JP7055839B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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Description
図1及び図2に示すように、実施の一形態に係る基板処理装置10は、処理室20と、複数の気体吹出部30a、30bと、搬送部40と、複数の補助ローラ50と、複数の液飛散防止機構60(図2参照)とを備えている。この基板処理装置10には、前工程で液体により処理されて濡れた状態の基板Wが搬入される。そして、基板処理装置10は、搬入された基板Wを乾燥させて搬出する乾燥処理装置として機能する。
次に、前述の基板処理装置10が行う基板乾燥処理(基板乾燥工程)について説明する。
変形例1に係る液飛散防止機構60は、図5に示すように、制限部62を有する。この制限部62は、第1の気体吹出部30aから吹き出される気体により補助ローラ50が回転することを制限する。制限部62は、補助ローラ50の回転軸51に設けられており、例えば、第1の気体吹出部30aと補助ローラ50とが図3に示した位置関係である場合に、補助ローラ50における基板Wを搬送する方向(補助ローラ50における基板Wにより回転する方向)の回転を許可し、その逆方向(第1の気体吹出部30aから吹き出される気体により回転する方向)の回転を禁止する。制限部62としては、例えば、ワンウェイクラッチ機構(一方向クラッチ機構)などを用いることが可能である。
変形例2に係る液飛散防止機構60は、図6に示すように、速度低下部材63を有している。この速度低下部材63は、第1の気体吹出部30aから吹き出された気体による補助ローラ50の回転速度(補助ローラ50における基板Wにより回転する方向と逆方向への回転速度)を、補助ローラ50に付着した液体が補助ローラ50の回転によって飛散するときの回転速度より下げる。速度低下部材63は、搬送部40による基板Wの搬送を邪魔せず、例えば、補助ローラ50の回転軸51に接触するように設けられている。速度低下部材63としては、例えば、ゴムなどの摩擦抵抗部材を用いることが可能である。
前述の実施形態においては、第1の気体吹出部30aを搬送路A1の上方に設け、第2の気体吹出部30bを搬送路A1の下方に設けることを例示したが、これに限るものではなく、例えば、基板Wの上面だけを乾燥させる場合など、搬送路A1の上方だけに設けることも可能である。
30a 第1の気体吹出部
30b 第2の気体吹出部
40 搬送部
41 搬送ローラ
42 シャフト(搬送軸)
50 補助ローラ
60 液飛散防止機構
61 除去部材
62 制限部
63 速度低下部材
A1 搬送路
W 基板
Claims (4)
- 基板搬送路の上方に設けられ、前記基板搬送路に向けて気体を吹き出す第1の気体吹出部と、
前記基板搬送路の下方に設けられ、前記基板搬送路に向けて気体を吹き出す第2の気体吹出部と、
前記第2の気体吹出部により吹き出された前記気体を妨げないように分断された搬送軸を有し、前記基板搬送路に沿って前記基板を搬送する搬送部と、
前記搬送軸が分断された位置に対応して設けられ、駆動源を持たず、前記搬送部により搬送されて前記基板搬送路を移動する前記基板によって回転し、前記基板搬送路を移動する前記基板を支持する補助ローラと、
前記補助ローラに付着した液体が飛散することを防止する液飛散防止機構と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。 - 前記液飛散防止機構は、前記補助ローラに付着した液体を前記補助ローラから除去する除去部材を有することを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記除去部材は、前記補助ローラに接触するように設けられた、ブラシ、布、スポンジのいずれかであることを特徴とする請求項2に記載の基板処理装置。
- 前記補助ローラは、前記第1の気体吹出部又は前記第2の気体吹出部により吹き出された前記気体により、前記基板によって回転する方向と逆方向に回転する位置に設けられていることを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載の基板処理装置。
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- 2020-06-25 JP JP2020109523A patent/JP7055839B2/ja active Active
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