KR101021839B1 - 기판 상의 포토레지스트막을 건조하기 위한 장치 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (8)
- 기판 상에 형성된 포토레지스트막에 대한 건조 공정이 수행되는 공간을 제공하는 챔버;상기 챔버 내에 배치되어 상기 기판을 지지하며 회전 가능한 다수의 롤러들;상기 기판의 일측으로부터 타측을 향하는 방향으로 상기 기판을 이송하기 위하여 상기 롤러들을 회전시키는 구동부; 및상기 챔버와 연결되며 상기 포토레지스트막을 건조시키기 위하여 상기 챔버 내부에서 진공 분위기를 형성하는 진공 모듈을 포함하고,상기 챔버의 상부 및 하부에는 상기 진공 모듈과 연결되는 적어도 하나의 상부 진공홀 및 적어도 하나의 하부 진공홀이 형성되어 있으며, 상기 챔버 내부에는 상기 상부 진공홀로부터 하방으로 이격되며 상기 기판의 상부 공간에서 상기 상부 진공홀로 향하는 배기 흐름을 부분적으로 차단하기 위한 플레이트가 배치되는 것을 특징으로 하는 포토레지스트막의 건조 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 챔버 내에서 상기 기판의 이송 방향으로 배열되어 상기 기판의 이송 방향에 대하여 수직하는 방향으로 서로 평행하게 연장하며 상기 다수의 롤러들이 장착되는 회전축들을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 건조 장치.
- 제2항에 있어서, 상기 회전축들은 상기 챔버의 측벽을 통해 연장하며, 상기 연장된 회전축들의 단부들은 다수의 풀리들과 벨트에 의해 서로 연결되고, 상기 구동부는 상기 회전축들 중 하나와 연결되는 것을 특징으로 하는 건조 장치.
- 제2항에 있어서, 상기 회전축들 사이의 간격은 60 내지 150mm인 것을 특징으 로 하는 건조 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 기판을 지지하는 각각의 롤러들의 가장자리 부위는 상기 기판과의 접촉 면적을 감소시키기 위하여 삼각형의 단면 형태를 갖는 것을 특징으로 하는 건조 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 챔버는 하부 챔버와 상부 챔버를 포함하며, 상기 상부 챔버는 상기 기판의 반입 및 반출을 위하여 상기 기판의 이송 방향에 대해 수직 방향으로 이동 가능하게 구성된 것을 특징으로 하는 건조 장치.
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- 기판 상에 형성된 포토레지스트막에 대한 건조 공정이 수행되는 공간을 제공하는 챔버;상기 챔버 내에 배치되어 상기 기판을 지지하며 회전 가능한 다수의 롤러들;상기 기판의 일측으로부터 타측을 향하는 방향으로 상기 기판을 이송하기 위하여 상기 롤러들을 회전시키는 구동부; 및상기 챔버와 연결되며 상기 포토레지스트막을 건조시키기 위하여 상기 챔버 내부에서 진공 분위기를 형성하는 진공 모듈을 포함하고,상기 챔버의 상부 및 하부에는 상기 진공 모듈과 연결되는 적어도 하나의 하부 진공홀 및 적어도 하나의 상부 진공홀이 형성되어 있으며, 상기 챔버의 상부와 상기 기판 사이에는 다수의 홀들을 갖는 다공 플레이트가 수평 방향으로 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 건조 장치.
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KR1020080117975A KR101021839B1 (ko) | 2008-11-26 | 2008-11-26 | 기판 상의 포토레지스트막을 건조하기 위한 장치 |
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Citations (4)
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JPH11340606A (ja) * | 1998-03-27 | 1999-12-10 | Kansai Paint Co Ltd | レジスト層の形成方法及びプリント配線基板の製造方法 |
JP2007173365A (ja) * | 2005-12-20 | 2007-07-05 | Tokyo Electron Ltd | 塗布乾燥処理システム及び塗布乾燥処理方法 |
KR20080059070A (ko) * | 2006-12-22 | 2008-06-26 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 감압건조장치 |
KR20080059519A (ko) * | 2006-12-25 | 2008-06-30 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판 처리 방법 및 레지스트 표면 처리 장치 |
-
2008
- 2008-11-26 KR KR1020080117975A patent/KR101021839B1/ko active IP Right Grant
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