JP5122546B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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Description
本発明の実施例によると、前記駆動部は、前記基板を支持し、前記水平方向と平行な方向に配列された複数のローラーを含むことができる。
本発明の実施例によると、それぞれの基板移送部は、前記水平方向に対して垂直な他の水平方向に延長する回転軸と、前記回転軸に装着されて前記基板を移送するための複数のローラーと、前記回転軸を回転させるための駆動部と、を含むことができる。
本発明の実施例によると、前記ベイクモジュールは、前記水平方向に配列され、前記水平方向に対して垂直な他の水平方向に延長する複数の回転軸と、前記回転軸に装着されて前記基板を移送するための複数のローラーと、前記回転軸を回転させるための駆動部と、前記回転軸の間に配置されて前記基板を加熱するための複数のヒーターを含むことができる。
図1を参照すると、本発明の一実施例による基板処理装置10は、平板表示装置の製造においてシリコンまたはガラスからなる基板2上にフォトレジスト膜を形成するために用いることが可能である。
図4を参照すると、基板移送部120は、基板2を浮揚させるためのエアーブロワー122と前記浮揚された基板2を移動させるための駆動部114を含むことができる。
図7を参照すると、エアーブロワー150は、前記基板2の下部面の上にエアーを供給するための複数のホール152aを有する多孔プレート152を含むことができる。また前記多孔プレート152は、スリット154を有することができ、前記スリット154内にはアイドルローラー156をそれぞれ配置することができる。前記アイドルローラー156は、前記基板2の垂れを防止するために、前記基板2を支持することができる。これとは相違に、前記スリット154内には、前記基板2を前記水平移送方向に移動させるために別途の駆動器具によって回転するローラーを配置することもできる。
図12および図13を参照すると、前記ベイクモジュール200は、前記基板2を浮揚させるために、前記基板2の下部面の上にエアーを供給するエアーブロワー202、および前記基板2が前記エアーブロワー202上で前記水平方向に移動する期間、前記基板2を加熱するためのヒーター210を含むことができる。
図14を参照すると、前記多孔プレート204を通じて前記基板2の下部面の上に供給されるエアーの温度によって前記基板2の温度が変化し、これによって前記基板2上に形成されたフォトレジスト膜4の厚さが不均一になることがある。よって、前記基板2の下部面では、加熱されたエアーが供給されることが望ましい。
図15を参照すると、ベイクモジュール200Aは、前記基板2を浮揚させるために前記基板2の下部面の上にエアーを供給するエアーブロワー230、前記基板2が前記エアーブロワー230上で前記水平方向に移動する期間、前記基板2を加熱するためのヒーター(図示せず)、および前記エアーブロワー230の前方および後方にそれぞれ配置されて前記基板2を前記水平移送方向に移送するための基板移送部(232、234)を含むことができる。
図16は、図12および図13に示したベイクモジュールの更に他の例を説明するための概略的な平面図である。
前記基板2は、前記移送モジュール300と前記ローラー252、および前記アンローダー30によって前記基板2の水平移送方向に移動され、前記基板2が前記ヒーター256の上部を通過する期間、前記基板2上のフォトレジスト膜4を硬化することができる。
図19を参照すると、本発明の他の実施例による基板処理装置50は、平板表示装置の製造において、シリコンまたはガラスからなる基板2上にフォトレジスト膜を形成するために用いられることが可能である。
図23を参照すると、前記ローラー510それぞれのエッジ部位は、前記基板2との接触面積を減少させるために三角形状の断面形態を有することができる。前記ローラー510と前記基板2の下部面部位との間の接触面積が増加する場合、前記ローラー510と接触する基板2の下部面部位の温度が変化することがあり、これによって前記基板2上のフォトレジスト膜4が不均一に乾燥されるおそれがある。
4 フォトレジスト膜
10、50 基板処理装置
20 ローダー
30 アンローダー
100 コーティングモジュール
102 基板移送部
106 エアーブロワー
108 多孔プレート
110 エアー供給部
112 エアーマニホールド
114 駆動部
116 チャック
118 リニアモーター
124 多孔性プレート
142 ローラー
148 プーリー
146 ベルト
164 エアー供給部
166 エアーマニホールド
168 排気マニホールド
169 排気部
202 エアーブロワー
204 多孔プレート
206 エアーマニホールド
208 エアー供給部
210 ヒーター
300 移送モジュール
400 バッファーモジュール
402 支持アーム
404 垂直駆動部
500 乾燥モジュール
502 乾燥チャンバー
504 下部チャンバー
506 カバー
510 ローラー
514 真空システム
516 垂直駆動部
518 下部マニホールド
520 上部マニホールド
522 多孔プレート
Claims (19)
- 基板を水平方向に移送し、前記基板を移送する期間に前記基板上にフォトレジスト組成物を供給して前記基板上にフォトレジスト膜を形成するためのコーティングモジュールと、
前記コーティングモジュールと隣接するように配置され、前記水平方向に前記基板が移送される期間、前記フォトレジスト膜を硬化させるために、前記基板を加熱するベイクモジュールと、
前記コーティングモジュールと前記ベイクモジュールとの間に配置され、前記基板上に形成されたフォトレジスト膜を乾燥させるための乾燥モジュールとを含み、
前記乾燥モジュールは、
前記基板を収容するための乾燥チャンバーと、
前記乾燥チャンバーの上部及び下部にそれぞれ設けられた孔と連結された真空システムと、
乾燥チャンバー内の圧力分布を均一にするために基板の上方に配置される多孔プレートと
を備えることを特徴とする基板処理装置。 - 前記コーティングモジュールと前記ベイクモジュールとの間に配置され、前記基板を前記コーティングモジュールから前記ベイクモジュールに伝達するための移送モジュールを更に含むことを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記移送モジュールは、
前記水平方向に配列され、前記水平方向に対して垂直な他の水平方向に延長する複数の回転軸と、
前記回転軸に装着され、前記基板を移送するための複数のローラーと、
前記回転軸を回転させるための駆動部と、を含むことを特徴とする請求項2に記載の基板処理装置。 - 前記回転軸の間を通じて垂直方向に移動可能に配置され、前記基板を保管するために前記基板を垂直方向に移動させるバッファーモジュールを更に含むことを特徴とする請求項3に記載の基板処理装置。
- 前記バッファーモジュールは、
前記回転軸の間を通じて垂直方向に移動可能に配置され、前記基板を支持するための複数の支持アームと、
前記支持アームと連結され、前記支持アームを垂直方向に移動させるための垂直駆動部と、を含むことを特徴とする請求項4に記載の基板処理装置。 - コーティングモジュールは、
前記基板を前記水平方向に移送するための基板移送部と、
前記基板移送部の上部から前記水平方向に対して垂直な他の水平方向に延長し、前記基板が移送する期間、前記基板上に前記フォトレジスト組成物を供給するノズルと、を含むことを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。 - 基板移送部は、
前記基板を浮揚させるために前記基板の下部面上にエアーを供給するエアーブロワーと、
前記浮揚された基板を前記水平方向に移送するための駆動部と、を含むことを特徴とする請求項6に記載の基板処理装置。 - 前記エアーブロワーは、前記エアーを供給するための複数のホールを有する多孔プレートを含むことを特徴とする請求項7に記載の基板処理装置。
- 前記エアーブロワーは、多孔性物質からなる多孔性プレート及び前記多孔性プレートの側面上に配置された側壁を含むことを特徴とする請求項7に記載の基板処理装置。
- 前記駆動部は、前記基板の下部面のエッジ部位を、真空圧を用いて把持する複数の真空チャックを含むことを特徴とする請求項7に記載の基板処理装置。
- 前記駆動部は、前記基板の下部面のエッジ部位を支持し、前記水平方向と平行な方向に配列された複数のローラーを含むことを特徴とする請求項7に記載の基板処理装置。
- 前記ベイクモジュールは、
前記基板を浮揚させるために前記基板の下部面上にエアーを供給するエアーブロワーと、
前記基板が前記エアーブロワー上で前記水平方向に移動する期間、前記基板を加熱するためのヒーターを含むことを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。 - 前記エアーブロワーの前方および後方にそれぞれ配置され、前記基板を前記水平方向に移送するための基板移送部を更に含むことを特徴とする請求項12に記載の基板処理装置。
- それぞれの基板移送部は、
前記水平方向に対して垂直な他の水平方向に延長する回転軸と、
前記回転軸に装着され、前記基板を移送するための複数のローラーと、
前記回転軸を回転させるための駆動部と、を含むことを特徴とする請求項13に記載の基板処理装置。 - 前記エアーブロワーは、前記エアーを供給するための複数のホールを有する多孔プレートまたは多孔性物質からなる多孔性プレートを含むことを特徴とする請求項12に記載の基板処理装置。
- 前記ヒーターは、前記エアーブロワー内に配置されることを特徴とする請求項15に記載の基板処理装置。
- 前記ベイクモジュールは、
前記水平方向に配列されて前記水平方向に対して垂直な他の水平方向に延長する複数の回転軸と、
前記回転軸に装着され、前記基板を移送するための複数のローラーと、
前記回転軸を回転させるための駆動部と、
前記回転軸の間に配置され、前記基板を加熱するための複数のヒーターと、を含むことを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。 - 前記乾燥モジュールは、
前記乾燥チャンバー内で前記水平方向に配列され、前記水平方向に対して垂直な他の水平方向に延長する複数の回転軸と、
前記回転軸に装着され、前記基板を移送して支持するための複数のローラーと、
前記回転軸を回転させるための駆動部とを更に含むことを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。 - 前記乾燥チャンバーは、
上部が開放された下部チャンバーと、
前記基板を前記乾燥チャンバーに前記水平方向に搬入し、前記乾燥された基板を前記乾燥チャンバーから前記水平方向に搬出するために前記下部チャンバーの上部を開閉するカバーと、を含むことを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。
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