JP4451385B2 - 塗布処理装置及び塗布処理方法 - Google Patents
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Description
24 レジスト塗布処理ユニット
80 第1のノズル
81 第2のノズル
70b 塗布ステージ
90 アーム
100 第1の回転ロール
120 第2の回転ロール
G ガラス基板
Claims (6)
- 基板に塗布液を塗布する塗布処理装置であって,
基板が水平方向に搬送される基板搬送路と,
前記基板搬送路の上方に設けられ,前記基板搬送路を搬送される基板に対し塗布液を吐出するノズルと,
前記基板搬送路の上方に設けられ,前記ノズルの塗布液の試し出しが行われる回転ロールと,
前記基板搬送路に沿って設けられ,基板を搬入するための搬入ステージと,基板に塗布液を塗布するための塗布ステージと,基板を搬出するための搬出ステージとを有するステージと,を備え,
前記ノズルは,前記基板搬送路に沿った前後に2つ設けられ,
前記回転ロールは,前記各ノズル毎に設けられ,
前記2つのノズルは,1つの塗布液の供給源に接続され,
前記2つのノズルのうちの一方のノズルが基板に塗布液を塗布している間に,他方のノズルを回転ロールにおいて試し出しさせる制御部をさらに有することを特徴とする,塗布処理装置。 - 前記各ノズルは,上下動自在に構成され,
前記各回転ロールは,前記基板搬送路に沿って前後に移動し,ノズルの下方の位置に進退自在に構成されていることを特徴とする,請求項1に記載の塗布処理装置。 - 前記基板搬送路の上流側のノズルに対しては,一方の回転ロールが上流側からノズルの下方の位置に進退自在であり,
前記基板搬送路の下流側のノズルに対しては,他方の回転ロールが下流側からノズルの下方の位置に進退自在であることを特徴とする,請求項2に記載の塗布処理装置。 - 前記2つのノズルは,同じ保持部材に保持されていることを特徴とする,請求項1〜3のいずれかに記載の塗布処理装置。
- 前記2つのノズルは,前記基板搬送路上の同じ吐出位置に移動自在に構成されていることを特徴とする,請求項1〜4のいずれかに記載の塗布処理装置。
- 請求項1〜5のいずれかに記載の塗布処理装置を用いた塗布処理方法であって,
2つのノズルのうちの一方のノズルが基板に塗布液を塗布している間に,他方のノズルが回転ロールにおいて塗布液の試し出しを行うことを特徴とする,塗布処理方法。
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