JP2001102283A5 - - Google Patents

Description

【書類名】 明細書
【発明の名称】 基板処理装置
【特許請求の範囲】
【請求項１】 基板を所定の搬送方向に搬送しつつその表面に処理液を供給して基板の表面処理を行う基板処理装置において、
表面処理されるべき基板を、上記搬送方向に直交する幅方向について水平状態から所定の角度だけ傾斜させつつ搬送する傾斜搬送手段と、
傾斜搬送手段により傾斜させられつつ搬送される基板の上記幅方向の所定位置において、傾斜させられつつ搬送される基板に供給すべき処理液を吐出する処理液供給手段と、
処理液供給手段から吐出された処理液が、傾斜させられつつ搬送される基板の幅方向上端に供給されるように案内する処理液案内手段と、
を備えたことを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】 処理液案内手段は、表面処理されるべき基板の幅方向の寸法に応じて交換可能であることを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項３】 基板を所定の搬送方向に搬送しつつその表面に処理液を供給して基板の表面処理を行う基板処理装置において、
表面処理されるべき基板を、上記搬送方向に直交する幅方向について水平状態から所定の角度だけ傾斜させつつ搬送する傾斜搬送手段と、
傾斜搬送手段により傾斜させられつつ搬送される基板の上記幅方向の所定位置において、傾斜させられつつ搬送される基板に供給すべき処理液を吐出する処理液供給手段と、
上記幅方向における予め定められた位置に固定され、傾斜搬送手段によって搬送される基板の幅方向上端に、処理液供給手段から吐出される処理液を案内する処理液案内手段と、
を備えたことを特徴とする基板処理装置。
【請求項４】 処理液供給手段は搬送方向に延びる吐出口を備え、吐出口の搬送方向の長さに応じて処理液案内手段も搬送方向に延びていることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の基板処理装置。
【請求項５】 処理液供給手段は、上記搬送方向に延びるスリットからなる吐出口を備えることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれかに記載の基板処理装置。
【請求項６】 処理液供給手段は、上記搬送方向に延びるシャワーパイプであることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の基板処理装置。
【請求項７】 処理液案内手段は、傾斜させられつつ搬送される基板の上面とほぼ平行な上面を有することを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれかに記載の基板処理装置。
【請求項８】 処理液案内手段の上記幅方向の下端は、傾斜させられつつ搬送される基板の上記幅方向の上端に重なるように配置されていることを特徴とする請求項１乃至請求項７に記載の基板処理装置。
【請求項９】 上記幅方向において、案内板の下端は、傾斜させられつつ搬送される基板の上端との間に所定の間隔を形成するように配置されていることを特徴とする請求項１乃至請求項７のいずれかに記載の基板処理装置。
【請求項１０】 傾斜搬送手段は、
上記搬送方向に直交する幅方向について水平状態から所定の角度だけ傾斜させられて互いに平行に配置され、その上に載置された基板を傾斜させつつ搬送方向に搬送するために互いに同期して回転させられる複数の搬送ローラと、
搬送ローラによって傾斜させられつつ搬送方向に搬送される基板の幅方向の下端を支持して基板の傾斜姿勢を規制し、基板を傾斜させつつ搬送方向に搬送するために回転させられる複数の支持ローラと、
を備えたことを特徴とする請求項１乃至請求項９のいずれかに記載の基板処理装置。
【請求項１１】 複数の搬送ローラと複数の支持ローラとは、搬送方向について交互に配置されていることを特徴とする請求項１０に記載の基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶表示装置用ガラス基板、プリント基板、プラズマディスプレイ用基板等の板状の基板（以下、基板と呼ぶ）に対して処理液を供給して処理をおこなう基板処理装置に関し、さらに詳しくは、基板を傾斜姿勢で搬送しながら、基板の上端縁部から現像液、エッチング液、剥離液、リンス液、等の処理液を供給して基板を処理する基板処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、基板を傾斜姿勢で搬送しながら、基板上端縁部から処理液ノズルにより基板表面へ処理液を供給して基板の処理をおこなう基板処理装置が知られている。このような傾斜搬送式の基板処理装置は、基板上の液の置換が迅速におこなわれる他、液切れが良好となるなどの優れた効果を奏する。
【０００３】
しかし、基板処理装置は、基板処理装置毎に処理される基板寸法が異なることが多いため、このような基板処理装置は、すべての基板寸法に対応して処理できるようにする必要がある。
【０００４】
しかし、従来の傾斜式基板処理装置においては、基板上端縁部の処理液ノズルの位置、または、搬送される基板の下端縁部を支持する支持ローラのいずれかの位置を、処理される基板寸法に対応させて配置しなければならず、処理される基板の寸法毎に、処理液ノズルの位置、または、搬送される基板の下端縁部を支持する支持ローラの、いずれかの配置が異なる複数種の基板処理装置を用意しなければならないという問題があった。
【０００５】
このような問題を解決するために、特開平０９−２３２２６８号公報においては、搬送される基板の幅寸法に応じて基板の上位側位置を一致させるべく、基板の下位側端縁を支持する支持ローラを、基板搬送ローラと平行な方向（処理液ノズル方向）へ移動可能にする装置が提案されている。
【０００６】
図４は特開平０９−２３２２６８号公報において提案された装置を表す模式図である。図４において、処理槽４０内には複数の搬送ローラ１００が設けられており、その軸心が基板Ｃの搬送方向に対して直交する面内であって、水平方向に対して傾斜して等ピッチで配置され、図示しない駆動手段により同期して回転するように構成されている。
【０００７】
処理槽４０内に搬送されてきた基板Ｃは、搬送ローラ１００に設けられた中央支持ローラ１３０上に載置されるとともに、基板Ｃの下端縁部を支持する支持ローラ１５０の周面に、基板Ｃの下端縁部を支持されながら処理槽４０内を搬送される。
【０００８】
支持ローラ１５０は、回転軸１４０に回転自在に軸支されており、回転軸１４０は、側板１６０に固設された軸受け部２００に軸支されたネジ軸１１０に螺合された可動支持体１９０に固設されている。ネジ軸１１０は図示しない駆動部により回転自在に構成されており、ネジ軸１１０が回転すると、ネジ軸１１０に螺合された可動支持体１９０が移動することで、支持ローラ１５０をネジ軸１１０の軸方向に沿って移動できるように構成されている。
【０００９】
基板Ｃの寸法に合わせて、支持ローラ１５０の基板支持位置を調整する場合は、ネジ軸１１０を回転させて可動支持体１９０の位置を移動するだけで、基板寸法に合わせた位置調整がおこなえるので、基板寸法毎に基板処理装置を用意する必要がなく、装置設計を標準化することが可能となり生産性も向上する。
【００１０】
一方、このような基板処理装置で処理される基板寸法は、基板処理装置毎に異なることは多いものの、同一の基板処理装置で処理する基板寸法を変更するケースは少ない。ところが、複数の基板寸法に対応するため、前述のように、処理する基板寸法に対応して、基板Ｃの下端縁部を支持する支持ローラ１５０の基板支持位置を切り替えるための機構を設けねばならず、機構が複雑化するとともにコストが高くなるという問題があった。
【００１１】
本発明は、上記のような問題点を解決するためになされたものであり、複雑な切替機構を設けることなく処理することが可能であるとともに、もし、必要により基板寸法を変更する場合も、簡易に基板の寸法変更に対応できる基板処理装置を提供することを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載の発明は、基板を所定の搬送方向に搬送しつつその表面に処理液を供給して基板の表面処理を行う基板処理装置において、
表面処理されるべき基板を、上記搬送方向に直交する幅方向について水平状態から所定の角度だけ傾斜させつつ搬送する傾斜搬送手段と、
傾斜搬送手段により傾斜させられつつ搬送される基板の上記幅方向の所定位置において、傾斜させられつつ搬送される基板に供給すべき処理液を吐出する処理液供給手段と、
処理液供給手段から吐出された処理液が、傾斜させられつつ搬送される基板の幅方向上端に供給されるように案内する処理液案内手段と、
を備えたことを特徴とする。
【００１３】
請求項２に記載の発明は、処理液案内手段は、表面処理されるべき基板の幅方向の寸法に応じて交換可能であることを特徴とする。
【００１４】
請求項３に記載の発明は、基板を所定の搬送方向に搬送しつつその表面に処理液を供給して基板の表面処理を行う基板処理装置において、
表面処理されるべき基板を、上記搬送方向に直交する幅方向について水平状態から所定の角度だけ傾斜させつつ搬送する傾斜搬送手段と、
傾斜搬送手段により傾斜させられつつ搬送される基板の上記幅方向の所定位置において、傾斜させられつつ搬送される基板に供給すべき処理液を吐出する処理液供給手段と、
上記幅方向における予め定められた位置に固定され、傾斜搬送手段によって搬送される基板の幅方向上端に、処理液供給手段から吐出される処理液を案内する処理液案内手段と、
を備えたことを特徴とする。
【００１５】
請求項４に記載の発明は、処理液供給手段は搬送方向に延びる吐出口を備え、吐出口の搬送方向の長さに応じて処理液案内手段も搬送方向に延びていることを特徴とする。
【００１６】
請求項５に記載の発明は、処理液供給手段は、上記搬送方向に延びるスリットからなる吐出口を備えることを特徴とする。
【００１７】
請求項６に記載の発明は、処理液供給手段は、上記搬送方向に延びるシャワーパイプであることを特徴とする。
【００１８】
請求項７に記載の発明は、処理液案内手段は、傾斜させられつつ搬送される基板の上面とほぼ平行な上面を有することを特徴とする。
【００１９】
請求項８に記載の発明は、処理液案内手段の上記幅方向の下端は、傾斜させられつつ搬送される基板の上記幅方向の上端に重なるように配置されていることを特徴とする。
【００２０】
請求項９に記載の発明は、上記幅方向において、案内板の下端は、傾斜させられつつ搬送される基板の上端との間に所定の間隔を形成するように配置されていることを特徴とする。
【００２１】
請求項１０に記載の発明は、傾斜搬送手段は、
上記搬送方向に直交する幅方向について水平状態から所定の角度だけ傾斜させられて互いに平行に配置され、その上に載置された基板を傾斜させつつ搬送方向に搬送するために互いに同期して回転させられる複数の搬送ローラと、
搬送ローラによって傾斜させられつつ搬送方向に搬送される基板の幅方向の下端を支持して基板の傾斜姿勢を規制し、基板を傾斜させつつ搬送方向に搬送するために回転させられる複数の支持ローラと、
を備えたことを特徴とする。
【００２２】
請求項１１に記載の発明は、複数の搬送ローラと複数の支持ローラとは、搬送方向について交互に配置されていることを特徴とする。
【００２３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を液晶用角形ガラス基板の処理をおこなう基板処理装置に適用した場合を例として、図面に基づいて実施の形態を説明する。
【００２４】
図１は本発明に係る基板処理装置１の一実施形態を示す概略構成図である。図１において、基板処理装置１は、前工程から搬送されてきた基板Ａを受け入れる基板導入部２と、基板導入部２から水平姿勢で搬送されてきた基板Ａを傾斜姿勢に変更する姿勢変更部３と、傾斜姿勢で搬送されてきた基板Ａの上部から処理液を供給して処理をおこなう処理部４と、処理液により処理された基板Ａの上部からリンス液を供給してリンスをおこなうリンス部５と、リンス処理された基板Ａを傾斜姿勢から水平姿勢に変更する姿勢変更部６と、水平姿勢に変更された基板Ａをエアナイフ１２により乾燥して次工程に導出する乾燥部７とが直列に配設されて形成されている。
【００２５】
そして基板処理装置１は、基板導入部２、姿勢変更部３、処理部４、リンス部５、姿勢変更部６、乾燥部７の順に基板Ａを搬送しつつ基板Ａに所定の処理を施すものである。
【００２６】
本実施形態では、基板Ａを搬送する基板搬送手段としてローラコンベアが適用されている。このローラコンベアは、基板Ａの搬送方向（図１の左方から右方に向かう方向）に直交する方向に支持軸を配した複数の搬送ローラ１０が、等ピッチで搬送方向に並設配置されて構成されている。
【００２７】
この搬送ローラ１０の並設ピッチは、基板Ａの搬送方向の寸法に対応して等ピッチに設定され、これによって、基板Ａは複数の搬送ローラ１０によって支持され得るようにしている。そして、回転駆動している複数の搬送ローラ１０上に基板Ａを載置することにより、基板Ａは各搬送ローラ１０の同期回転に伴って搬送方向（図１の右方）に向けて搬送されるようになっている。
【００２８】
基板Ａは、前工程からコンベアあるいはロボット等の上流側引継手段を介して基板導入部２に移され、ついで水平に等ピッチで配設された搬送ローラ１０ａの駆動によって、基板導入部２から姿勢変更部３へと水平搬送されて停止する。姿勢変更部３では、図示しない駆動手段により搬送ローラ１０ｂを傾斜姿勢に姿勢変更した後に、搬送ローラ１０ｂの駆動を再開して処理部４へと基板Ａを移送する。処理部４では、基板Ａは搬送ローラ１０ｃによって傾斜姿勢で搬送されつつ所定の処理が施された後、リンス部５に移送される。リンス部５において、基板Ａは搬送ローラ１０ｄにより傾斜姿勢で搬送されつつ、基板Ａに付着した処理液をリンスされた後に、姿勢変更部６に移送されて停止する。姿勢変更部６では、図示しない駆動手段により、搬送ローラ１０ｅを傾斜姿勢から水平姿勢に姿勢変更した後、搬送ローラ１０ｅの駆動を再開して基板Ａを乾燥部７へと移送する。乾燥部７では、基板Ａを搬送ローラ１０ｆにより水平に搬送させながら、乾燥部７に設けられたエアーナイフ１２によって、基板Ａの表面に付着したリンス液を乾燥させる。その後、乾燥部７の下流側で、コンベアあるいはロボット等からなる下流側引継手段を介して、次行程に向けて導出されるようになっている。
【００２９】
処理部４とリンス部５内において、上記各搬送ローラ１０ｃ、１０ｄは、その軸心が基板Ａの搬送方向に対して直交する面内であって、水平方向に対して傾斜して設けられている。
【００３０】
処理部４およびリンス部５内の、各搬送ローラ１０の傾斜角度は全て同一角度に設定されており、本実施形態では１５゜に設定している。これら搬送ローラ１０の上部に基板Ａが通過する基板搬送経路が形成され、これによって、基板Ａは処理部４およびリンス部５内において傾斜姿勢で基板搬送経路を搬送されつつ、所定の処理が施されるようになっている。また、詳細な説明は省略するが、リンス部５は処理部４と同一の構成となっている。
【００３１】
図２は、本発明に係る図１の基板処理装置１における、処理部４を搬送方向から見た様子を示す模式図であり、図２の（ａ）は全体を表し、図２の（ｂ）はその要部を拡大したものである。
【００３２】
図２の（ａ）において、処理部４内では、搬送ローラ１０ｃがその両端部を側板１６と側板１７に設けられた軸受け部により軸支されて、基板Ａの搬送方向に沿って傾斜姿勢で複数並設されており、図示しない駆動手段により同方向へ回転駆動するように構成されている。また、搬送ローラ１０ｃには、中央支持ローラ１３が搬送される基板Ａの寸法に応じて等ピッチで並設されている。
【００３３】
搬送ローラ１０ｃの中央支持ローラ１３は、処理される基板Ａを支持するのに必要な範囲にのみ設ければ良いので、搬送ローラ１０ｃは中央支持ローラ１３の取り付け位置と個数を調整するのみで、搬送方向と直交する方向の幅寸法（以下、幅寸法と称する。）が異なる複数種の基板Ａに対応することができる。
【００３４】
次に、搬送ローラ１０ｃの下方位置には、並設配置された各搬送ローラ１０ｃの中間位置に支持ローラ１５が設けられている。支持ローラ１５は、側板１６に固設された基部１９の、回転軸１４に回転自在に軸支されており、搬送ローラ１０ｃにより搬送される基板Ａの下端縁部を支持しながら回転することで、基板Ａを基板搬送経路に沿って搬送するように構成されている。処理部４に搬送される基板Ａは、基板Ａの幅寸法にかかわらず、支持ローラ１５との接線位置を基板Ａの下端側基準位置として搬送される。このように、搬送ローラ１０ｃと支持ローラ１５とを交互に配設することによって、搬送ローラと駆動部との接続空間が広くとれるので、駆動部との接続が容易となる。
【００３５】
搬送ローラ１０ｃの上部には、基板Ａの搬送方向に沿って延設された吐出口が形成されたスリットノズル８が設けられおり、その吐出口は、基板の幅寸法が、基板処理装置１で処理可能な最大幅寸法の基板Ｂ（以下、基板Ｂと称する）の、上部端縁に向けて処理液を供給するように配置されている。
【００３６】
上記スリットノズル８の下方には、基板Ａの幅寸法が、最大幅寸法の基板Ｂよりも短い場合に、スリットノズル８から供給される処理液を、基板Ａに案内するための処理液案内手段として、案内板２０が配置されている。
【００３７】
次に図２の（ｂ）により、案内板２０を中心として、スリットノズル８と基板Ａとの関係を詳細に説明する。図２（ｂ）において、案内板２０は、側板１７に一方を固設された支持部材１８の、下方向他端側にネジ２１で固定されている。また、案内板２０は、搬送方向と直交する方向の幅寸法が、基板処理装置１により搬送可能な最大幅寸法の基板Ｂ（破線にて記載）の、搬送方向に沿った上端縁部位置Ｗから、基板Ｂより幅寸法の短い基板Ａの、搬送方向に沿った上端縁部位置Ｙと、上端縁部位置Ｙ側の搬送方向に沿った有効領域位置Ｐ（以下、「上端部側有効領域位置Ｐ」と称する。）との中間を下端縁部位置Ｚとする幅寸法で、基板Ａの搬送面に対向して平行に重なるように配置された板状材が用いられている。
【００３８】
本実施形態においては、基板Ａの上端縁部位置Ｙから、基板Ａの上端部側有効領域位置Ｐまでの寸法は１０ｍｍとし、案内板２０の下端縁部位置Ｚは、基板Ａの下端縁部位置Ｙの５ｍｍ下方に設定されている。また、案内板２０と基板Ａとの重なり部分は、平行に配置されているので、基板Ａを搬送中も接触することはない。
【００３９】
また、案内板２０の上方にはスリットノズル８が配置されており、スリットノズル８には搬送方向に延びるスリットからなる吐出口が形成されている。吐出口から吐出された処理液は、案内板２０の上端縁位置Ｗに向けて処理液を供給するように配置されている。スリットノズル８より供給された処理液は、案内板２０により基板Ａの幅方向における上端端縁部位置Ｙと、基板Ａの上端縁部側有効領域位置Ｐとの中間まで案内され、基板Ａ上に供給される。また、スリットノズル８の吐出口の搬送方向の長さに応じて、案内板２０も搬送方向に延びる。
【００４０】
以上のように、基板処理装置１で処理される基板Ａの、搬送方向と直交する方向の幅寸法が、基板処理装置１で処理できる最大幅寸法の基板Ｂより小さな場合でも、その寸法差に応じた案内板２０を設けるのみで処理することができるので、従来のように、基板Ａの下端を支持する支持ローラ１５０の位置を変更する機構を設けることなく、幅寸法の異なる複数の基板Ａを処理することができる。また、必要により幅寸法の異なる基板Ａを処理したい場合も、幅寸法の異なる案内板２０へ変更するのみで処理が可能となる。
【００４１】
次に図３は、本発明に係る図１の基板処理装置１の、別の実施形態における処理部４を搬送方向から見た様子を示す模式図であり、その要部を拡大したものである。
【００４２】
本実施形態においては、前述した図２の実施形態と共通する部分については説明を省略し、相違する部分を中心に説明する。
【００４３】
図３の実施形態においては、図２の実施形態で説明した案内板２０の配置が異なり、案内板２０は、搬送方向と直交する方向の幅寸法が最大寸法の基板Ｂ（破線にて図示）における、搬送方向に沿った上端縁部位置Ｗから、基板Ａの搬送方向に沿った上端縁部位置Ｙに近接した下端縁部位置Ｚまでの幅寸法で、その下端側面が基板Ａの上端側面に対向して近接配置された板状材である点が、前述の実施形態と異なる。
【００４４】
本実施形態において、案内板２０の下端側側面と、基板Ａの上端側側面との距離ｄは、案内板２０にスリットノズル８から供給された処理液が、案内板２０の下端側側面と基板Ａの上端側側面との間にこぼれ落ちにくく、また、搬送中の基板Ａが、案内板２０に接触しない距離に設定されており、本実施形態では３ｍｍに設定されている。この距離は使用される処理液の粘度や流速によっても変化するが、案内板２０の下端側側面と、基板Ａの上端側側面との間に処理液が少量こぼれ落ちても、基板Ａの処理に充分な処理液が供給されるように、処理液の流量と流速を調整すれば良い。
【００４５】
本発明は、上記の実施形態に限定されるものではなく、以下の内容をも包含するものである。
【００４６】
（１）本実施形態においては、処理部４とリンス部５においてスリットノズル８を使用したが、スリットノズル８に変えて、搬送方向に延びるシャワーパイプを用いても良く、リンス部５のみシャワーパイプを用いても良い。
【００４７】
（２）本実施形態においては、案内板２０は側板１７に固定された支持部材１８に固定されているが、案内板２０を支持部材１８に着脱自在に構成すれば、より容易に基板Ａの幅寸法変更に対応させることができる。
【００４８】
（３）本実施形態においては、搬送ローラ１０に設けられた中央支持ローラ１３の取り付け位置を、基板Ａの幅に対応させて配置しているが、最大幅寸法の基板Ｂの幅に対応させて配置すれば、基板Ａの幅に対応させて中央支持ローラ１３の取り付け位置を変更する必要がなく、寸法幅の異なる基板への変更作業がより容易となる。
【００４９】
（４）本実施形態においては、処理液供給手段から基板に処理液を供給する所定位置を、最大幅寸法の基板Ｂの上端縁位置としたが、これに限定されるものでなく、最大幅寸法の基板Ｂの上端縁位置より、更に基板の幅方向上部位置を処理液の供給位置とし、該、供給位置から案内手段により基板上端縁部へ処理液を案内するように構成してもよい。
【００５０】
【発明の効果】
請求項１に記載の発明によれば、基板寸法に対応した処理液案内手段を設けるのみで処理が可能となり、基板処理装置を簡素化することができる。
【００５１】
請求項２に記載の発明によれば、基板の幅寸法に応じて処理液案内手段を交換できるように構成したので、幅寸法の異なる基板であっても、基板処理装置の構成を変更したり、複雑な切替機構を設けることなく、簡易な構成で基板の幅寸法変更が行える。
【００５２】
請求項３に記載の発明によれば、請求項２に記載の発明のような、基板の幅寸法に応じて処理液案内手段を交換するだけで、簡易な構成で基板の幅寸法変更が行えるという効果は得られないが、基板寸法に対応した処理液案内手段を設けるのみで処理液供給手段の位置から基板の幅方向上端に処理液を案内供給して処理できる。
【００５３】
請求項４に記載の発明によれば、処理液案内手段の搬送方向に延びる吐出口の長さに応じて処理液案内手段の長さを変更するのみで、基板の搬送方向の寸法変更に容易に対応することができる。
【００５４】
請求項５に記載の発明によれば、処理液供給手段がスリットからなる吐出口を備えるので、基板表面へ均一に処理液を供給できる。
【００５５】
請求項６に記載の発明によれば、処理液供給手段としてシャワーパイプを用いて、基板表面へ均一に処理液を供給できる。
【００５６】
請求項７に記載の発明によれば、処理液案内手段の上面を、基板の上面と平行に配置したので、より均一に処理液を供給することができる。
【００５７】
請求項８に記載の発明によれば、案内板の下端が基板の上端と重なるように配置したので、基板が搬送中に案内板に接触して、基板に傷が生じることがない。
【００５８】
請求項９に記載の発明によれば、案内板の下端と基板の上端との間に所定の間隔を設けて配置したので、基板が搬送中に処理液案内手段に接触して、基板に傷が生じることがない。
【００５９】
請求項１０に記載の発明によれば、基板を傾斜姿勢で搬送できるように構成したので、装置の設置面積を少なくすることができる。
【００６０】
請求項１１に記載の発明によれば、搬送ローラと支持ローラを交互に配設したので、搬送ローラ駆動機構の取り付けが容易になる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る基板処理装置の一実施形態を示す概略構成図である。
【図２】本発明に係る基板処理装置の処理部を搬送方向から見た様子を示す図である。
【図３】本発明に係る基板処理装置の別の実施形態における処理部を搬送方向から見た様子を示す図である。
【図４】従来装置を示した模式図である。
【符号の説明】
Ａ 基板
Ｂ 最大寸法の基板
Ｐ 上端縁部側有効領域位置
Ｗ 基板Ｂの上端縁部位置
Ｙ 基板Ａの上端縁部位置
Ｚ 処理液案内手段の下端縁部位置
１ 基板処理装置
２ 基板導入部
３ 姿勢変更部
４ 処理部
５ リンス部
６ 姿勢変更部
７ 乾燥部
８ スリットノズル
１０ 搬送ローラ
１３ 中央支持ローラ
１５ 支持ローラ
１８ 支持部材
２０ 案内板