KR20080059070A

KR20080059070A - 감압건조장치

Info

Publication number: KR20080059070A
Application number: KR1020070134928A
Authority: KR
Inventors: 슈우니치 야히로; 미츠히로 사카이; 타카히로 사카모토
Original assignee: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Priority date: 2006-12-22
Filing date: 2007-12-21
Publication date: 2008-06-26
Also published as: CN101206412A; JP4272230B2; TW200837515A; JP2008159782A; TWI372318B; CN101206412B

Abstract

본 발명은 감압건조장치에 관한 것으로서 감압 건조 유니트(VD, 46)은 감압 건조 처리를 받아야 할 기판 (G)를 반입측 코로 반송로 (104)의 코로 반송 및 스테이지 (122)상의 부상식 롤러 반송으로 챔버 (106)안에 반입하고, 챔버 (106)내에서 감압 건조 처리가 끝난 기판 (G)를 스테이지 (122)상의 부상식 롤러 반송로의 부상식 롤러 반송 및 반출측 코로 반송로 (110)의 코로 반송에 의해 챔버 (106)의 밖에 반출한다. 감압 건조 처리중은, 스테이지 (122)의 상면에 기판 (G)를 면접촉상태로 재치하는 피처리 기판의 반입출을 효율적으로 안전하고 유연하게 실시하고 또한 기판상의 도포막에 전사 흔적이 남는 것을 방지하는 기술을 제공한다.

Description

감압건조장치{DECOMPRESSION DRYING DEVICE}

도 1은 본 발명의 적용 가능한 도포 현상 처리 시스템의 구성을 나타내는 평면도이다.

도 2는 상기 도포 현상 처리 시스템에 있어서의 처리 순서를 나타내는 플로차트(flow chart)이다.

도 3은 실시 형태에 있어서의 도포 프로세스부의 전체 구성을 나타내는 평면도이다.

도 4는 실시 형태에 있어서의 감압 건조 유니트의 구성을 나타내는 평면도이다.

도 5는 실시 형태에 있어서의 감압 건조 유니트의 반입출시의 각 부의 상태를 나타내는 일부 단면 측면도이다.

도 6은 실시 형태에 있어서의 감압 건조 유니트의 감압 건조 처리중의 각 부의 상태를 나타내는 일부 단면 측면도이다.

도 7은 실시 형태에 있어서의 감압 건조 유니트의 반입출시의 각 부의 상태를 나타내는 일부 단면 배면도이다.

도 8은 실시 형태에 있어서의 감압 건조 유니트의 감압 건조 처리중의 각 부의 상태를 나타내는 일부 단면 배면도이다.

도 9는 실시 형태에 있어서의 스테이지 내부의 구조를 나타내는 확대 단면도이다.

** 주요부위를 나타내는 도면부호의 설명**

10　　도포 현상 처리 시스템

30　　도포 프로세스부

46　　감압 건조 유니트(VD)

104　　반입측 코로 반송로

106　　챔버

108　　부상식 롤러 반송로

110　　반출측 코로 반송로

112　　반입구

114　　반출구

116, 118 게이트 기구

122　　스테이지

124L, 124R　　롤러 반송로

126　　　가스 분출구멍　

128　　　가스 버퍼실

130　　　배관

134　　　가스 공급관

136　　　부상용 가스 공급부

138, 165 배기관

140　　　진공 배기 장치

142, 144, 167 개폐 밸브

146　　에어 실린더

152　　사이드 롤러

162　　모터

172(172A, 172B) 반입측 코로 반송로의 코로

174(174A, 174B) 반출측 코로 반송로의 코로

본 발명은 피처리 기판상에 도포된 도포액을 감압 상태로 건조시키는 감압 건조 장치에 관한다.

이런 종류의 감압 건조 장치는 예를 들어, 액정 디스플레이(LCD) 등의 플랫 패널 디스플레이(FPD) 제조의 포트리소그래피 공정 중에서 피처리 기판(유리 기판등) 위에 도포한 레지스트액을 프리베이킹에 앞서 건조시키기 위해서 이용되고 있다.

종래의 감압 건조 장치는 예를 들어 특허 문헌 1에 기재되는 바와 같이 상면이 개구 하고 있는 트레이 또는 낮은 높이 용기형의 하부 챔버와 이 하부 챔버의 상면에 기밀하게 밀착 또는 끼워 맞춤 가능하게 구성된 덮개 형상의 상부 챔버를 가지고 있다. 하부 챔버안에는 스테이지가 배치 설치되고 있어 이 스테이지상에 기판을 수평에 재치하고 나서, 챔버를 닫아(상부 챔버를 하부 챔버에 밀착시켜) 감압 건조 처리를 실시한다. 챔버에 기판을 반입출 하려면 상부 챔버를 크레인 등으로 상승시켜 챔버를 개방하고, 또 기판의 로딩/언로딩을 위해서 스테이지를 실린더 등으로 적절히 상승시키도록 하고 있다. 그리고, 기판의 반입출 내지 로딩/언로딩은 감압 건조 장치 회전으로 기판의 반송을 실시하는 외부의 반송 로보트의 핸들링에 의해 행하고 있다. 또, 스테이지의 상면에 다수의 지지 핀이 돌출하여 설치되고, 기판은 그러한 지지 핀 위에 재치되게 되어 있다.

[특허 문헌 1] 일본국 특개 2000－181079

종래의 감압 건조 장치는 상기와 같이 기판을 챔버에 반입출 할 때 마다 상부 챔버를 오르내림(개폐) 하도록 하고 있지만 기판의 대형화에 수반해 이러한 장치 구조에는 여러 지 불편함이 나오고 있다. 즉, 기판의 사이즈가LCD 기판과 같이 한 변이 2 m를 넘도록 하는 크기가 되면, 챔버도 현저하게 대형화해 상부 챔버만으로도 2톤 이상의 중량이 되어, 대대적인 승강기구를 필요로 하고 큰 진동에 의한 발진의 문제나 작업원에 대한 안전상의 문제가 상면화해 오고 있다. 또, 반송 로보트도, 더욱 더 대형화하고 있지만, 큰 기판을 수평으로 유지해 반송하는 것이 어려워지고 있어 레지스트 도포 직후의 기판을 큰 부채와 같이 에워싼 상태로 반송하는 것에 의해, 감압 건조 장치의 챔버에 있어서의 기판의 반입출 내지 로딩/언로딩 시에 위치 엇갈림이나 충돌 내지 파손 등의 에러가 일어나기 쉬워지고 있다. 또한 챔버의 안에서 기판은 스테이지 상면으로부터 돌출하는 핀 위에서 감압 건조 처리 를 받기 때문에, 기판상의 레지스트막에 핀의 자취가 전사한다고 하는 문제도 있었다.

　본 발명은, 상기와 같은 종래 기술의 문제점에 비추어 이루어진 것이며, 피처리 기판의 반입출을 효율적으로 안전하고 유연하게 실시하고 또한 기판상의 도포막에 전사 흔적이 남는 것을 효과적으로 방지할 수 있는 감압 건조 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.

상기의 목적을 달성하기 위해서 본 발명의 감압 건조 장치는, 피처리 기판상의 도포액에 감압 상태로 건조 처리를 가하는 감압 건조 장치이며, 상기 기판을 대략 수평 상태로 수용하기 위한 공간 가지는 감압 가능한 챔버와, 상기 건조 처리중에 상기 챔버내의 공간을 밀폐 상태로 진공 배기하기 위한 제 1의 배기 기구와, 상기 챔버내에서 상기 기판을 재치하기 위한 상면을 갖고, 또한 상기 상면에 상기 기판을 부상시키는 가스를 분출하기 위한 다수의 가스 분출구멍을 가지는 스테이지와, 상기 가스 분출구멍에 상기 스테이지안을 통과하는 가스 라인을 통해 기판부상용의 가스를 공급하기 위한 가스 공급부와, 상기 가스 라인을 진공 배기하기 위한 제 2의 배기 기구를 갖고, 상기 건조 처리를 실시할 때는 상기 가스 라인을 상기 제 2의 배기 기구에 접속하고 상기 기판을 상기 스테이지의 상면에 재치하고, 상기 기판의 반입출을 실시할 때는 상기 가스 라인을 상기 가스 공급부에 접속해 상기 기판을 상기 스테이지상에서 부상시킨다.

상기의 장치 구성에 대해서는, 감압 건조 처리중은 챔버내 공간을 제1의 배 기 기구에 진공 배기함과 동시에 스테이지 내부를 지나는 부상 가스 라인을 제2의 배기 기구에 의해 진공 배기해 피처리 기판을 스테이지의 상면에 재치한다. 기판과 스테이지의 사이에는 부분적 또는 국소적인 접촉 지점이 없기 때문에, 기판상의 도포막에 접촉 지점의 전사자취가 발생할 우려는 없다. 또, 스테이지상에서 기판을 부상시키고 있어 기판의 반입출을 매우 적절하게는 평류하여 행해지므로 반송 아암을 이용하는 반송 로보트를 불필요로 하고, 기판을 부채와 같이 휘도록 해 로딩/언로딩 시에 위치 차이나 충돌·파손 등의 에러를 발생시키지 않고서 끝낸다. 또, 기판의 반입출에 있어 챔버의 상부 덮개를 개폐하는 조작도 불필요하고 발진의 문제나 안전상의 문제도 해결된다.

또, 본 발명의 매우 적합한 한 종류에 대해 스테이지의 상면은 기판보다는 작고, 기판의 제품 영역보다 큰 사이즈를 가진다. 이것에 의해, 감압 건조 처리중은 기판의 제품영역 전면에 스테이지 상면을 접촉시키고, 기판 반입출시에는 스테이지에서 밖으로 튀어 나오는 기판의 양옆단부(비제품 영역)에 반송 수단을 접촉 또는 계지시킬 수가 있다.

또, 본 발명의 매우 적합한 한 종류로서 스테이지의 상면에 가스 분출구멍이 일정 밀도의 가는 구멍으로서 형성되고 혹은 스테이지의 상면이 다공질 물질로 구성된다. 가스 분출구멍을 가는 구멍으로 하는 것으로, 스테이지측으로부터 기판상의 도포막에게 주는 열적 영향의 격차를 효과적으로 저감 할 수가 있다.

또, 본 발명의 매우 적합한 한 종류에 의하면 기판을 코로 반송으로 챔버의 밖에서 안에 반입하기 위한 반입구와 코로 반송으로 챔버의 안에서 밖에 반출하기 위한 반출구를 챔버의 측벽부에 설치하고, 반입구 및 반출구를 개폐하기 위한 게이트 기구를 챔버 측벽부의 밖에 설치한다. 이 경우, 반입구 및 반출구는 기판이 코로 반송으로 간신히 통과할 수 있을 정도의 크기로 끝나므로, 게이트 기구를 소형으로 할 수가 있다. 반입구 및 반출구는 서로 대향해 챔버의 측벽부에 따로 따로 설치되어도 좋지만, 1개의 반입 출구에서 겸용할 수도 있다.

또, 본 발명의 매우 적합한 한 종류에 의하면 기판을 평류하는 반송으로 챔버에 반입출 하기 위한 반송 기구가 설치된다. 기판이 구형의 경우 그 반송 기구는 스테이지의 양측에 튀어 나온 기판의 양측 단부에 각각 접촉해 기판을 기판 반송 방향으로 이동시키는 한 쌍의 반송 라인을 가진다. 바람직하게는, 그 반송 라인이 스테이지의 양사이드에서 각각 기판 반송 방향으로 소정의 피치로 일렬로 배치된 복수개의 사이드 롤러를 가진다.

또, 기판의 반입출을 유연하게 실시하기 위해서 바람직하게는 그 반송 기구에 대해 스테지와 반입구의 사이, 또는 스테이지와 반출구의 사이에 기판 반송 방향으로 나열하여 배치되고 1개 또는 복수 라인의 내부 코로를 가지는 구성이나, 반입구의 밖 또는 반출구의 밖에 기판 반송 방향으로 나열하여 배치된 1개 또는 복수 라인의 외부 코로를 가지는 구성도 취해도 좋다.

또, 본 발명의 매우 적합한 한 종류에 의하면,챔버내에서 스테이지를 승강 이동 또는 승강변위 시키기 위한 스테이지 승강기구가 설치된다. 괸련된 구성에 대해서는, 건조 처리를 실시할 때는 기판이 반송 라인으로부터 윗쪽으로 이간하여 스테이지의 상면에 재치되도록 스테이지를 스테이지 승강기구에 의해 제1의 높이 위 치까지 상승시켜, 기판의 반입출을 실시할 때는 기판이 스테이지에서 윗쪽으로 이간해 양측 단부가 반송 라인에 실리도록 스테이지를 스테이지 승강기구에 의해 제2의 높이 위치까지 하강시켜도 좋다.

이하, 첨부도를 참조해 본 발명의 매우 적합한 실시 형태를 설명한다.

도 1에, 본 발명의 감압 건조 장치를 적용할 수 있는 하나의 구성예로서의 도포 현상 처리 시스템을 가리킨다. 도포 현상 처리 시스템 (10)은 클린 룸내에 설치되고 예를 들어 구형의 유리 기판을 피처리 기판으로 하고, LCD 제조 프로세스에 대해 포트리소그래피 공정중의 세정, 레지스트 도포, 프리베이크, 현상 및 포스트베이크 등의 일련의 처리를 실시하는 것이다. 노광 처리는 이 시스템에 인접해 설치되는 외부의 노광 장치 (12)로 행해진다.

상기 도포 현상 처리 시스템 (10)은 중심부에 횡 길이의 프로세스 스테이션(P/S, 16)을 배치하고, 그 긴 방향(X방향) 양단부에 카셋트 스테이션(C/S, 14)와 인터페이스 스테이션(I/F, 18)을 배치하고 있다.

카셋트 스테이션(C/S, 14)는 시스템 (10)의 카셋트 반입출 포트이며, 기판 (G)를 다단에 겹쳐 쌓도록 해 복수매 수용 가능한 카셋트 (C)를 수평인 한 방향(Y방향)에 4개까지 나열하여 재치 가능한 카셋트 스테이지 (20)과 이 스테이지 (20)상의 카세트 (C)에 대해서 기판 (G)의 출입을 실시하는 반송 기구 (22)를 갖추고 있다. 반송 기구 (22)는 기판 (G)를 1매 단위로 유지할 수 있는 반송 아암 (22a)를 갖고 X, Y, Z,θ의 4축으로 동작가능하며, 인접하는 프로세스 스테이션(P/S, 16)측 과 기판 (G)의 수수를 실시할 수 있도록 되어 있다.

프로세스 스테이션(P/S, 16)은, 수평인 시스템 긴 방향(X방향)에 연장하는 평행 또한 역방향의 한 쌍의 라인 (A,B)에 각 처리부를 프로세스 플로우 또는 공정의 순서로 배치 하고 있다.

보다 상세하게는 카셋트 스테이션(C/S, 14)측으로부터 인터페이스 스테이션(I/F, 18)측에 향하는 상류부의 프로세스 라인 (A)에는 반입 유니트(IN　PASS, 24), 세정 프로세스부 (26), 제1의 열적 처리부 (28), 도포 프로세스부 (30) 및 제2의 열적 처리부 (32)가 제1의 평류하는 반송로 (34)에 따라 상류측으로부터 이 순서로 일렬로 배치되고 있다.

보다 상세하게는 반입 유니트(IN　PASS, 24)는 카셋트 스테이션(C/S, 14)의 반송 기구 (22)로부터 미처리의 기판 (G)를 수취하고, 소정의 택트로 제1의 평류하는 반송로 (34)에 투입하도록 구성되어 있다. 세정 프로세스부 (26)은 제1의 평류하는 반송로 (34)에 따라 상류측으로부터 차례로 엑시머 UV조사 유니트(E－UV, 36)및 스크러버 세정유니트(SCR, 38)을 설치하고 있다. 제1의 열적 처리부 (28)은 상류측으로부터 차례로 애드히젼 유니트(AD, 40) 및 냉각 유니트(COL, 42)를 설치하고 있다. 도포 프로세스부 (30)은 상류측으로부터 차례로 레지스트 도포 유니트(COT, 44) 및 감압 건조 유니트(VD, 46)을 설치하고 있다. 제2의 열적 처리부 (32)는 상류측으로부터 차례로 프리베이크 유니트(PRE－BAKE, 48) 및 냉각 유니트(COL, 50)을 설치하고 있다. 제2의 열적 처리부 (32)의 하류측 근처에 위치하는 제1의 평류하는 반송로 (34)의 종점에는 패스유니트(PASS, 52)가 설치되고 있다. 제1의 평류하는 반송로 (34)상을 평류하여 반송되어 온 기판 (G)는 이 종점의 패스 유니트(PASS, 52)로부터 인터페이스 스테이션(I/F, 18)에 건네주도록 되어 있다.

한편, 인터페이스 스테이션(I/F, 18)측으로부터 카셋트 스테이션(C/S, 14)측에 향하는 하류부의 프로세스 라인 (B)에는, 현상 유니트(DEV, 54), 포스트베이크 유니트(POST－BAKE, 56), 냉각 유니트(COL, 58), 검사 유니트(AP, 60) 및 반출 유니트(OUT－PASS, 62)가 제2의 평류하는 반송로 (64)에 따라 상류측으로부터 이 순서로 일렬로 배치되고 있다. 여기서, 포스트베이크 유니트(POST－BAKE, 56) 및 냉각 유니트(COL, 58)은 제3의 열적 처리부 (66)을 구성한다. 반출 유니트(OUT　PASS, 62)는 제2의 평류하는 반송로 (64)로부터 처리 끝난 기판 (G)를 1매씩 수취하여, 카셋트 스테이션(C/S, 14)의 반송 기구 (22)에 건네주도록 구성되어 있다.

프로세스 라인 (A,B)의 사이에는 보조 반송 공간 (68)이 설치되고 있어 기판 (G)를 1매 단위로 수평에 재치 가능한 셔틀 (70)이 도시하지 않는 구동 기구에 의해 프로세스 라인 방향(X방향)으로 쌍방향으로 이동할 수 있게 되어 있다.

인터페이스 스테이션(I/F, 18)은 상기 제 1 및 제2의 평류하는 반송로 (34, 64)나 인접하는 노광 장치 (12)로 기판 (G)의 교환을 행하기 위한 반송 장치 (72)를 갖고, 이 반송 장치 (72)의 주위에 로터리 스테이지(R/S, 74) 및 주변장치 (76)을 배치하고 있다. 로터리 스테이지(R/S, 74)는 기판 (G)를 수평면내에서 회전시키는 스테이지에서 있어, 노광 장치 (12)와의 수수에 있어 직사각형의 기판 (G)의 방향을 변환하기 위해서 이용된다. 주변장치 (76)은, 예를 들어 타이틀러(TITLER)나 주변 노광 장치(EE) 등을 제2의 평류하는 반송로 (64)에 접속하고 있다.

도 2에, 도포 현상 처리 시스템에 있어서의 1매의 기판 (G)에 대한 전체 공정의 처리 순서를 나타낸다. 먼저, 카셋트 스테이션(C/S, 14)에 대해, 반송 기구 (22)가 스테이지 (20)상의 어느쪽 1개의 카셋트 (C)로부터 기판 (G)를 1매 꺼내, 그 꺼낸 기판 (G)를 프로세스 스테이션(P/S, 16)의 프로세스 라인 (A)측의 반입 유니트(IN　PASS, 24)에 반입한다(스텝 S1). 반입 유니트(IN　PASS, 24)로부터 기판 (G)는 제1의 평류하는 반송로 (34)상에 이재 또는 투입된다.

제1의 평류하는 반송로 (34)에 투입된 기판 (G)는 먼저 세정 프로세스부 (26)에 대해 엑시머 UV조사 유니트(E－UV, 36) 및 스크러버 세정 유니트(SCR, 38)에 의해 자외선 세정 처리 및 스크러빙 세정 처리를 차례로 실시시킨다(스텝 S2, S3). 스크러버 세정 유니트(SCR, 38)은 평류하는 반송로 (34)상을 수평으로 이동하는 기판 (G)에 대해, 브러싱 세정이나 블로우 세정을 실시하는 것으로 기판 상면으로부터 입자 형상의 더러움을 제거 해, 그 후에 린스 처리를 가하고 마지막에 에어 나이프 등을 이용해 기판 (G)를 건조시킨다. 스크러버 세정 유니트(SCR, 38)에 있어서의 일련의 세정 처리를 끝내면 기판 (G)는 그대로 제 1의 평류하는 반송로 (34)를 내려 제1의 열적 처리부 (28)을 통과한다.

제1의 열적 처리부 (28)에 대해 기판 (G)는 먼저 애드히젼유니트(AD, 40)으로 증기 형상의 HMDS를 이용하는 애드히젼 처리가 가해져 피처리면을 소수화 시킨다(스텝 S4). 이 애드히젼 처리의 종료 후에, 기판 (G)는 냉각 유니트(COL,42)로 소정의 기판 온도까지 냉각된다(스텝 S5). 이 후도, 기판 (G)는 제1의 평류하는 반송로 (34)를 내려 도포 프로세스부 (30)에 반입된다.

도포 프로세스부 (30)에 대해 기판 (G)는 먼저 레지스트 도포 유니트(COT, 44)로 평류한 채 슬릿 노즐을 이용하는 스핀레스법에 의해 기판 상면(피처리면)에 레지스트액이 도포되는 직후에 하류측 근처의 감압 건조 유니트(VD, 46)으로 감압에 의한 상온의 건조처리를 받는다(스텝 S6).

도포 프로세스부 (30)을 나온 기판 (G)는 제1의 평류하는 반송로 (34)를 내려 제2의 열적 처리부 (32)를 통과한다. 제2의 열적 처리부 (32)에 대해 기판 (G)는 먼저 프리베이크 유니트(PRE－BAKE, 48)으로 레지스트 도포 후의 열처리 또는 노광전의 열처리로서 프리베이킹을 받는다(스텝 S7). 이 프리베이킹에 의해, 기판 (G)상의 레지스트막 안에 잔류하고 있던 용제가 증발해 제거되고 기판에 대한 레지스트막의 밀착성이 강화된다. 다음에, 기판 (G)는 냉각 유니트(COL, 50)으로 소정의 기판 온도까지 냉각된다(스텝 S8). 그 후, 기판 (G)는 제1의 평류하는 반송로 (34)의 종점의 패스 유니트(PASS, 52)로부터 인터페이스 스테이션(I/F, 18)의 반송 장치 (72)에 빼내진다.

인터페이스 스테이션(I/F, 18)에 대해 기판 (G)는 로터리 스테이지 (74)로 예를 들어 90번의 방향 변환을 받고 나서 주변장치 (76)의 주변 노광 장치(EE)에 반입되고 거기서 기판 (G)의 주변부에 부착하는 레지스트를 현상시에 제거하기 위한 노광을 받은 후에, 근처의 노광 장치 (12)에 보내진다(스텝 S9).

노광 장치 (12)에서는 기판 (G)상의 레지스트에 소정의 회로 패턴이 노광된다. 그리고, 패턴 노광을 끝낸 기판 (G)는 노광 장치 (12)로부터 인터페이스 스테이션(I/F, 18)에 되돌려지면(스텝 S9), 먼저 주변장치 (76)의 타이틀러(TITLER)에 반입되어 거기서 기판상의 소정의 부위에 소정의 정보가 기록된다(스텝 S10). 그 후, 기판 (G)는 반송 장치 (72)에 의해 프로세스 스테이션(P/S, 16)의 프로세스 라인 (B)측에 부설되고 있는 제2의 평류하는 반송로 (64)의 현상 유니트(DEV, 54)의 시점에 반입 된다.

이렇게 해 기판 (G)는 이번에는 제2의 평류하는 반송로 (64)상을 프로세스 라인 (B)의 하류 측에 향하여 반송된다. 최초의 현상 유니트(DEV, 54)에 대해, 기판 (G)는 평류하여 반송되는 동안에 현상, 린스, 건조의 일련의 현상 처리가 가해진다(스텝 S11).

현상 유니트(DEV, 54)로 일련의 현상 처리를 끝낸 기판 (G)는 그대로 제 2의 평류하는 반송로 (64)에 재치된 채로 제3의 열적 처리부 (66) 및 검사 유니트(AP, 60)을 차례로 통과한다. 제3의 열적 처리부 (66)에 대해 기판 (G)는 먼저 포스트베이크 유니트(POST－BAKE, 56)으로 현상 처리 후의 열처리로서 포스트베이킹을 받는다(스텝 S12). 이 포스트베이킹에 의해, 기판 (G)상의 레지스트막에 잔류하고 있던 현상액이나 세정액이 증발해 제거되고 기판에 대한 레지스트 패턴의 밀착성이 강화된다. 다음에, 기판 (G)는, 냉각 유니트(COL, 58)으로 소정의 기판 온도에 냉각된다(스텝 S13). 검사 유니트(AP, 60)에서는 기판 (G)상의 레지스트 패턴에 대해 비접촉의 선폭 검사나 막질·막두께 검사 등을 한다(스텝 S14).

반출 유니트(OUT　PASS, 62)는 제2의 평류하는 반송로 (64)로부터 전체 공정의 처리를 끝내고 온 기판 (G)를 수취하여, 카셋트 스테이션(C/S, 14)의 반송 기구 (22)에 건네준다. 카셋트 스테이션(C/S, 14)측에서는 반송 기구 (22)가 반출 유니 트(OUT　PASS, 62)로부터 수취한 처리 완료의 기판 (G)를 어느쪽 1개(통상은 원래의)의 카세트 (C)에 수용한다(스텝 S1).

도포 현상 처리 시스템 (10)에 대해서는 도포 프로세스부 (30)내의 감압 건조 유니트(VD, 46)에 본 발명을 적용할 수가 있다. 이하, 도 3~도 9에 대해, 본 발명의 적합한 실시 형태에 있어서의 도포 프로세스부 (30)내의 감압 건조 유니트(VD, 46)의 구성 및 작용을 상세하게 설명한다.

도 3은, 본 실시 형태에 있어서의 도포 프로세스부 (30)의 전체 구성을 나타내는 평면도이다. 도4~도 8은 감압 건조 유니트(VD, 46)의 구성을 나타내고, 도 4는 그 평면도, 도 5 및 도 6은 그 일부 단면 측면도, 도 7 및 도 8은 그 일부 단면 배면도이다. 도 9는, 감압 건조 유니트(VD, 46)에 설치되는 스테이지 내부의 구조를 나타내는 확대 단면도이다.

도 3에 대해, 레지스트 도포 유니트(COT, 44)는 제1의 평류하는 반송로 (34)(도 1)의 일부 또는 1구간을 구성하는 부상식의 스테이지 (80)과 이 스테이지 (80)상에서 공중에 떠 있는 기판 (G)를 스테이지 긴 방향(X방향)에 반송하는 기판 반송 기구 (82)와 스테이지 (80)상을 반송되는 기판 (G)의 상면에 레지스트액을 공급하는 레지스트 노즐 (84)와 도포 처리하는 동안에 레지스트 노즐 (84)를 리프레쉬 하는 노즐 리프레쉬부 (86)을 가지고 있다.

스테이지 (80)의 상면에는 소정의 가스(예를 들어 에어)를 윗쪽에 분사하는 다수의 가스 분사 구멍 (88)이 설치되고 있어 그러한 가스 분사구멍 (88)으로부터 분사되는 가스의 압력에 의해 기판 (G)가 스테이지 상면으로부터 일정한 높이로 부 상하도록 구성되어 있다.

기판 반송 기구 (82)는 스테이지 (80)을 사이에 두어 X방향으로 연장하는 한 쌍의 가이드 레일 (90A, 90B)와 이러한 가이드 레일 (90A, 90B)에 따라 왕복 이동 가능한 슬라이더 (92)와 스테이지 (80)상에서 기판 (G)의 양측 단부를 탈착 가능하게 유지하도록 슬라이더 (92)에 설치하고 흡착 패드 등의 기판 유지 부재(도시하지 않음)를 갖추고 있어 직진 이동 기구(미도시)에 의해 슬라이더 (92)를 반송 방향(X방향)으로 이동시키는 것에 의해, 스테이지 (80) 위에서 기판 (G)의 부상 반송을 실시하도록 구성되어 있다.

레지스트 노즐 (84)는 스테이지 (80)의 윗쪽을 반송 방향(X방향)과 직교하는 수평 방향(Y방향)에 횡단해 연장하는 긴형 노즐이며, 소정의 도포 위치에서 그 바로 아래를 통과하는 기판 (G)의 상면에 대해서 슬릿 형상의 토출구에 의해 레지스트액을 띠형상으로 토출하도록 되어 있다. 또, 레지스트 노즐 (84)는 이 노즐을 지지하는 노즐 지지 부재 (94)로 일체로 X방향으로 이동 가능하고 또한 Z방향으로 승강 가능하게 구성되고 있어 상기 도포 위치와 노즐 리플레쉬부 (86)과의 사이에 이동할 수 있게 되어 있다.

노즐 리프레쉬부 (86)은 스테이지 (80)의 윗쪽의 소정 위치에서 지주 부재 (96)에 유지되어 있고, 도포 처리를 위한 사전 준비로서 레지스트 노즐 (84)에 레지스트액을 토출시키기 위한 프라이밍 처리부 (98)과 레지스트 노즐 (84)의 레지스트 토출구를 건조 방지의 목적으로부터 용제 증기의 환경내로 유지하기 위한 노즐 버스 (100)과 레지스트 노즐 (84)의 레지스트 토출구 근방에 부착한 레지스트를 제 거하기 위한 노즐 세척기구 (102)를 구비하고 있다.

여기서, 레지스트 도포 유니트(COT, 44)에 있어서의 주된 작용을 설명한다.먼저, 전단계의 제1의 열적 처리부 (28)(도 1)에 의해 예를 들어 코로 반송으로 보내져 온 기판 (G)가 스테이지 (80)위의 전단측에 설정된 반입부에 반입되어 거기서 대기하고 있던 슬라이더 (92)가 기판 (G)를 유지하고 수취한다. 스테이지 (80)상에서 기판 (G)는 가스 분사구 (88)에 의해 분사되는 가스(에어)의 압력을 받아 대략 수평인 자세로 부상 상태를 유지한다.

그리고, 슬라이더 (92)가 기판을 유지하면서 감압 건조 유니트(VD, 46) 측에향하여 반송 방향(X방향)으로 이동하고 기판 (G)가 레지스트 노즐 (84) 아래를 통과할 때에, 레지스트 노즐 (84)가 기판 (G)의 상면으로 향해 레지스트액을 띠형상에 토출하는 것으로, 기판 (G)위에 기판 전단으로부터 후단으로 향해 융단이 깔리도록 해 레지스트액의 액막이 일면에 형성된다. 이렇게 해 레지스트액이 도포된 기판 (G)는, 그 후도 슬라이더 (92)에 의해 스테이지 (80)상에서 부상 반송되고 스테이지 (80)의 후단을 넘어 후술 하는 코로 반송로 (104)를 타고 이동하고, 거기서 슬라이더 (92)에 의한 유지가 해제된다. 코로 반송로 (104)에 갈아 탄 기판 (G)는 거기에서 먼저 후술 하는 바와 같이 코로 반송로 (104)상을 코로 반송으로 이동해 후단의 감압 건조 유니트(VD, 46)에 반입된다.

도포 처리가 끝난 기판 (G)를 상기와 같이 해 감압 건조 유니트(VD, 46)측으로 내보낸 후, 슬라이더 (92)는 다음의 기판 (G)를 수취하기 위해서 스테이지 (80)의 전단측의 반입부에 되돌아간다. 또, 레지스트 노즐 (84)는, 1회 또는 여러 차례의 도포 처리를 끝내면 도포 위치(레지스트액토출 위치)로부터 노즐 리프레쉬부 (86)에 이동해 거기서 노즐 세정이나 프라이밍 처리 등의 리프레쉬 내지 사전 준비를 하고 나서, 도포 위치로 돌아간다.

도 3에 나타나는 바와 같이 레지스트 도포 유니트(COT, 44)의 스테이지 (80)의 연장선상(하류측)에는, 제1의 평류하는 반송로 (34)(도 1)의 일부 또는 1구간을 구성하는 코로 반송로 (104)가 부설되고 있다. 이 코로 반송로 (104)는 감압 건조 유니트(VD, 46)의 챔버 (106)내까지 이어지고 있다.

감압 건조 유니트(VD, 46) 회전에는 레지스트 도포 유니트(COT, 44)로부터 챔버 (106)내까지 연장하는 상기 반입측인 코로 반송로 (104)에 부가하여, 챔버 (106)의 내부에 부상식의 롤러 반송로 (108)이 부설되는 것과 동시에, 챔버 (106)내에서 후단의 처리부(제2의 열적 처리부 (32))까지 반출측인 코로 반송로 (110)이 부설되고 있다.

반입측 코로 반송로 (104)는 레지스트 도포 유니트(COT, 44)의 스테이지 (80)으로부터 부상 반송의 연장으로 반출된 기판 (G)를 수취하여 감압 건조 유니트(VD, 46)의 챔버 (106)에 코로 반송으로 보내 넣도록 구성되어 있다. 부상식 롤러 반송로 (108)은 반입측 코로 반송로 (104)로부터 코로 반송으로 보내져 오는 기판 (G)를 같은 속도의 부상식 롤러 반송으로 챔버 (106)내로 끌여들이는 것과 동시에, 챔버 (106)내에서 감압 건조 처리가 끝난 기판 (G)를 챔버 (106)의 밖(후단)에 부상식 롤러 반송으로 보내도록 구성되어 있다. 반출측 코로 반송로 (110)은 부상식 롤러 반송로 (108)에 의해 부상식 롤러 반송으로 보내지고 처리완료의 기판 (G) 를 같은 속도의 코로 반송으로 챔버 (106)의 밖으로 꺼내 후단의 제2의 열적 처리부 (32)에 보내도록 구성되어 있다.

도 3~도 8에 나타나는 바와 같이 감압 건조 유니트(VD, 46)의 챔버 (106)은, 비교적 평평한 직방체로 형성되고 그 안에 기판 (G)를 수평에 수용할 수 있는 공간을 가지고 있다. 이 챔버 (106)의 반송 방향(X방향)에 대해 서로 마주보는 한 쌍(상류측 및 하류측)의 챔버 측벽에는, 기판 (G)가 평류하여 반송되는 간신히 통과할 수 있을 정도의 크기에 형성된 슬릿 형상의 반입구 (112) 및 반출구 (114)가 각각 설치되고 있다. 또한 이러한 반입구 (112) 및 반출구 (114)를 개폐하기 위한 게이트 기구 (116, 118)이 챔버 (106)의 외벽에 장착되고 있다. 챔버 (106)의 상면부 또는 상부 덮개 (120)은, 멘터넌스용으로 분리 가능하게 되어 있다.

각 게이트 기구 (116, 118)은 도시 생략 하지만, 슬릿 형상의 반입 출구(112, 114)를 기밀하게 덮을 수 있는 덮개(밸브 본체)와 이 덮개를 반입 출구(112, 114)와 수평에 대향하는 수직 주행위치와 그것보다 낮은 수직 역행위치의 사이에 승강 이동시키는 제1의 에어실린더와 덮개를 반입 출구(112, 114)에 대해서 기밀하게 밀착하는 수평 주행위치와 이간 또는 분리하는 수평 역행위치와의 사이에 수평 이동시키는 제2의 에어 실린더를 구비하고 있다.

부상식 롤러 반송로 (108)은, 챔버 (106)내의 중심부에 수평 또한 승강 가능하게 배치된 편평·구형의 스테이지 (122)와 반입구 (112)로부터 반출구 (114)에 향하는 기판 반송방향(X방향)을 전방으로서 스테이지 (122)의 좌우 양측으로 배치된 롤러 반송로 (124L, 124R)로 구성되어 있다.

도 4에 나타나는 바와 같이 스테이지 (122)의 상면에는 일정한 밀도로 다수 또는 무수한 가스 분출 구멍 (126)이 형성되고 있다. 이 감압 건조 유니트(VD, 46)으로 기판 (G)의 반입출이 행해질 때는, 스테이지 (122) 위에서 기판 (G)를 띄우기 위해서 각 가스 분출구멍 (126)에 의해 적당한 압력으로 가스(예를 들어 에어)가 분출하게 되어 있다. 스테이지 (122)의 상면은 기판 (G)와 동일형태의 구형으로, 기판 (G) 보다는 작고, 기판 (G)의 제품 영역보다 큰 사이즈를 갖고 있다. 일반적으로,LCD용의 유리 기판에 대해서는, 기판 상면(피처리면)의 주변부에 소정폭(예를 들어 20~30 mm폭)의 마진 영역이 설정되어 마진 영역보다 내측의 유효 영역 즉 제품 영역에 LCD 디바이스가 형성된다. 제품 영역이 레지스트막의 품질을 보증해야 하는 보증 영역이다. 통상은, 스테이지 (122)의 상면에 기판 (G)를 센터링 해 재치했을 때에 기판 (G)의 각 변이 스테이지 (122)의 각 변보다 15 mm~20 mm만 밖으로 돌출하도록 스테이지 (122)의 상면 사이즈를 선정해도 좋다.

스테이지 (122)안에는, 도 9에 나타나는 바와 같이 공동의 가스 버퍼실 (128)이 설치되고 있다. 이 가스 버퍼실 (128)은 스테이지 상면의 가스 분출구멍 (126)에 연통함과 동시에 스테이지 아래쪽 면의 배관 (130)에 연통하고 있다. 가스 분출구멍 (126)은 후술하는 바와 같이 레지스트막으로의 열적 영향의 격차나 전사자취의 발생을 확실히 방지하는데 가는 구멍 내지 미세 구멍이 바람직하다. 도시의 구성예는, 스테이지 (122)의 상면판 (122a)의 아래쪽 면에 임의 구멍 (127)을 형성해, 이 임의 구멍 (127)의 두꺼운 천정면의 중심으로 가는 구멍 내지 미세지름(바람직하게는φ0. 3 mm이하)의 가스 분출구멍 (126)을 천공하고 있다. 가스 버퍼실 (128)내에는, 상면판 (122a)의 굴곡을 방지하기 위한 기둥 (132)가 적재 적소에 설치되고 있다. 배관 (130)은 챔버 (106)의 밖으로부터 끌어 들여지고 있고 스테이지 (122)의 승강에 맞추어 함께 승강 또는 신축하게 되어 있다. 배관 (130)을 통하기 위해서 챔버 (106)의 바닥벽에 형성된 구멍은 씰 부재 (131)에 의해 봉인되고 있다.

챔버 (106)의 밖에서 배관 (130)은 가스 공급관 (134)를 개재시켜 부상용 가스 공급부 (136)에 통하는 것과 동시에, 배기관 (138)을 개재시켜 진공 배기 장치 (140)에도 통하고 있다. 가스 공급관(134) 및 배기관 (138)에는 개폐 밸브(전자 밸브, 142, 144)가 각각 설치되고 있다. 부상용 가스 공급부 (136)은, 압력 또는 공장용력의 압축 공기원 및 레귤레이터 등으로 이루어지고 소정 압력의 압축 공기를 송출한다. 진공 배기 장치 (140)은, 진공 펌프를 가지고 있어 배기관 (138)을 통해서, 배관 (130) 및 스테이지 (122)내의 가스버퍼실 (128)을 대기압 상태로부터 진공으로 끌어 소정 진공도의 감압 상태로 하는 기능을 갖고 있다.

스테이지 (122)를 승강 이동시키기 위해서 챔버 (106) 아래에 소정의 간격을 두고 복수개의 에어 실린더 (146)이 승강 구동원으로서 배치되어 챔버 (106)의 바닥벽을 수직 방향으로 승강 이동 가능하게 관통하는 지지축 (148)을 개재시켜 스테이지 (122)에 에어 실린더 (146)의 피스톤 로드가 접속되고 있다. 각 지지축 (148)을 통하기 위해서 챔버 (106)의 바닥벽에 형성된 구멍은 가이드 기능을 가지는 씰 부재 (150)에 의해 봉인 되고 있다.

도 4에 나타나는 바와 같이 스테이지 (122)의 좌우 양측으로 기판 반송 방 향(X방향)으로 연장하는 한 쌍의 롤러 반송로 (124L, 124R)은 각각 동일 방향으로 일정 간격으로 다수의 사이드 롤러 (152)를 일렬로 배치하고 있다. 각 사이드 롤러 (152)는 원판체 또는 원주체로 이루어지고 중심부로부터 Y방향 외측에 수평에 연장하는 롤러 지지축 (154)가 그 중간부에서 베어링 (156)에 의해 회전 가능하게 지지를 받는 것과 동시에, 그 선단부에서 마그넷식의 우산 톱니바퀴 (158)을 개재시켜 공통 구동 샤프트 (160)에 접속되고 있다. 우측 롤러 반송로 (124R)의 구동 샤프트 (160)은, 챔버 (106)의 밖에 장착된 회전 구동원의 모터 (162)에 구동 풀리 (164), 타이밍 벨트 (166) 및 종동풀리 (169)를 개재시켜 접속되고 있다. 좌측 롤러 반송로 (124L)의 구동 샤프트 (160)은 챔버 (106)내에서 반입측 코로 반송로 (104) 및 반출측 코로 반송로 (110)의 일부를 각각 구성하는 코로 (172, 174)를 개재시켜 우측 구동 샤프트 (160)으로부터 회전 구동력이 전달되게 되어 있다. 다른 구성예로서 좌측 롤러 반송로 (124L)의 구동 샤프트 (160)을 상기 모터 (162)와는 다른 회전 구동원에 접속하는 구성도 가능하다.

도 4 및 도 7에 나타나는 바와 같이 롤러 반송로 (124L, 124R)의 각 사이드 롤러 (152)는, 기판 (G)가 반입측 코로 반송로 (104)로부터 스테이지 (106) 위에 이송되어 올 때에, 혹은 기판 (G)가 스테이지 (106) 위로부터 반출측 코로 반송로 (110)에 보내질 때에, 스테이지 (106)의 Y방향 외측으로 돌출한 기판 양측 단부가 사이드 롤러 (152) 위에 실리도록 Z방향 및 Y방향의 위치에 배치된다. 기판 (G)와 접촉하는 사이드 롤러 (152)의 외주면에는 슬라이딩 멈춤에 유효한 고무제의 O링 (152a)가 장착되어도 좋다(도 7).

도 5에 나타나는 바와 같이 챔버 (106)의 바닥벽에는 1개소 또는 복수개소에 배기구 (163)이 형성되고 있다. 이들의 배기구 (163)에는 배기관 (165)를 개재시켜 진공 배기 장치 (140)이 접속되고 있다. 진공 배기 장치 (140)은 배기관 (165)를 통해서, 챔버 (106)내를 대기압 상태로부터 진공으로 끌여들여 소정 진공도의 감압 상태로 하는 기능을 가지고 있다. 배기관 (165)에는 개폐 밸브(전자 밸브, 167)이 설치되고 있다.

챔버 (106)내의 양단부, 즉 반입구 (112) 및 반출구 (114)의 근처에서 코로 반송로 (104, 110) 보다 낮은 위치에, Y방향으로 연장하는 질소 가스 분출관 (168)이 설치되어 있다. 이러한 질소 가스 분출관 (168)은, 예를 들어 금속 분말을 소결하여 이루어지는 다공질의 중공관으로 이루어지고 가스 공급관 (170; 도 4)을 개재시켜 질소 가스 공급원(도시하지 않음)에 접속되고 있다. 감압 건조 처리의 종료후에 챔버 (106)을 밀폐한 채로 감압 상태로부터 대기압 상태에 되돌릴 때에, 이러한 질소 가스 분출관 (168)이 사방면으로부터 질소 가스를 분출하도록 되어 있다.

반입측 코로 반송로 (104)를 구성하는 코로 (172)는, 반입구 (112)에 대응한 높이 위치에서 기판 반송 방향(X방향)으로 적당한 간격을 두어 일렬로 배치되고 있다. 그 중에서 챔버 (106)의 밖에 설치되고 있는 코로 (172A)는 전용의 구동 모터에 적당한 전동 기구를 개재시켜 접속되고 있고, 챔버 (106)내의 코로 (172B)는 상술한 것처럼 롤러 반송로 (124L, 124R)의 사이드 롤러 (152)로 공통의 구동 샤프트 (160)을 개재시켜 공통의 구동모터 (162)에 접속되고 있다.

반출측 코로 반송로 (110)을 구성하는 코로 (174)도, 반출구 (114)에 대응한 높이 위치에서 기판 반송 방향(X방향)으로 적당한 간격을 두고 일렬로 배치되고 있다. 그 중에서, 챔버 (106)의 밖에 설치되고 있는 코로 (174A)는 전용의 구동 모터에 적당한 전동 기구를 개재시켜 접속되고 있고 챔버 (106)내의 코로 (174B)는 상술한 바와 같이 롤러 반송로 (124L, 124R)의 사이드 롤러 (152)와 공통의 구동 샤프트 (160)을 개재시켜 공통의 구동모터 (162)에 접속되고 있다.

다음에, 본 실시 형태에 있어서의 감압 건조 유니트(VD, 46)의 작용을 설명한다.

　상기한 바와 같 이 상류측 근처의 레지스트 도포 유니트(COT, 44)로 레지스트액을 도포된 기판 (G)는, 평류하여 반송되는 스테이지 (80)상의 부상 반송로로부터 반입측 코로 반송로 (104)에 갈아 탄다. 그 후, 도 5에 나타나는 바와 같이 기판 (G)는 반입측 코로 반송로 (104)상을 코로 반송으로 이동하고, 감압 건조 유니트(VD, 46)의 챔버 (106)안에 그 반입구 (112)가 진입한다. 이 때, 게이트 기구 (116)은 반입구 (112)를 열어 둔다.

챔버 (106)내의 부상식 롤러 반송로 (108)도 반입측 코로 반송로 (104)의 코로 반송 동작과 타이밍이 맞는 동일 반송 속도의 부상식 롤러 반송 동작을 실시한다. 이 때문에, 개폐 밸브 (144)를 오프, 개폐 밸브 (142)를 온으로 해, 가스 부상용 가스 공급부 (136)에 의해 가스 공급관 (134) 및 배관 (130)을 개재시켜 스테이지 (122)내의 가스 버퍼실 (128)에 압축 공기를 보내 넣고, 스테이지 상면의 가스 분출구멍 (126)에 의해 소정의 압력으로 에어를 분출하게 한다. 또, 모터 (162)를 온으로 해, 좌측 및 우측 롤러 반송로 (124L, 124R)의 모두의 사이드 롤러 (152)를 일정한 회전 속도로 회전시킨다. 이것에 의해, 도 5 및 도 7에 나타나는 바와 같이 반입구 (112)로부터 들어온 기판 (G)는, 스테이지 (122)상에서는 가스 분출구멍 (126)으로부터 받는 공기의 압력으로 부상하고 스테이지 (122)로부터 좌우 외측에 돌출하는 기판 양측 단부가 좌측 및 우측 롤러 반송로 (124L, 124R)의 사이드 롤러 (152) 위에 각각 타고 사이드 롤러 (152)의 회전에 의해 기판 반송 방향(X방향)에 평류하여 반송된다.

또한 상기와 같이 전단 또는 상류측 근처의 레지스트 도포 유니트(COT, 44)로부터 감압건조 처리를 받아야 할 기판 (G)가 챔버 (106)에 반입될 때, 이것과 동시(또는 직전)에, 도 5에 나타나는 바와 같이 챔버 (106)내에서 감압 건조 처리를 받은지 얼마 안된 선행 기판 (G)가 부상식 롤러 반송로 (108) 및 반출측 코로 반송로 (110)상의 연속한 같은 속도의 평류하는 반송에 의해 반출구 (114)로부터 챔버 (106)의 밖에 나와 그대로 후단 또는 하류측 근처의 제2의 열적 처리부 (32)(도 1)에 보내진다. 기판 (G)는 반입출시에 스테이지 (122)의 상면(가는 지름으로 조밀한 가스 분출구멍 (126))로부터 부상용의 공기류를 대략 균일한 압력으로 수취하기 때문에, 기판 (G)상의 레지스트막이 스테이지 (122)측에서 받는 열적 영향의 격차는 작고, 실질적으로 무시할 수 있다.

상기와 같이 해, 레지스트 도포 유니트(COT, 44)로 레지스트액이 도포되어 온 기판 (G)가, 반입측 코로 반송로 (104) 및 부상식 롤러 반송로 (108)상의 연속적인 평류 반송에 의해 감압 건조 유니트(VD, 46)의 챔버 (106)에 반입된다. 이 직후에, 게이트 기구 (116, 118)이 작동해, 이제까지 열어둔 반입구 (112) 및 반출입 (114)를 각각 덮어 챔버 (106)을 밀폐한다.

그 다음에, 부상용 가스 공급관 (134)의 개폐 밸브 (142)를 오프로 해 스테이지 (122)의 상면(가스 분출구멍 (126))에 있어서의 에어의 분출을 정지함과 동 시에 승강 실린더 (146)을 주행시켜, 기판 (G)의 이면 또는 아래쪽 면이 롤러 반송로 (124L, 124R)의 사이드 롤러 (152)로부터 윗쪽으로 이간하고 또한 기판 (G)의 상면과 챔버 (108)의 천정면과의 거리 간격(갭, D)가 설정값이 되는 높이 위치까지 스테이지 (122)를 소정의 스트로크만 상승시킨다. 또한 상기 갭 (D)는, 기판 (G) 위를 흐르는 가스의 유속 나아가서는 레지스트막의 건조 속도에 영향을 주는 팩터 또는 파라미터이다.

상기와 같은 스테이지 (122)의 상승 이동에 연동시켜, 배기관 (138, 165)의 개폐 밸브 (144, 167)을 온으로 하고, 부상 가스 라인(130, 128) 및 챔버 (106)내 공간을 진공 배기 장치 (140)에 접속한다. 개폐 밸브 (144, 167)을 온으로 하는 타이밍은 동시라도 좋지만, 통상은 부상 가스 라인(130, 128) 측의 개폐 밸브 (144)의 온을 빨리 하는 것이 바람직하다. 이렇게 해, 기판 (G)는 주행(상승) 높이 위치에서 스테이지 (122)의 상면에 기판 이면이 직접적으로 접촉한 상태로 재치되고, 챔버 (106)내의 공간은 물론 부상가스라인(130, 128) 내도 진공 배기된다.

상기와 같이 챔버 (106)내에서 기판 (G)가 감압 환경안에 놓여지는 것으로, 기판 (G)상의 레지스트액막으로부터 용제(시너)가 상온하에서 효율적으로 증발하고, 적당히 건조한 레지스트막이 된다. 이 감압 건조 처리중은 기판 (G)의 제품 영역 전면에 스테이지 (122)의 평탄한 상면이 접촉하고 있으므로, 기판 제품 영역내 의 온도 분포가 대략 균일하게 되어, 기판 (G)의 제품 영역안에 전사자취가 발생할 우려는 없다. 또한 스테이지 (122)의 상면에 설치되고 있는 가스 분출구멍 (126)은 가는 구멍 내지 미세 구멍이며, 또한 한결같은 밀도로 일면에 분포하고 있으므로, 기판 제품 영역내의 온도 분포에 영향을 주는 경우는 없다.

상기의 감압 건조 처리는 일정시간을 경과하면 혹은 챔버 (106)내의 압력이 설정값에 이르면 거기서 종료하고, 진공 배기 장치 (140)의 배기 동작을 정지시켜, 배기관 (138,165)의 개폐 밸브 (144, 167)을 오프로 한다. 이것과 교체하여 질소 가스 분출관 (168)에 의해 챔버 (106)내에 질소 가스를 흘려 넣는다. 그리고, 실내의 압력이 대기압까지 올라가고 나서 게이트 기구 (116, 118)을 작동(역행)시켜 반입구 (112) 및 반출구 (114)를 연다. 이것과 전후해, 부상 가스 공급관 (134)의 개폐 밸브 (142)를 온으로 해, 가스 부상용 가스 공급부 (136)에 의해 가스 공급관 (134) 및 배관 (130)을 개재시켜 스테이지 (122)내의 가스 버퍼실 (128)에 압축 공기를 보내 넣고 스테이지 상면의 가스 분출구멍 (126)에 의해 소정의 압력으로 에어를 분출하게 한다. 한편, 승강 실린더 (146)을 역행 시켜, 스테이지 (122)상에서 부상하는 기판 (G)의 이면 또는 아래쪽 면이 롤러 반송로 (124L, 124R)의 사이드 롤러 (152)를 타는 높이 위치까지 스테이지 (122)를 소정의 스트로크만 하강시킨다.

이 직후에, 부상식 롤러 반송로 (108) 및 반출측 코로 반송로 (110)상에서 동일 속도의 평류하는 반송 동작이 개시되고, 감압 처리를 받은지 얼마 안된 해당 기판 (G)는 반출구 (114)로부터 부상식 롤러 반송 및 코로 반송에 의해 반출되고, 그대로 후단의 제2의 열적 처리부 (32)(도 1)에 평류하여 보내진다. 상기 처리필 기판 (G)의 반출 동작과 동시에, 도 5에 나타나는 바와 같이, 레지스트 도포 유니트(COT, 44)로부터의 후속의 기판 (G)가, 반입측 코로 반송로 (104) 및 부상식 롤러 반송로 (108)상의 연속적인 평류하는 반송에 의해 반입구 (112)로부터 챔버 ( 106)내에 반입되어도 좋다.

상기한 바와 같이 감압 건조 유니트(VD, 46)은 감압 건조 처리를 받아야 할 기판 (G)를 코로 반송 및 부상식 롤러 반송으로 챔버 (106)안에 반입하고 챔버 (106)내에서 감압 건조 처리가 끝난 기판 (G)를 부상식 롤러 반송 및 코로 반송에 의해 챔버 (106)의 밖에 반출하도록 했으므로, 챔버 (106)에 대한 기판 (G)의 반입출에 대해, 반송 아암을 이용하는 반송 로보트는 불필요하고, 기판을 부채와 같이 휘게하여 로딩/언로딩 시에 위치 차이나 충돌·파손 등의 에러를 일으키지 않고 끝난다. 또, 챔버 (106)의 측벽에 설치한 슬릿 형상의 반입구 (112) 및 반출구 (114)를 통과하게 해 기판 (G)의 반입출을 실시하므로, 1~2톤 이상인 챔버 (106)의 상부 덮개 (120)을 개폐(오르내림)하는 조작도 불필요하고, 큰 진동에 의한 발진의 문제는 없고, 작업원에 대한 안전성도 확보되고 있다. 또한 감압 건조 처리중은, 기판 (G)의 제품 영역 전체면에 스테이지 (122)의 상면이 접촉하므로, 기판 (G)의 제품 영역내에 접촉 부재의 전사자취가 발생할 우려는 없다.

이상 본 발명을 매우 적합한 실시 형태에 대해 설명했지만, 본 발명은 상기 실시 형태로 한정되는 것은 아닌 그 기술적 사상의 범위내에서 여러 가지의 변형이 가능하다.

예를 들면 부상식 롤러 반송로 (108)에 대해, 스테이지 (122)의 좌우 양측으로 설치하는 롤러 반송로 (124L, 124R)를, 기판 반송 방향(X방향)으로 연장하는 벨트 반송로에서 대용하는 것도 가능하다. 혹은, 기판 (G)의 반입출시에는 기판 (G)의 양측 단부에 흡착 패드로 결합해 기판 (G)를 기판 반송 방향(X방향)으로 반송하고 감압 건조 처리중은 그 흡착 패드를 기판 (G)로부터 분리하도록 반송 기구도 가능하다. 또, 부상식 롤러 반송로 (108)의 반송 수단으로서 외부 반송 로보트의 반송 아암을 이용하는 것도 가능하다. 이 경우는 기판 (G)와 함께 반송 아암도 통과할 수 있도록 반입 출구 (112, 114)를 크게 할 필요가 있다.

또, 스테이지 (122)의 상면을 상기 실시 형태에 있어서와 같은 천공판에 대신해, 다수의 가는 구멍을 가지는 다공질 물질로 구성하는 것도 가능하다. 상기 실시 형태는 챔버 (106)내 공간의 진공 배기와 부상용 가스 라인(130, 128)의 진공 배기를 공통(동일)의 진공 배기 장치 (140)으로 행했지만, 별개 독립의 진공 배기 장치로 행해도 괜찮다.

상기한 실시 형태에 있어서의 감압 건조 유니트(VD, 46)의 챔버 (106)은 반송 방향으로 서로 마주 보는 한 쌍의 챔버 측벽에 반입구 (112) 및 반출구 (114)를 각각 설치하여, 기판 (G)가 챔버 (106)을 빠져 나가는 구성으로 되고 있다. 그러나, 챔버 (106)의 한 측벽에 설치한 1개의 반입 출구에서 반입구와 반출구를 겸용시키는 구성도 가능하고, 그 경우는 반입측 코로 반송로 (104)로 반출측 코로 반송로 (110)의 공용화도 도모할 수 있다.

본 발명에 있어서의 피처리 기판은 LCD용의 유리 기판에 한정하는 것은 아니 고, 다른 플랫 패널 디스플레이용 기판이나, 반도체 웨이퍼, CD기판, 포트마스크(photomask), 프린트 기판 등도 가능하다. 감압 건조 처리 대상의 도포액도 레지스트액에 한정하지 않고, 예를 들어 층간 절연 재료, 유전체 재료, 배선 재료 등의 처리액도 가능하다.

본 발명의 감압 건조 장치에 의하면, 상기와 같은 구성 및 작용에 의해, 피처리 기판의 반입출을 효율적으로 안전하고 유연하게 실시하고 또한 기판상의 도포막에 전사 흔적이 남는 것을 효과적으로 방지할 수가 있다.

Claims

피처리 기판상의 도포액에 감압 상태로 건조 처리를 가하는 감압 건조 장치로서,

상기 기판을 대략 수평 상태로 수용하기 위한 공간을 가지는 감압 가능한 챔버와,

상기 건조 처리중에 상기 챔버내의 공간을 밀폐 상태로 진공 배기하기 위한 제 1의 배기기구와,

상기 챔버내에서 상기 기판을 재치하기 위한 상면을 갖고, 또한 상기 상면에 상기 기판을 부상 시키는 가스를 분출하기 위한 다수의 가스 분출구멍을 가지는 스테이지와,

상기 가스 분출구멍에 상기 스테이지안을 통과하는 가스 라인을 개재시켜 기판 부상용의 가스를 공급하기 위한 가스 공급부와,

상기 가스 라인을 진공 배기하기 위한 제 2의 배기 기구를 갖고, 상기 건조 처리를 실시할 때는 상기 가스 라인을 상기 제 2의 배기 기구에 접속해 상기 기판을 상기 스테이지의 상면에 재치하고, 상기 기판의 반입출을 실시할 때는 상기 가스 라인을 상기 가스 공급부에 접속해 상기 기판을 상기 스테이지상에서 부상시키는 것을 특징으로 하는 감압 건조 장치.
청구항 1에 있어서,

상기 스테이지의 상면은 상기 기판보다는 작고 상기 기판의 제품 영역보다 큰 것을 특징으로 하는 감압 건조 장치.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,

상기 스테이지의 상면에 상기 가스 분출구멍이 일정 밀도의 가는 구멍으로서 형성되는 것을 특징으로 하는 감압 건조 장치.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,

상기 스테이지의 상면이 다공질 물질로부터 이루어지는 것을 특징으로 하는 감압 건조장치.
청구항 2에 있어서,

상기 기판을 상기 챔버의 밖에서 안에 반입하기 위한 반입구와 상기 기판을 상기 챔버의 안에서 밖에 반출하기 위한 반출구를 상기 챔버의 측벽부에 설치하고,

상기 반입구 및 상기 반출구를 개폐하기 위한 게이트 기구를 상기 챔버 측벽부의 밖에 설치하는 것을 특징으로 하는 감압 건조 장치.
청구항 5에 있어서,

상기 반입구 및 상기 반출구가 서로 대향 해 상기 챔버의 측벽부에 따로 따로 설치되는 것을 특징으로 하는 감압 건조 장치.
청구항 2에 있어서,

상기 기판을 평류하는 반송으로 상기 챔버에 반입출하기 위한 반송 기구를 가지는 것을 특징으로 하는 감압 건조 장치.
청구항 7에 있어서,

상기 기판이 구형이고,

상기 반송 기구가, 상기 스테이지의 양측에 돌출하는 상기 기판의 양측 단부에 각각 접촉하여 상기 기판을 기판 반송 방향으로 이동시키는 한 쌍의 반송 라인을 가지는 것을 특징으로 하는 감압건조 장치.
청구항 8에 있어서,

상기 반송 라인이, 상기 스테이지의 양사이드에서 각각 기판 반송 방향으로 소정의 피치로 일렬로 배치된 복수개의 사이드 롤러를 가지는 것을 특징으로 하는감압 건조 장치.
청구항 7항에 있어서,

상기 반송 기구가 상기 스테이지와 상기 반입구와의 사이 또는 상기 스테이지와 상기 반출구의 사이에 기판 반송 방향으로 나열하여 배치된 1개 또는 복수 라인의 내부 코로를 가지는 것을 특징으로 하는 감압 건조 장치.
청구항 7에 있어서,

상기 반송 기구가, 상기 반입구의 밖 또는 상기 반출구의 밖에 기판 반송 방향으로 나열하여 배치된 1개 또는 복수 라인의 외부 코로를 가지는 것을 특징으로 하는 감압 건조 장치.
청구항 2에 있어서,

상기 챔버내에서 상기 스테이지를 승강 이동 또는 승강 변위시키기 위한 스테이지 승강기구를 가지는 것을 특징으로 하는 감압 건조 장치.
청구항 12에 있어서,

상기 건조 처리를 실시할 때는 상기 기판이 상기 반송 라인으로부터 윗쪽으로 이간해 상기 스테이지의 상면에 재치되도록 상기 스테이지를 상기 스테이지 승강기구에 의해 제1의 높이 위치까지 상승시키고, 상기 기판의 반입출을 실시할 때는 상기 기판이 상기 스테이지에서 윗쪽으로 이간해 기판 양측 단부가 상기 반송 라인에 실리도록 상기 스테이지를 상기 스테이지 승강기구에 의해 제2의 높이 위치까지 하강시키는 것을 특징으로 하는 감압 건조 장치.