール素材等の材料又は構造物を洗浄するための装置 |
JP7055839B2 (ja) | 2020-06-25 | 2022-04-18 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 基板処理装置 |
-
2001
- 2001-12-07 JP JP2001374570A patent/JP3880386B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006003036A (ja) * | 2004-06-18 | 2006-01-05 | Shimada Phys & Chem Ind Co Ltd | 乾燥装置 |
JP2010093196A (ja) * | 2008-10-10 | 2010-04-22 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板乾燥装置 |
KR101092750B1 (ko) | 2008-10-10 | 2011-12-09 | 다이니폰 스크린 세이조우 가부시키가이샤 | 기판 건조 장치 |
TWI386613B (zh) * | 2008-10-10 | 2013-02-21 | Dainippon Screen Mfg | Substrate drying device |
JP2014525824A (ja) * | 2011-06-28 | 2014-10-02 | シルベント アーベェ | スチール素材等の材料又は構造物を洗浄するための装置 |
US10245622B2 (en) | 2011-06-28 | 2019-04-02 | Silvent Ab | Device for cleaning a material or structure, E.G. A steel material |
JP7055839B2 (ja) | 2020-06-25 | 2022-04-18 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 基板処理装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3880386B2 (ja) | 2007-02-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3918401B2 (ja) | 基板乾燥装置及び乾燥方法、並びに基板の製造方法 | |
TWI419251B (zh) | Substrate processing device (1) | |
TWI359472B (en) | Apparatus for carrying substrates and method of ca | |
CN101266916A (zh) | 基板处理装置 | |
JPH0536658A (ja) | 基板洗浄・乾燥装置 | |
TWI421966B (zh) | Substrate processing device | |
JP2003300618A (ja) | 基板搬送機構 | |
JP2004216568A (ja) | 板材の縦型加工ライン | |
TWI364069B (en) | Apparatus for treating substrates | |
JPH07283185A (ja) | 基板洗浄装置 | |
JP2003176982A (ja) | エアーナイフを用いた処理装置 | |
JP3964556B2 (ja) | エアーナイフおよびそれを用いた乾燥処理装置 | |
JP3550277B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP4602567B2 (ja) | 基板の洗浄装置 | |
JP4452033B2 (ja) | 基板の搬送装置及び搬送方法 | |
JP3901635B2 (ja) | 板材の酸処理設備 | |
JP3866856B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JPS6048811A (ja) | 板状体の搬送装置 | |
JPH09232268A (ja) | 基板処理装置 | |
JP2001099569A (ja) | 基板の乾燥処理装置 | |
JP2004153033A (ja) | 基板処理装置 | |
JP3949065B2 (ja) | インライン式処理装置 | |
JP2006003036A (ja) | 乾燥装置 | |
JPH09276773A (ja) | 基板処理装置 | |
JP2001102283A5 (ja) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20041206 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060808 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20061004 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20061031 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20061107 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 3880386 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101117 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111117 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121117 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121117 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131117 Year of fee payment: 7 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |