KR20220106708A - 기판 반송 장치, 현상 장치 및 현상 방법 - Google Patents

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Abstract

[과제] 기판의 표면에 축적된 현상액에 의한 현상 처리 시에 발생하는 거품이 반송 롤러를 통하여 기판의 표면에 부착되는 것을 효과적으로 방지한다.
[해결 수단] 이 발명은, 기판을 하방으로부터 지지하면서 회전하여 기판을 반송하는 반송 롤러와, 반송 롤러에 의하여 반송되는 기판의 하방측에서 반송 롤러에 비접촉으로 배치되고, 반송 중인 기판에 축적된 현상액으로부터 발생하여 반송 롤러에 부착되는 거품 중 반송 롤러의 주면으로부터 솟아올라 있는 부위를 제거하는 거품 제거 부재를 구비하고 있다.

Description

기판 반송 장치, 현상 장치 및 현상 방법{SUBSTRATE TRANSPORT APPARATUS, DEVELOPING APPARATUS AND DEVELOPING METHOD}
이 발명은, 표면에 현상액이 축적된 기판을 반송 롤러에 의하여 반송하는 기판 반송 기술, 및 상기 반송 롤러에 의하여 기판을 반송하는 동안에 당해 기판의 표면에 대하여 현상 처리를 실시하는 현상 기술에 관한 것이다. 또한, 기판에는, 액정 표시 장치나 유기 EL 표시 장치 등의 FPD용 유리 기판, 반도체 웨이퍼, 포토마스크용 유리 기판, 컬러 필터용 기판, 기록 디스크용 기판, 태양 전지용 기판, 전자 페이퍼용 기판 등의 정밀 전자 장치용 기판, 반도체 패키지용 기판(이하, 간단하게 「기판」이라고 칭한다) 등이 포함된다.
표면에 현상액이 축적된 기판을 반송 롤러에 의하여 반송하고 있는 동안에 기판에 대하여 현상 처리를 실행하는 현상 장치는 기판 처리 시스템의 일 구성 요소로서 당해 시스템에 장착되는 경우가 있다. 예를 들면 일본국 특허공개 2016-167475호 공보에서는, 현상 장치가, 세정 장치, 탈수 베이크 장치, 레지스트 도포 장치, 감압 건조 장치, 프리베이크 장치, 노광 장치, 및 포스트베이크 장치와 함께, 처리 장치로서 기판 처리 시스템에 설치되어 있다. 또, 기판 처리 시스템은, 이들 처리 장치와, 상기한 장치군으로의 기판의 출입을 행하는 인덱서부를 갖고 있다.
인덱서부에는, 복수의 기판을 수납하는 카세트가 재치(載置)된다. 인덱서부에 배치되는 인덱서 로봇에 의하여 카세트로부터 꺼내어진 기판은, 우선, 세정 장치에 있어서 세정된다. 세정 장치에서의 처리를 끝낸 기판은, 탈수 베이크 장치로 반송되어, 탈수 베이크 처리가 행해진다. 탈수 베이크 처리가 행해진 기판은, 다음으로 레지스트 도포 장치로 반송되어, 레지스트 도포 처리가 실시된다. 레지스트 도포 처리가 실시된 기판은, 다음으로 감압 건조 장치로 반송되고, 기판의 표면에 도포된 레지스트액의 용매를 감압에 의하여 증발시켜, 기판을 건조시킨다. 감압 건조가 실시된 기판은, 다음으로 프리베이크 장치로 반송되고, 기판 표면의 레지스트 성분을 고화시키기 위하여 가열 처리가 실시된다. 가열 처리가 실시된 기판은, 다음으로 노광 장치로 반송되어, 노광 처리가 실시된다.
이들 처리를 끝낸 기판은, 현상 장치로 반송되어, 현상 처리가 행해진다. 현상 처리를 끝낸 기판은, 포스트베이크 장치로 옮겨져, 가열 처리가 실시된다. 그 후, 당해 기판은, 인덱서 로봇에 의하여 인덱서부에 재치되는 원래의 카세트에 수용된다.
일본국 특허공개 2016-167475호 공보에 기재된 기판 처리 시스템에서는, 현상 장치로부터 포스트베이크 장치를 향하는 반송 경로를 따라 기판을 반송하기 위하여, 복수의 반송 롤러가 이용되고 있다. 즉, 현상액이 축적된 기판의 표면을 상방을 향한 수평 자세로 기판이 복수의 반송 롤러에 의하여 하방으로부터 지지되면서 반송된다. 최근, 기판 반송 중에, 현상 처리에 따라 레지스트 성분이 녹은 현상액에서 거품이 나고, 그 일부가 반송 롤러에 부착된다고 하는 현상이 확인되고 있다. 반송 롤러에 부착된 거품은, 뒤에서 설명하는 도 3의 (a)란에 나타내는 바와 같이 반송 롤러의 주면(周面)에 솟아오른 상태로 부착된다. 그리고, 반송 롤러의 회전에 따라 당해 거품이 솟아오른 상태 그대로 기판의 반송 경로로 이동해 온다. 그 때문에, 반송 롤러 상의 거품이 기판의 이면뿐만 아니라 표면에도 부착된다. 그 결과, 현상 처리가 불균일한 것이 되어, 현상 품질의 저하를 초래한다고 하는 문제가 발생하는 경우가 있었다.
이 발명은 상기 과제를 감안하여 이루어진 것이며, 기판의 표면에 축적된 현상액에 의한 현상 처리 시에 발생하는 거품이 반송 롤러를 통하여 기판의 표면에 부착되는 것을 효과적으로 방지할 수 있는 기판 반송 기술, 및 당해 기판 반송 기술을 이용하여 고품질인 현상 처리를 행할 수 있는 현상 기술을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 제1 양태는, 표면에 현상액이 축적된 기판을 반송하는 기판 반송 장치이며, 기판을 하방으로부터 지지하면서 회전하여 기판을 반송하는 반송 롤러와, 반송 롤러에 의하여 반송되는 기판의 하방측에서 반송 롤러에 비접촉으로 배치되고, 반송 중인 기판에 축적된 현상액으로부터 발생하여 반송 롤러에 부착되는 거품 중 반송 롤러의 주면으로부터 솟아올라 있는 부위를 제거하는 거품 제거 부재를 구비하는 것을 특징으로 하고 있다.
또, 본 발명의 제2 양태는, 현상 장치이며, 기판의 표면에 현상액을 공급하여 기판의 표면에 축적하는 현상액 노즐과, 상기 기판 반송 장치를 구비하고, 기판 반송 장치에 의하여 기판을 반송하는 동안에, 기판의 표면에 현상 처리를 실시하는 것을 특징으로 하고 있다.
또한, 본 발명의 제3 양태는, 현상 방법이며, 표면에 현상액이 축적된 기판을 반송 롤러로 하방으로부터 지지하면서 반송 롤러의 회전에 의하여 기판을 수평 자세로 반송하는 동안에 현상 처리를 실시하는 공정과, 반송 중인 기판에 축적된 현상액으로부터 발생하여 반송 롤러에 부착되는 거품 중 반송 롤러의 주면으로부터 솟아올라 있는 부위를, 반송 롤러에 의하여 반송되는 기판의 하방측에 비접촉으로 배치되는 거품 제거 부재에 의하여 제거하는 공정을 구비하는 것을 특징으로 하고 있다.
이상과 같이 본 발명에 의하면, 표면에 현상액을 축적한 상태로 기판이 반송 롤러에 의하여 반송되는 동안에, 현상액으로부터 거품이 발생하여 반송 롤러에 부착되는 경우가 있다. 이 거품은 반송 롤러에 솟아오른 상태로 부착되어 있지만, 당해 거품 중 반송 롤러의 주면으로부터 솟아올라 있는 부위가 거품 제거 부재에 의하여 제거된다. 그 결과, 반송 롤러에 부착된 거품이 기판의 표면으로 이행하는 것을 효과적으로 방지할 수 있다. 게다가, 상기 거품 제거 부재는 반송 롤러로부터 비접촉으로 배치되어 있기 때문에, 거품 제거 부재에 의하여 반송 롤러가 손상되는 일 없이, 기판을 안정적으로 반송할 수 있다.
도 1은, 본 발명에 따른 기판 반송 장치의 제1 실시 형태를 장비하는 현상 장치의 구성을 나타내는 도면이다.
도 2는, 도 1에 장비되는 기판 반송 장치의 개략 구성을 나타내는 도면이다.
도 3은, 기판 반송 장치에 있어서의 거품의 이동 상황을 모식적으로 나타내는 도면이다.
도 4는, 본 발명에 따른 기판 반송 장치의 제2 실시 형태의 개략 구성을 나타내는 도면이다.
도 1은, 본 발명에 따른 기판 반송 장치의 제1 실시 형태를 장비하는 현상 장치의 구성을 나타내는 도면이다. 또, 도 2는 도 1에 장비되는 기판 반송 장치의 개략 구성을 나타내는 도면이다. 또한, 도 3은, 기판 반송 장치에 있어서의 거품의 이동 상황을 모식적으로 나타내는 도면이다. 현상 장치(1)는, 표면(Wf)에 노광 처리된 레지스트막(도시 생략)이 형성된 반도체 웨이퍼 등의 기판(W)에 현상액을 공급하여 현상액을 축적한 후에, 표면(Wf)을 상방을 향한 수평 자세로 기판(W)을 다음 처리 장치(포스트베이크 장치)로 반송하는 장치이다. 이 기판 반송 중에 현상액에 의한 현상 처리가 실행된다.
현상 장치(1)는 현상 처리를 행하는 처리실(2)을 갖고 있다. 처리실(2)은, 내부에 처리 공간을 갖고, 처리실(2)의 상류측 단부(도 1의 좌단부)에는, 현상 장치(1)의 상류측에 배치되는 노광 장치에 의하여 노광 처리된 기판(W)을 반입하기 위한 반입구(도시 생략)가 설치되어 있다. 또, 처리실(2)의 하류측 단부(도 1의 우단부)에는, 현상 처리가 완료된 기판(W)을 다음 포스트베이크 장치로 반출하기 위한 반출구가 설치되어 있다. 또, 처리실(2)의 저면에는, 처리실 내에서 사용된 현상액을 배출하기 위한 배출 기구(도시 생략)가 설치되어 있다. 또한, 처리실(2)의 저면의 상방에는, 기판(W)을 반송 방향(X)을 따라 수평 반송하는 기판 반송 장치(3)가 설치되어 있다.
기판 반송 장치(3)는, 복수의 반송 롤러(31)와 당해 반송 롤러(31)를 회전 구동시키는 구동부(도시 생략)를 구비하고 있다. 복수의 반송 롤러(31)는 기판(W)의 반송 방향(X)을 따라 배열되어 있고, 처리실(2) 내에서 기판(W)을 반송 방향(X)의 상류측(도 1의 좌측)으로부터 하류측(도 1의 우측)을 향하여 반송한다. 각 반송 롤러(31)는, 스테인리스제의 샤프트(311)에 대하여 UPE(초고분자량 폴리에틸렌: Ultra High Molecular Weight Poly Ethylene) 롤러(312)를 끼워 넣은 것이고, 반송 방향(X)과 직교하는 수평 방향(Y)에 있어서 UPE 롤러(312)의 외주면을 기판(W)의 이면(Wb) 전체와 접촉시키면서 회전하는 원통 형상 부재로 마무리되어 있다. 이들 복수의 반송 롤러(31) 중 다음으로 설명하는 현상액 노즐(4)에 의한 현상액의 공급 위치(P4)보다 상류측에 위치하는 반송 롤러(31)는 현상 처리 전의 기판(W)을 공급 위치(P4)로 반입하는 기능을 갖고 있고, 이들을 적절히 「반입 롤러(31A)」라고 칭한다. 한편, 공급 위치(P4)보다 하류측에 위치하는 반송 롤러(31)는, 기판(W)의 표면(Wf)에 축적된 현상액에 의한 레지스트막의 현상 처리와 병행하여, 기판(W)을 포스트베이크 장치로 반출하는 기능을 갖고 있고, 이들을 적절히 「반출 롤러(31B)」라고 칭한다. 또한, 본 실시 형태에서는, 반출 롤러(31B)가 본 발명의 「반송 롤러」의 일례에 상당하고 있다.
공급 위치(P4)에서는, 기판 반송 장치(3)의 상방에 현상액 노즐(4)이 배치되어 있다. 현상액 노즐(4)은, 도 1에 나타내는 바와 같이, 처리실(2)의 처리 공간에 설치되어 있고, 상기 기판 반송 장치(3)에 의하여 하류측을 향하여 반송되는 기판(W)의 표면(Wf)에 현상액을 토출한다. 현상액 노즐(4)은, 반송 방향(X)과 직교하는 수평 방향(Y)(도 1의 지면(紙面)에 대하여 수직인 방향)으로 연장되어 있고, 그 하면(기판(W)과 대향하는 면)에는, 수평 방향(Y)으로 가늘고 길게 연장되는 세극의 토출구(41)가 형성되어 있다. 즉, 본 실시 형태에서는, 현상액 노즐(4)로서, 슬릿 노즐이 이용되고 있다. 이 현상액 노즐(4)에서는, 토출구(41)의 수평 방향(Y)의 치수는, 기판(W)의 수평 방향(Y)의 치수(폭 치수)와 대략 같다.
현상액 노즐(4)에는, 현상액 공급부(5)가 배관(6)에 의하여 접속되어 있다. 현상액 공급부(5)는, 펌프나 탱크 가압 등의 압송 기구(도시 생략)를 갖고 있다. 이 압송 기구가 작동함으로써, 현상액(L)이 배관(6)을 통하여 현상액 노즐(4)에 압송된다. 이에 의하여, 현상액 노즐(4)의 토출구(41)로부터 현상액(L)이 커튼 형상으로 토출되어, 기판(W)의 표면에 현상액(L)이 공급된다.
본 실시 형태에서는, 기판(W)의 표면(Wf)과 현상액 노즐(4)의 토출구(41)는 소정의 간격을 두고 배치되어 있고, 기판(W)이 토출구(41)의 바로 아래를 통과함으로써, 기판(W)의 상면 전체가, 표면 장력을 이용하여 현상액(L)이 축적된 상태(즉, 현상액(L)의 퍼들이 형성된 상태)가 된다. 그 후, 반출 롤러(31B)에 의하여 포스트베이크 장치로 반출되는 동안에 기판(W)의 표면(Wf), 즉 레지스트막에 대하여 현상 처리가 실시된다. 이와 같은, 현상액(L)으로서, 본 실시 형태에서는 TMAH(테트라메틸암모늄하이드록사이드)와 물을 주요 성분으로 하는 것을 이용하고 있다. 물론, 이것 이외의 현상액, 예를 들면 수산화 나트륨이나 수산화 칼륨과 물을 주성분으로 하는 것 등을 이용할 수 있다.
최근, 레지스트막 및 현상액의 조합에 따라서는, 현상 처리 중에 레지스트가 녹은 현상액에서 거품이 나고, 포스트베이크 장치를 향하여 기판(W)을 반송하고 있는 동안에, 거품의 일부가 반출 롤러(31B)에 부착되는 경우가 있다. 여기서, 일본국 특허공개 2016-167475호 공보에 기재된 장치와 동일하게, 기판 반송 장치(3)에 특별한 연구가 이루어져 있지 않은 경우, 예를 들면 도 3의 (a)란에 나타내는 바와 같이 반출 롤러(31B)를 통하여 기판(W)의 표면(Wf)에 부착되는 경우가 있다. 즉, 기판(W)이 반송 경로를 따라 이동하지만, 기판(W)이 반출 롤러(31B)를 통과할 때에, 거품(7)이 반출 롤러(31B)에 부착되는 경우가 있다. 그 부착된 거품(7)은 반출 롤러(31B)의 주면 상에서 솟아오른 상태가 된다(타이밍 T1). 그 상태 그대로, 반출 롤러(31B)가 회전하고, 반출 롤러(31B)로 하방으로부터 지지되어 있는 기판(W)으로 이동해 오면, 거품(7)이 기판(W)의 표면(Wf)으로 돌아 들어가 부착된다. 이 경우, 거품(7)의 부착 후에 있어서의 현상 처리의 진행 정도가 거품(7)의 부착 영역과 비부착 영역에서 상이해져 버린다. 그 결과, 기판(W)의 표면(Wf)에 있어서 현상 처리가 불균일해져, 제품 불량이 발생한다.
그래서, 본 실시 형태의 기판 반송 장치(3)에서는, 반출 롤러(31B)마다, 거품 제거 부재(32)와, 간극 조정 기구(33)가 설치되어 있다. 거품 제거 부재(32)는, 단면이 대략 L자 형상을 갖는 블레이드 부재로 구성되어 있고, 반출 롤러(31B)에 의하여 반송되는 기판(W)의 하방측에서 반출 롤러(31B)에 비접촉으로 근접 배치되어 있다. 보다 상세하게는, 거품 제거 부재(32)는, 예를 들면 폭이 반출 롤러(31B)의 수평 방향(Y)의 치수(폭 치수)와 대략 같은 스테인리스 강판을 절곡하여 형성한 것이고, 그 한쪽의 날개 부위(321)가 수직 상방으로 연장 설치되어 있다. 게다가, 도 2에 나타내는 바와 같이, 날개 부위(321)의 선단부가 간극(CL)만큼 반출 롤러(31B)의 주면으로부터 X방향으로 떨어진 상태에서 거품 제거 부재(32)는 X방향으로 슬라이드 자유자재로 배치되어 있다. 이 간극(CL)을 고정밀도로 조정하기 위하여, 거품 제거 부재(32)에는 간극 조정 기구(33)가 접속되어 있다. 본 실시 형태에서는, 오퍼레이터가 간극 조정 기구(33)를 조작함으로써, 반출 롤러(31B)의 주면에 대하여 거품 제거 부재(32)를 근접 또는 이격시킨다. 이렇게 하여, 간극(CL)을 소정 값, 예를 들면 1~2mm 정도로 조정 가능하게 되어 있다. 물론, 간극 조정 기구(33)에 모터 등의 액추에이터를 장착하고, 기판 처리 시스템이나 현상 장치(1) 등을 제어하는 제어부(도시 생략)로부터의 지령에 따라 액추에이터를 제어함으로써 거품 제거 부재(32)를 X방향으로 이동시킴으로써, 날개 부위(321)의 선단부를 반출 롤러(31B)의 주면과 대향시키면서 상기 간극(CL)의 사이즈를 자동 조정하도록 구성해도 된다.
이와 같이 거품 제거 부재(32)가 설치됨으로써, 다음과 같은 작용 효과가 얻어진다. 종래 장치와 동일하게, 반출 롤러(31B)의 주면에 거품(7)이 부착된 직후에 있어서 반출 롤러(31B)의 주면에서 거품(7)은 솟아오른 상태가 된다. 그러나, 반출 롤러(31B)의 회전에 따라 거품(7)은 거품 제거 부재(32)의 배치 위치로 이동하고, 그 일부가 거품 제거 부재(32)의 날개 부위(321)의 선단부로 잘라내어진다. 즉, 도 3의 (b)란에 나타내는 바와 같이, 거품(7) 중 솟아올라 있는 부위(71)가 날개 부위(321)로 긁어내어져 반출 롤러(31B)의 주면으로부터 제거된다(타이밍 T1). 제거된 부위(71)는 거품 제거 부재(32)의 (+X)측의 측면을 따라 하방으로 배제된다. 한편, 부위(71)를 제외한 부위, 즉 반출 롤러(31B)의 주면과 밀접해 있는 부위(72)는 반출 롤러(31B)에 남지만, 그 양은 소량이다. 따라서, 그 상태 그대로, 반출 롤러(31B)가 회전하고, 반출 롤러(31B)로 하방으로부터 지지되어 있는 기판(W)으로 이행했다고 하더라도, 거품(7)의 부위(72)는 기판(W)의 이면(Wb)에 부착되지만, 거품(7)이 기판(W)의 표면(Wf)으로 돌아 들어가는 경우는 없다.
이상과 같이, 본 실시 형태에 의하면, 반출 롤러(31B)에 부착되는 거품(7) 중 솟아올라 있는 부위(71)를 거품 제거 부재(32)에 의하여 제거하기 때문에, 반출 롤러(31B)에 부착된 거품(7)이 기판(W)의 표면(Wf)으로 이행하는 것을 효과적으로 방지할 수 있다. 게다가, 상기 거품 제거 부재(32)는 반출 롤러(31B)로부터 비접촉으로 배치되어 있기 때문에, 거품 제거 부재(32)에 의하여 반출 롤러(31B)가 손상되는 일 없이, 기판(W)을 안정적으로 포스트베이크 장치를 향하여 반송할 수 있다.
또한, 본 발명은 상기한 실시 형태에 한정되는 것은 아니고, 그 취지를 벗어나지 않는 한에 있어서 상술한 것 이외에 다양한 변경을 행하는 것이 가능하다. 예를 들면, 상기 실시 형태에서는, 단면 형상이 대략 L자 형상인 블레이드 부재를 거품 제거 부재(32)로서 이용하고 있지만, 블레이드 부재의 형상은 이에 한정되는 것은 아니고, 단순한 판 형상의 블레이드 부재를 이용해도 된다.
또, 블레이드 부재 대신에, 도 4에 나타내는 바와 같이, 반출 롤러(31B)에 의하여 반송되는 기판(W)의 하방측에서 반출 롤러(31B)에 대하여 비접촉으로 배치되는 롤러(322)와, 당해 롤러(322)에 맞닿는 블레이드(323)와, 롤러(322)를 회전 구동하는 구동부(도시 생략)로 구성되는 거품 제거 부재(32)를 이용해도 된다. 롤러(322)는, 반출 롤러(31B)의 수평 방향(Y)의 치수(폭 치수)와 대략 같은 폭을 갖는 원통 형상을 갖고, 반출 롤러(31B)와 대향하면서 간극(CL)만큼 이격하여 배치되어 있다. 이 거품 제거 부재(32)에서는, 롤러(322)가 구동부에 의하여 회전되고, 거품(7) 중 솟아올라 있는 부위(71)(도 3 참조)의 거품을 반출 롤러(31B)로부터 롤러(322)로 이행시켜 제거한다. 또한, 롤러(322)로 이행된 거품(7)은 블레이드(323)에 의하여 긁어내어져, 롤러(322)의 주면으로부터 클리닝 제거된다.
또, 상기 실시 형태에서는, 샤프트(311)에 UPE 롤러(312)를 끼워 넣은 반송 롤러(31)에 의하여 기판(W)을 반송하고 있지만, 반송 롤러(31)의 구성은 이에 한정되는 것은 아니고, 종래부터 많이 사용되고 있는 반송 롤러 전반을 이용할 수 있다. 또, 그 외의 방식, 예를 들면 일본국 특허공개 2016-167475호 공보에 기재된 장치에서 채용하고 있는 바와 같이 샤프트에 복수의 롤러를 장착한, 이른바 롤러 반송 방식으로 표면에 현상액이 축적된 기판(W)을 반송하는 기판 반송 장치에 대해서도 본 발명을 적용할 수 있다.
이 발명은, 표면에 현상액이 축적된 기판을 반송 롤러에 의하여 반송하는 기판 반송 기술 전반, 및 당해 반송 롤러에 의하여 기판을 반송하는 동안에 당해 기판의 표면에 현상 처리를 실시하는 현상 기술 전반에 적용할 수 있다.
1 현상 장치
3 기판 반송 장치
4 현상액 노즐
7 거품
31B 반출 롤러(반송 롤러)
32 거품 제거 부재
33 간극 조정 기구
71 (솟아올라 있는)부위
L 현상액
W 기판
Wf (기판의)표면
X 반송 방향
Y 수평 방향

Claims (6)

  1. 표면에 현상액이 축적된 기판을 반송하는 기판 반송 장치로서,
    상기 기판을 하방으로부터 지지하면서 회전하여 상기 기판을 반송하는 반송 롤러와,
    상기 반송 롤러에 의하여 반송되는 상기 기판의 하방측에서 상기 반송 롤러에 비접촉으로 배치되고, 반송 중인 상기 기판에 축적된 상기 현상액으로부터 발생하여 상기 반송 롤러에 부착되는 거품 중 상기 반송 롤러의 주면(周面)으로부터 솟아올라 있는 부위를 제거하는 거품 제거 부재
    를 구비하는 것을 특징으로 하는 기판 반송 장치.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 반송 롤러는, 상기 기판의 반송 방향과 직교하는 수평 방향에 있어서 상기 기판의 이면 전체와 접촉하면서 회전하는 원통 형상 부재를 갖는, 기판 반송 장치.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 반송 롤러가 복수 개, 상기 기판을 반송하는 방향으로 배열되고,
    상기 반송 롤러마다, 상기 거품 제거 부재가 설치되는, 기판 반송 장치.
  4. 청구항 1에 있어서,
    상기 거품 제거 부재를 상기 반송 롤러에 대하여 근접 또는 이격시킴으로써, 상기 거품 제거 부재와 상기 반송 롤러의 간극을 조정하는 간극 조정 기구를 구비하는, 기판 반송 장치.
  5. 기판의 표면에 현상액을 공급하여 상기 기판의 표면에 축적하는 현상액 노즐과,
    청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 한 항에 기재된 기판 반송 장치를 구비하고,
    상기 기판 반송 장치에 의하여 상기 기판을 반송하는 동안에, 상기 기판의 표면에 현상 처리를 실시하는 것을 특징으로 하는 현상 장치.
  6. 표면에 현상액이 축적된 기판을 반송 롤러로 하방으로부터 지지하면서 상기 반송 롤러의 회전에 의하여 상기 기판을 수평 자세로 반송하는 동안에 현상 처리를 실시하는 공정과,
    반송 중인 상기 기판에 축적된 상기 현상액으로부터 발생하여 상기 반송 롤러에 부착되는 거품 중 상기 반송 롤러의 주면으로부터 솟아올라 있는 부위를, 상기 반송 롤러에 의하여 반송되는 상기 기판의 하방측에 비접촉으로 배치되는 거품 제거 부재에 의하여 제거하는 공정
    을 구비하는 것을 특징으로 하는 현상 방법.
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