TWI501318B - 基板處理裝置 - Google Patents

Description

基板處理裝置

本發明是有關於一種基板處理之裝置，且特別是有關於一種製造平面顯示裝置時，於基板上形成和硬化光阻層之裝置。

在製造像是液晶顯示裝置這類的平板顯示裝置時，一般都使用矽或玻璃製成的基板，另外基板的電路圖樣有許多製程可使用。例如，沉積製程、黃光製程、蝕刻製程、清潔製程、乾燥製程等等都可用來形成電路圖樣。

黃光製程包括塗佈模組係在基板上形成光阻、軟烤製程係硬化光阻層、曝光製程係將預形成的圖樣複製到光阻層上、顯影製程使光阻層顯影形成光阻圖樣，最後硬烤程序使光阻圖樣硬化。

機器手臂可配置於製程模組之間移動基板來完成各製程。然而，機器手臂會增加黃光製程裝置的製造成本。而且，假使使用這些機器手臂移動基板，縮短黃光製程時間將有其極限。

本發明係有關於一種基板處理裝置可在不需基板傳輸機器手臂的狀況下，在基板上形成光阻層。

根據本發明之一方面，提出一種基板傳輸裝置包含可在水平方向傳輸的塗佈模組，塗佈模組於傳輸基板時提供光阻成分在基板上形成光阻層；烘烤模組配置於塗佈模組旁，烘烤模組於水平方向傳輸基板時加熱基板使光阻層硬化。

根據本發明之實施例，提出一種裝置進一步包括傳輸模組配置於塗佈模組與烘烤模組之間使基板從塗佈模組傳輸到烘烤模組。

根據本發明之實施例，提出一種裝置包含複數個旋轉軸配置於水平方向並在垂直於水平方向之另一水平方向延伸；複數個滑輪安裝於旋轉軸以傳輸基板，另外驅動部件旋轉該旋轉軸。

根據本發明之實施例，提出一種裝置進一步包括緩衝模組可移動地配置於垂直方向且可穿越旋轉軸之間；緩衝模組於垂直方向傳輸基板以儲存基板。

根據本發明之實施例，緩衝模組包括複數個支持臂可移動地配置於垂直方向且可穿越旋轉軸之間；支持臂支撐著基板且垂直驅動部件連接支持臂使支持臂在垂直方向移動。

根據本發明之實施例，塗佈模組包括基板傳輸模組於水平方向傳輸基板；噴嘴配置於基板傳輸模組上方且在垂直於水平方向的另一水平方向延伸，噴嘴在基板傳輸時提供光阻成分於基板上。

根據本發明之實施例，基板傳輸模組包括鼓風機提供氣體於基板底面使基板飄浮，另外驅動部件在水平方向傳輸飄浮基板。

根據本發明之實施例，鼓風機包括含有複數個孔洞的多孔平板以提供氣體。

根據本發明之實施例，鼓風機包含由密孔材料製成的密孔平板且密孔平板側面配置側牆。

根據本發明之實施例，驅動部件包括複數個真空卡盤利用真空壓力托住基板底面的邊緣。

根據本發明之實施例，驅動部件複數個滾輪平行配置於水平方向以支撐基板底面的邊緣。

根據本發明之實施例，烘烤模組包括鼓風機提供氣體於基板底面使基板飄浮；加熱器在基板於水平方向傳輸經過鼓風機時加熱基板。

根據本發明之實施例，每一基板傳輸部件包括旋轉軸在垂直於水平方向之另一水平方向延伸；複數個滾輪安裝在旋轉軸以傳輸基板，另外驅動部件旋轉該旋轉軸。

根據本發明之實施例，鼓風機包括含有複數個孔洞的多孔平板或是由密孔材料製成的密孔平板以提供氣體。

根據本發明之實施例，加熱器可配置於鼓風機內。

根據本發明之實施例，烘烤模組包含複數個旋轉軸配置於水平方向並在垂直於水平方向之另一水平向延伸；複數個滑輪安裝於旋轉軸以傳輸基板，另外驅動部件旋轉該旋轉軸，以及複數個加熱器配置於旋轉軸之間以加熱基板。

根據本發明之實施例，提出一種裝置進一部包含乾燥模組配置於塗佈模組與烘烤模組之間以乾燥基板上形成的光阻層。

根據本發明之實施例，乾燥模組包括乾燥室接收基板，複數個旋轉軸在水平方向配置於乾燥室且這些旋轉軸於垂直於水平方向之另一水平方向延伸，複數個滾輪安裝於旋轉軸以傳輸並支撐基板，驅動部件旋轉該旋轉軸，以及真空系統連接乾燥室以乾燥滾輪上的基板的光阻層。

根據本發明之實施例，乾燥室包含一下部腔體含有一上部開關部分和罩體係用來開關下部腔體的上部開口部份，其作用使基板在水平方向載入到乾燥室和在水平方向從乾燥室載出。

根據本發明如上所述，一處理基板裝置包括塗佈模組、乾燥模組、烘烤模組等等。基板在塗佈模組、乾燥模組和烘烤模組使用載入器載入以及載出器載出基板。也就是說基板可在不使用基板傳輸機器手臂的狀況下利用複數個滑輪以直線方式傳輸。此方法可使基板的傳輸時間縮短以及減少基板處理裝置的製造成本。

請參考所附圖式，本發明之實施例係更完整地揭露如下。然而，本發明可適用於各種不同形態，不應限定於所揭露之實施例。本發明可具有多種不同之實施例，且不以以下所述之實施例為限。以下所述之實施例係用以完整地揭露本發明，使得本發明所屬技術領域中具有通常知識者可完全了解本發明。為了更清楚說明本發明，圖層與區域之尺寸及相關比例可能因明確繪示而誇大。

當出現「一元件位於於另一元件之上」或「一元件連接或耦接於另一元件」之敘述時，一元件可直接配置於另一元件之上，或直接連接於另一元件，或有再一元件或中間層介於兩者之間。相對地，當出現「一元件直接位於另一元件之上」或「一元件直接連接於另一元件」之敘述時，兩者間並無其他元件或中間層。相似之元件係以相似之符號標示。此處所使用「且/或」之敘述係包括所列出項目之全部任意組合。

可明瞭雖然術語第一、第二、第三...等可使用於描述各種元件、成分、區域、階層和部分，這些術語不應限定於此。這些術語只是用來區別一元件、成分、區域、階層和部分與另一元件、成分、區域、階層和部分。因此描述於後的第一元件、成分、區域、階層和部分可為第二元件、成分、區域、階層和部分而不會違反本發明的技術。

此處之空間相對用詞，例如是「下」或「上」或其他類似用詞，可用於簡單地描述如所附圖式中所繪示之元件，或某特徵與另一元件或特徵之關係。可了解的是，此些空間相對用詞係包括其他方位之描述，並非受限於圖式中之方向。舉例來說，當圖式中之裝置上下顛倒時，「一元件位於另一元件或特徵之下」之敘述則變為「一元件位於另一元件或特徵之上」。因此，「下」之用詞係包括「上」和「下」兩種方位。元件可朝向其他方向(旋轉90度或朝向其他方向)，而此處使用之空間相對用詞係被對應地解釋。

此處之用詞僅用以敘述本發明之實施例，並非用以限制本發明。除非特別註明，否則此處所用之「一」、「此」和「該」之單數形式之敘述，亦包括複數之形式。此處所用之「包含」及「包括」所述之特徵、整數、步驟、操作、元件或成份，並非排除其他之特徵、整數、步驟、操作、元件、成份或其組合。

除非另外定義，此處所使用之所有用詞(包括技術及科學用詞)，係與本發明所屬技術領域中具有通常知識者所了解之意義相同。此外，除非特別定義，此處所使用之普通字典所定義之用詞，當與相關技藝中之此用詞之意義一致，而非指理想化或過度正式之意思。

此處敘述之本發明之實施例係參照所附之剖面圖，且剖面圖係繪示本發明之理想化之實施例(及中間結構)。因此，例如是由製造技術且/或誤差所造成的與圖式之形狀之差異係可預期的。本發明之實施例不應視為特定區域之形狀的限制，而應包括例如是由製造所造成之形狀差異。繪示於圖中之區域僅為示意圖，其形狀並非用以描繪裝置之區域的實際形狀，且並非用以限制本發明之範圍。

第1圖繪示根據本發明實施例之基板處理裝置的示意圖。

參照第1圖，根據本發明實施例的基板處理裝置10在製造平面顯示裝置時，係用來在由矽或玻璃組成的基板2上形成光阻層。

例如，處理基板裝置10包括塗佈模組100係用來形成光阻層於基板2上；烘烤模組200係用來硬化光阻層。基板處理裝置10進一步包括載入器20用來傳輸基板2至塗佈模組100；傳輸模組300配置於塗佈模組100與烘烤模組200之間，用來傳輸基板2於塗佈模組100與烘烤模組200之間；以及載出器30用來將基板2從烘烤模組200移出。

在水平方向基板2可從塗佈模組100傳輸至烘烤模組200。各塗佈模組100和各烘烤模組200包括基板傳輸部件來傳輸基板2。

在水平方向塗佈模組100可傳輸基板2，並在傳輸基板2時供應光阻成分於基板2上以形成光阻層。

第2圖係第1圖中塗佈模組的俯視圖。第3圖係第1圖中塗佈模組的橫截面圖。

參照第2圖和第3圖塗佈模組100可包括在水平方向傳輸基板2的基板傳輸部件102，和提供光阻成分於基板2上的噴嘴104。噴嘴104可置於基板傳輸部件102上方且沿著垂直於傳輸方向之方向延伸。噴嘴可有狹縫(未顯示於圖片)以提供光阻成分於基板2上。狹縫可沿著該噴嘴104的延伸方向做延伸，且當基板於水平方向傳輸時經由狹縫將光阻成份塗佈於基板2。

基板傳輸部件102可包含鼓風機106係提供氣體於基板2的底面使基板2飄浮。驅動部件114係使飄浮基板2於水平方向移動。

鼓風機106可包含的多孔平板108，多孔平板108含有複數個孔洞108a以提供氣體。多孔平板108可配置於噴嘴104下方且可連接氣體提供部件110。例如，在第3圖中多孔平板108可連接氣體氣管112，氣體氣管112定義緩衝空間112a。換言之，這些孔洞108a可與該緩衝空間112a相通連。經由複數個孔洞108a氣體可從緩衝空間112a提供至基板2底面。雖然沒有顯示在圖上，氣體提供部件110可包括氣體泵、氣體儲槽、氣體過濾器等...以及可透過氣體管路110a連接氣體氣管112。更進一步，氣體提供部件110可包含配置於氣體管路110a的氣閥，以調節經過多孔平板108的氣體流量。

多孔平板108可由金屬材料製成，例如鋁。這些孔洞108a直徑範圍大約從0.1mm到2.3mm。孔洞108a間隔範圍大約10mm到150mm。假使孔洞108a的直徑大於2.3mm，則基板2鄰近孔洞108a的邊緣部份之溫度，與基板2上形成的光阻層4厚度可能不均勻。

驅動部件114，係利用鼓風機106托住基板2底面的兩邊邊緣使基板2可在水平方向移動。多孔基板108的寬度窄於基板2的寬度。

根據本發明的一實施例，驅動部件114可包含複數個真空卡盤116，真空卡盤116係利用真空壓力托住基板2的底面邊緣。真空卡盤116可利用線性馬達118在水平方向移動，其中線性馬達118係配置於多孔平板108的兩側。另外真空卡盤116也可選擇利用動力機構來移動，其中動力機構包括馬達、線性滑軌、滾球螺桿、球形塊狀等。第2圖中動力部件114可安裝於支架110a。

噴嘴104於垂直基板2水平移動方向之方向延伸。吊架100b係配置於鼓風機106之上，用來支撐噴嘴104。吊架100b可於支架100a上水平移動。吊架100b的手臂100c位在鼓風機106上方，並在垂直於水平移動方向之另一水平方向延伸，且噴嘴104可連接於吊架手臂100c下方。特別地，噴嘴104在垂直方向可動地安裝於吊架手臂100c。例如，噴嘴104可利用馬達和滾球螺桿在垂直方向移動。

雖然沒有顯示在圖片上，清潔單元(未顯示)可配置於鼓風機106上方以清潔噴嘴104。吊架100b可使噴嘴104於水平和垂直方向移動來清潔噴嘴104。

當基板傳輸部件102於水平方向傳輸基板2時，噴嘴104可提供光阻成分在基板2上以形成光阻層4。

第4圖係第2圖和第3圖中基板傳輸部件另一例子的橫截面圖。

參照第4圖，基板傳輸部件120可包括鼓風機122使基板2飄浮，以及驅動部件114使飄浮的基板2移動。

鼓風機122可包括密孔平板124，密孔平板124由密孔材料製成。鼓風機122可包含側牆126配置於密孔平板124側面，以避免氣體經由密孔平板124的側面漏出。

密孔平板124可由陶瓷材料或金屬材料，像是不銹鋼組成且可利用燒結法製成。密孔平板124的孔徑範圍介在10um到100um之間。

密孔平板124可經由氣體氣管112與氣體提供部件110連接。關於驅動部件114中氣體氣管112和氣體提供部件110的詳細描述將略過，因為其相似於第2圖和第3圖的描述內容。

第5圖係第2圖和第3圖中基板傳輸部件再一例子的俯視圖。第6圖係第2圖和第3圖中基板傳輸部件再一例子的正視圖。

參照第5圖和第6圖，基板傳輸部件130可包含使基板2飄浮的鼓風機132，以及使基板2移動的驅動部件140。關於鼓風機132的詳細描述略過不談，因為在第2圖到第4圖有相似的論述。

驅動部件140可包括複數個滾輪142，這些滾輪142平行水平方向配置以支撐基板2部份面積。例如，滾輪142可支撐基板2底面兩側的邊緣且可旋轉使基板2於水平方向傳輸。

滾輪142可旋轉地安裝於支架100a。驅動部件140可包括馬達144使滾輪旋轉。滾輪142可利用傳送帶146連接於另一滾輪。例如，滑輪148可個別地配置於滾輪142的側面，且使用傳送帶146將一滑輪和另一滑輪連接起來。惰輪149可置於滾輪142之間以調整傳送帶146的張力。

如第5圖所示，雖然可用兩個馬達使滾輪142旋轉，但僅用一個馬達也可。在這種情況下，旋轉軸連接馬達延伸穿越鼓風機132，且一對滾輪可安裝於旋轉軸的雙邊邊緣。

第7圖係第2圖和第3圖中鼓風機另一例子的俯視圖。

參照第7圖，鼓風機150可包括多孔平板152，其上有複數個孔洞152a以提供氣體於基板2底面。多孔平板152有狹縫154且惰輪156可分別配置於狹縫154。惰輪156可支撐基板2避免下彎。滾輪也可配置於狹縫154，且利用其他驅動機構讓滾輪轉動使基板2在水平方向移動。

如第4圖所示，由密孔材料組成的密孔平板可代替多孔平板152。在這種情況下，狹縫154內部表面配置內側牆，再加上密孔平板外部表面配置外側牆以防止氣體外漏。

第8圖係第2圖和第3圖中鼓風機再一例子的俯視圖。第9圖係第2圖和第3圖中鼓風機再一例子的橫截面圖。

參照第8圖和第9圖，鼓風機160可包括多孔平板162含複數個第一孔洞162a，以提供氣體於基板2的底面。多孔平面162的第一孔洞162a可連接於氣體提供部件164。例如，多孔平面162可連接於氣體氣管166，氣體氣管166定義緩衝空間166a，且氣體氣管166可經由氣體管路164a連接氣體提供部件164。雖然沒有顯示於圖示，氣體提供部件164可包括氣體泵、氣體儲槽、氣體過濾器等。更進一步，氣體提供部件164可包含氣閥係配置於氣體管路164a，以調節經過多孔平板162第一孔洞162a的氣體流量。

多孔平板162可由金屬材料形成，例如鋁。第一孔洞162a直徑範圍大約在0.1mm到2.3mm之間。假使第一孔洞162a的直徑大於2.3mm，基板2上鄰近於第一孔洞162a的溫度會被氣體影響，且基板2上形成的光阻層4的厚度可能不均勻。

進一步地，多孔平板162有複數個第二孔洞，以抽取在基板2和多孔平板162上部表面之間的氣體。第二孔洞162b使基板2移動平穩且連接於抽氣氣管168。抽氣氣管168經由抽氣管路169a連接抽氣部件169。雖然未顯示於圖示，氣閥可被配置於抽氣管路169a以調節抽氣速度。

第10圖係第2圖和第3圖中鼓風機再一例子的俯視圖。第11圖係第2圖和第3圖中鼓風機再一例子的橫截面圖。

參照第10圖和第11圖，鼓風機170可包括由密孔材料組成的密孔平板171。側牆172配置於密孔平板171側面以防止氣體經由密孔平板171側面漏出。

密孔平板171可由陶瓷材料或金屬材料像是不銹鋼組成，且可利用燒結法製成。密孔平板171的孔徑範圍介在10um到100um之間。

密孔平板171可連接氣體氣管176，氣體氣管176係定義緩衝空間176a。氣體氣管176經由氣體管路174a可連接氣體提供部件174。

進一步地，密孔平板171有複數個孔洞171a，以抽取在基板2和密孔平板171上部表面之間的氣體。孔洞171a使基板2移動平穩且連接於抽氣氣管178。抽氣氣管178可經由抽氣管路179a連接於抽氣部件179。雖然未顯示於圖示，孔洞171a內面可配置內牆或內管以防止氣體漏出，另外氣閥可被配置於抽氣管路179a以調節抽氣流速。

再次參照第1圖，在基板2上的光阻層4在烘烤程序中硬化。基板2在烘烤模組200的傳輸方式是水平傳輸。傳輸模組300傳輸其上有光阻層4的基板2進入烘烤模組200。

第12圖係第1圖中烘烤模組的俯視圖；第13圖係第1圖中烘烤模組的橫截面圖。

參照第12圖和第13圖，烘烤模組200可包括鼓風機202係提供氣體於基板2底面使基板2飄浮，另外加熱器210在基板2於水平方向傳輸經過鼓風機202時加熱基板2。

鼓風機202可包括多孔平板204包含複數個孔洞204a以提供氣體。多孔平板204可連接於氣體氣管206且氣體氣管可連接於氣體提供部件208。氣體氣管206定義緩衝空間206a。

多孔平板204可由金屬材料製成，例如鋁。孔洞204a直徑範圍大約0.1mm到2.3mm之間。孔洞204a的間距大約10mm到150mm之間。

加熱器210可配置在多孔平板204之內。例如，第13圖所示電阻電熱絲可嵌入多孔平板204。

第14圖係第13圖氣體提供部件的示意圖。

參照第14圖，提供到基板2底面的氣體溫度會影響到基板2上的溫度，且基板2上的光阻層4厚度會因此不均勻。因此最好提供熱空氣到基板2底面。

氣體提供部件208可包括氣體泵212(或是氣壓泵)以及氣體儲槽214。氣體儲槽214可連接氣體氣管206。氣體提供部件208可包括過濾器216係過濾空氣中的雜質，加熱器218係加熱該氣體，以及氣閥220係調整被加熱器218加熱的氣體流量。

氣體氣管206經由氣體管路222連接氣體儲槽214、且過濾器216、加熱器218和氣閥220配置於氣體管路222。利用過濾器216純化的氣體經由加熱器218可加熱至預定的溫度，接著加熱後的氣體經由氣體氣管206和多孔平板204送至基板2底面。

參照第12圖和第13圖，基板2經由傳輸模組300於水平方向經過多孔平板204後，再由載出器30將基板2從烘烤模組傳出。多孔平板204有一寬度W2寬於基板2的寬度W1，且多孔平板204有一長度L2短於基板2的長度L1。為了使基板2在烘烤模組200傳輸時更穩定，傳輸模組300和載出器30之間的距離D短於基板2的長度L1較好。

引導物件224可配置於多孔平板204上方，以引導基板2兩邊邊緣。例如，引導滾輪可配置於多孔平板204上方以引導基板2在水平方向移動，如第12圖。

因此，基板2在可預定的速度下傳輸過多孔平板204，讓基板2上的光阻層4在傳輸時可充分硬化。

如第13圖所示，雖然多孔平板204上的孔洞204a可使基板2飄浮，但是也可使用由密孔材料組成的密孔平板，如第4圖所示。

第15圖係第12圖和第13圖中烘烤模組另一例子的俯視圖。

參照第15圖，烘烤模組200A可包含提供氣體於基板2底面使基板2飄浮的鼓風機230；當基板2在水平方向傳輸經過鼓風機230時加熱基板2的加熱器(未顯示於圖)；還有基板傳輸部件232和234分別配置在鼓風機230的前端和後端係用來在水平方向傳輸基板2。

例如，第一基板傳輸部件232可配置於傳輸模組300和鼓風機230之間，另外第二傳輸部件234可配置於鼓風機230和載出器30之間。第一和第二基板傳輸部件232和234之間的距離比基板2的長度短較好。

各第一和第二基板傳輸部件232和234可包括旋轉軸236，旋轉軸236在垂直於水平方向的另一水平方向延伸，複數個滾輪238安裝於旋轉軸236來傳輸基板2，另外驅動部件240用以使旋轉軸236旋轉。包含馬達之旋轉驅動機構可當作驅動部件240。

如第15圖所示，雖然可用兩個馬達240旋轉滾輪238，但用一個馬達也可以。在某些狀況，旋轉軸236經由傳送帶和滑輪系統可連接於另一旋轉軸。

關於鼓風機230以及加熱器的詳細描述，由於相似於第12圖到第14圖所提，因此略過不談。

第16圖係第12圖和第13圖中烘烤模組再一例子的俯視圖。

參照第16圖，烘烤模組200B可包括複數個旋轉軸250配置於水平方向，以及在垂直於水平方向之另一水平方向延伸。複數個滾輪252安裝於旋轉軸來傳輸基板2，驅動部件254係使旋轉軸250旋轉，以及複數個加熱器256配置於旋轉軸250之間以加熱基板2。

複數個滑輪258可安裝於旋轉軸250兩側的邊緣。滑輪258可利用傳送帶260連接於驅動部件254。馬達可當驅動部件254，且惰輪262可進一步配置於滑輪258之間以調整傳送帶260的張力。

同時，紅外線加熱器可當作加熱器256。

基板2經由傳輸模組300、滾輪252和載出器30可於水平方向傳輸，且當基板2經過加熱器256時基板2上的光阻層4即硬化。

再次參照第1圖，傳輸模組300可被配置於塗佈模組100和烘烤模組200之間。傳輸模組300可用來將基板2從塗佈模組100傳輸到烘烤模組200。緩衝模組400可配置於塗佈模組100與烘烤模組200之間用來暫時性儲存基板2。

參照第17圖和第18圖，傳輸模組300可包括複數個旋轉軸302配置於基板2的水平傳輸方向，並在垂直於水平傳輸方向的另一水平方向延伸，複數個滾輪304安裝於旋轉軸302以傳輸基板2，另外驅動部件306用來旋轉該旋轉軸302。

複數個滑輪308可安裝於旋轉軸302的邊緣。滑輪308經由傳送帶310連接於驅動部件306。馬達可當作驅動部件306，另外惰輪312可被進一步配置於滑輪308之間以調整傳送帶310的張力。

緩衝模組400經由旋轉軸302之間可移動地安裝於垂直方向，使基板2於垂直方向移動以利暫時性儲存基板2。

緩衝模組400可包括複數個支撐臂402，在垂直方向穿越旋轉軸302之間移動並支撐基板2。垂直驅動部件404連接支持臂402使支持臂402在垂直方向移動。

垂直驅動部件404可包括於垂直方向延伸的滾球螺桿406，使滾球螺桿406旋轉的馬達408，和在滾球螺桿406連接支持臂402的球形塊狀410。進一步地，垂直驅動部件404可包括在垂直方向引導該支持臂402的線性滑軌(未顯示)。

再次參照第1圖，載入器20可配置鄰近於塗佈模組100，另外載出器30可配置鄰近於烘烤模組200。各載入器20和載出器30的組態與傳輸模組300相似。

參照第19圖，根據本發明另一實施例基板處理裝置50，在製造平面顯示裝置時，在由矽或玻璃組成的基板2上形成光阻層。

例如，處理基板裝置50包括塗佈模組100用來形成光阻層於基板2上，以及烘烤模組200用來硬化光阻層。基板處理裝置50進一步包括載入器20用來傳輸基板2至塗佈模組100；第一傳輸模組600A配置於塗佈模組100與乾燥模組500之間；第二傳輸模組600B配置於乾燥模組500與烘烤模組200之間。烘烤模組200和載出器30用來將基板2從烘烤模組移出。更進一步，基板處理裝置50可包括第一緩衝模組700A配置於塗佈模組100和乾燥模組500之間；第二緩衝模組700B配置於乾燥模組500和烘烤模組200之間。

在水平方向基板2可從塗佈模組100經由乾燥模組500傳輸至烘烤模組200。各塗佈模組100、烘烤模組200和乾燥模組500可包括基板傳輸部件來傳輸基板2。

關於第一傳輸模組600A、第二傳輸模組600B、第一緩衝模組700A和第二緩衝模組700B將略過不談因為這些元件相似於傳輸模組300和緩衝模組400，且在第1圖到第18圖已描述過。另外，關於載入器20、塗佈模組100、烘烤模組200和載出器30也略過不談，因為這些元件於第1圖到第18圖也有相似的描述。

乾燥模組500配置於第一和第二傳輸模組600A和600B之間，且可用於移除基板2上光阻層的溶劑。例如，乾燥模組500利用真空壓力蒸發光阻層4上的溶劑以使光阻層乾燥。

第20圖係第19圖乾燥模組的俯視圖，第21圖係第19圖乾燥模組的前視圖，第22圖係第19圖乾燥模組的橫截面圖。

參照第20圖到第22圖，乾燥模組500可包括容置基板2的乾燥室502，在水平方向配置於乾燥室內且在垂直於水平方向之另一水平方向延伸的旋轉軸508；複數個滾輪510安裝於旋轉軸508上以傳輸和支撐基板2，驅動部件512用來旋轉旋轉軸508，以及真空系統512連接乾燥室502以乾燥位在滾輪510上的基板2的光阻層4。

乾燥室502可包括下部腔體504，下部腔體504有上部開口部份和罩體506，罩體506係用來開關下部腔體504的上部開口部份，使基板2在水平方向載入到乾燥室502以及在水平方向從乾燥室502載出。

罩體506可連接垂直驅動部件516。氣壓缸或液壓缸可做為垂直驅動部件516。然而，本發明的範圍不受限於垂直動力部件516的型態。

罩體506可上移將基板2傳入乾燥室502，且可下移以乾燥基板2上的光阻層4。

下部腔體504的底板有複數個下部真空孔洞504a可經由下部氣管518連接真空系統514。雖然未顯示於圖片，真空系統514可包括真空泵和氣閥，用以調節乾燥室502的壓力等等。

假使真空系統514僅連接下部腔體504的底部，乾燥室502的壓力分佈會不均勻。為解決上述問題，罩體506可包括複數個上部真空孔洞506a經由上部氣管520連接真空系統514。

罩體506可為帽形。例如，罩體506可包括上板和側牆。多孔平板522可在水平方向配置於罩體506內，以使乾燥室502內的壓力分佈更均勻，如第22圖所示。

旋轉軸508邊緣可延伸到下部腔體504側牆外側。旋轉軸的一側可連接於驅動部件512。複數個滑輪524可安裝於旋轉軸508的邊緣，這些滑輪524可經由傳送帶526連接至另一滑輪。惰輪528可配置於滑輪524之間以調整該傳送帶526的張力。同時，馬達可當成驅動部件512。

第一密封物件530可置於下部腔體504和單體506之間以防止真空洩漏。第二密封物件(未顯示)可安裝在旋轉軸508，以防止真空從旋轉軸508和下部腔體504側牆之間洩漏。

第23圖係第20圖到第22圖的滾輪橫截面圖。

參照第23圖，各滾輪510的邊緣可為三角形斷面以減少與基板2的接觸。假使滾輪510與基板2底面接觸面積增加，將使基板2底面邊緣與滾輪510接觸部份的溫度有變化，且造成基板2上光阻層4會乾燥不均勻。

再次參照第19圖，基板2上的光阻層4經過乾燥模組可能未必足夠乾燥。然而，因為基板2在乾燥模組乾燥後進入烘烤模組200，所以在烘烤模組200所需的烘烤時間可被縮短。

依據本發明如上所述之實施例，處理基板裝置可包括塗佈模組、乾燥模組、烘烤模組等。基板是沿著水平方向從載入器被傳輸到載出器，途中經過塗佈模組、乾燥模組和烘烤模組。基板利用線性傳輸方法使處理時間縮短。

更進一步，因為無須使用基板傳輸機器手臂去傳輸基板，使基板處理裝置的製造成本減少。

綜上所述，雖然本發明已以較佳實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明。本發明所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作各種之更動與潤飾。因此，本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。

2．．．基板

4．．．光阻層

10、50．．．基板處理裝置

20．．．載入器

30．．．載出器

100．．．塗佈模組

100a．．．支架

100b．．．吊架

100c．．．吊架手臂

102、120、130．．．基板傳輸部件

104．．．噴嘴

106、122、132、150、160、170、202、230．．．鼓風機

108、152、162、204、522．．．多孔平板

108a、152a、171a、204a．．．孔洞

110、164、174、208．．．氣體提供部件

110a、164a、174a、222．．．氣體管路

112、166、176、206．．．氣體氣管

112a、166a、176a、206a．．．緩衝空間

114、140、240、254、306、512．．．驅動部件

116．．．真空卡盤

118．．．線性馬達

124、171．．．密孔平板

126、172．．．側牆

142、238、252、304、510．．．滾輪

144、240、408．．．馬達

146、260、310、526、526．．．傳送帶

148、258、308、524．．．滑輪

149、156、262、312、528、528．．．惰輪

154．．．狹縫

162a．．．第一孔洞

162b．．．第二孔洞

168、178．．．抽氣氣管

169、179．．．抽氣部件

169a、179a．．．抽氣管路

200、200A、200B．．．烘烤模組

210、218、256．．．加熱器

212．．．氣體泵

214．．．氣體儲槽

216．．．過濾器

220．．．氣閥

224．．．引導物件

232．．．第一基板傳輸部件

234．．．第二基板傳輸部件

236、250、302、508．．．旋轉軸

300．．．傳輸模組

400．．．緩衝模組

402．．．支持臂

404、516．．．垂直驅動部件

406．．．滾珠螺桿

410．．．球形塊狀

500．．．乾燥模組

502．．．乾燥室

504．．．下部腔體

504a．．．下部真空孔洞

506a．．．上部真空孔洞

506．．．罩體

514．．．真空系統

518．．．下部氣管

520．．．上部氣管

530．．．第一密封物件

600A．．．第一傳輸模組

600B．．．第二傳輸模組

700A．．．第一緩衝模組

700B．．．第二緩衝模組

第1圖繪示根據本發明一實施例之基板處理裝置示意圖；

第2圖繪示第1圖中之塗佈模組之俯視圖；

第3圖繪示第1圖中之塗佈模組之橫截面圖；

第4圖繪示第2圖和第3圖中之基板傳輸部件之另一橫截面圖；

第5圖繪示第2圖和第3圖中之基板傳輸部件之再一俯視圖；

第6圖繪示第2圖和第3圖中之基板傳輸部件之再一前視圖；

第7圖繪示第2圖和第3圖中之鼓風機之另一俯視圖；

第8圖繪示第2圖和第3圖中之鼓風機之再一俯視圖；

第9圖繪示第2圖和第3圖中之鼓風機之再一橫截面圖；

第10圖繪示第2圖和第3圖中之鼓風機之再一俯視圖；

第11圖繪示第2圖和第3圖中之鼓風機之再一橫截面圖；

第12圖繪示第1圖中之烘烤模組之一俯視圖；

第13圖繪示第1圖中之烘烤模組之一橫截面圖；

第14圖繪示第13圖中之氣體提供部件之一示意圖；

第15圖繪示第12圖和第13圖中之烘烤模組之另一俯視圖；

第16圖繪示第12圖和第13圖中之烘烤模組之再一俯視圖；

第17圖繪示第1圖中之傳輸模組和緩衝模組之一俯視圖；

第18圖繪示第1圖中之傳輸模組和緩衝模組之一側視圖；

第19圖繪示根據本發明另一實施例之基板處理裝置示意圖。

第20圖繪示第19圖中之乾燥模組之一俯視圖；

第21圖繪示第19圖中之乾燥模組之一前視圖；

第22圖繪示第19圖中之乾燥模組之一橫截面圖；以及

第23圖繪示第20圖到第22圖中之滾輪之一橫截面圖。

2．．．基板

20．．．載入器

30．．．載出器

50．．．基板處理裝置

100．．．塗佈模組

200．．．烘烤模組

500．．．乾燥模組

600A．．．第一傳輸模組

600B．．．第二傳輸模組

700A．．．第一緩衝模組

700B．．．第二緩衝模組

Claims (10)

1. 一種基板處理裝置，包括：一塗佈模組，係用在一水平方向傳輸該基板以及傳輸時在該基板上提供一光阻成份使該基板上形成一光阻層；一烘烤模組，毗連該塗佈模組，該烘烤模組於該基板在該水平方向傳輸時加熱該基板以使該光阻層硬化，其中該烘烤模組包括：一鼓風機，提供氣體到該基板的一底面使該基板飄浮，其中該鼓風機包括含有複數孔洞之一多孔平板或一密孔材料形成的一密孔平板以提供氣體，且該多孔平板或該密孔平板在該水平方向有一長度短於該基板的長度；及一加熱器，在該基板於該水平方向傳輸過該鼓風機時加熱該基板；以及一乾燥模組，配置於該塗佈模組與該烘烤模組之間以乾燥在該基板上形成的該光阻層，其中該乾燥模組包括：一乾燥室，用以容置該基板，該乾燥室具有複數個真空孔洞；一真空系統，經由該些真空孔洞連接至該乾燥室；及一多孔平板，配置於該基板上方，以使得該乾燥室內的壓力分佈均勻。
2. 如申請專利範圍第1項所述之裝置，進一步包括一傳輸模組，該傳輸模組設置在該塗佈模組與該烘烤模組之間，用以將該基板從該塗佈模組傳輸至該烘烤模組。
3. 如申請專利範圍第2項所述之裝置，其中該傳輸 模組包括：複數個旋轉軸，配置在該水平方向，且該些旋轉軸在垂直於該水平方向的另一水平方向延伸；複數個滾輪，安裝在該些旋轉軸上來傳送該基板；以及一驅動部件，用以使該些旋轉軸旋轉。
4. 如申請專利範圍第3項所述之裝置，進一步包括一緩衝模組，該緩衝模組可移動地配置於一垂直方向並穿越該些旋轉軸之間，該緩衝模組在該垂直方向移動該基板以儲存該基板。
5. 如申請專利範圍第4項所述之裝置，其中該緩衝模組包括：複數個可移動式支持臂，設置在該垂直方向，並穿過該些旋轉軸之間以支托該基板；以及一垂直動力部件，連接該些支持臂使該些支持臂垂直移動。
6. 如申請專利範圍第1項所述之裝置，其中該塗佈模組包括：一基板傳輸部件，在該水平方向傳輸該基板；以及一噴嘴裝置，設置在該基板傳輸部件上方，並於垂直該水平方向之另一水平方向延伸，且在傳輸該基板時提供該光阻成分於該基板上。
7. 如申請專利範圍第6項所述之裝置，其中該基板傳輸部件包括：一鼓風機，提供氣體於該基板底面使該基板飄浮；以 及一驅動部件，在該水平方向傳輸飄浮的該基板。
8. 如申請專利範圍第7項所述之裝置，其中該塗佈模組之該鼓風機包括含有複數孔洞之一多孔平板以提供氣體。
9. 如申請專利範圍第7項所述之裝置，其中該塗佈模組之該鼓風機包括：一密孔材料形成的一密孔平板；以及複數個側牆，設置在該塗佈模組之該鼓風機之該密孔平板的複數個側面。
10. 如申請專利範圍第7項所述之裝置，其中該驅動部件包括複數個真空夾盤，利用真空壓力托住該基板底面邊緣部份。