JP4916035B2 - 基板搬送装置及び基板搬送方法 - Google Patents
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Description
前記フォトリソグラフィ工程は、具体的には次のように行われる。
先ず、ガラス基板等の被処理基板に所定の膜を成膜した後、処理液であるフォトレジスト(以下、レジストと呼ぶ)が塗布されレジスト膜が形成される。そして、回路パターンに対応してレジスト膜が露光され、これが現像処理される。
前記基板搬送の構成としては、基板を略水平姿勢の状態で所定の高さに浮上させ、基板搬送方向に搬送する浮上搬送が注目されている。
図14の基板搬送装置200は、被処理基板であるLCD基板(液晶ディスプレイ基板)Gを浮上搬送するための浮上ステージ201と、浮上ステージ201の左右両側に敷設されたレール202と、基板Gの四隅付近を下方から吸着保持し、レール202上をスライド移動する4つの基板キャリア203とを備えている。
また、このコロ搬送路210の左右両側にはレール215が敷設され、このレール215上を、基板Gの下面を吸着保持可能なスライダ216が移動可能に設けられている。このスライダ216は、基板Gを浮上ステージ201から搬送コロ212上に引き込むために用いられる。
そして、図15(b)に示すように、基板Gの先端がコロ搬送路210の開始位置に達すると、基板キャリア203は移動を停止する。
ここで、コロ搬送路210の開始位置には、スライダ216が待機しており、スライダ216に昇降可能に設けられた吸着部216aが上昇し、図15(c)に示すように基板Gの先端部下面を吸着保持する。
そして、図15(e)に示すように、レール215に沿ってスライダ216が基板搬送方向に移動し、基板Gの所定領域(例えば、基板Gの3分の1程度)を基板搬送路210上に引き込むと、スライダ216の吸着部216aは吸着を解除する。ここで、基板Gは、搬送コロ212の駆動力によってコロ搬送路210上を搬送される。
しかしながら、そのように浮上ステージ201上で基板Gが一定期間停止されると、浮上ステージ201のガス噴射口201aから噴射されるエアが基板下面の一定箇所に当たり続け、レジスト膜に温度変化等によって転写痕が生じる虞があった。
また、浮上搬送からコロ搬送に移行する際に、前記のように基板Gの搬送を一時停止するために、スループットが低下するという課題もあった。
したがって、スループットを向上することができると共に、基板に形成されたレジスト膜において、浮上搬送部でのエア噴射(吸引)による転写痕の発生を防止することができる。
したがって、スループットを向上することができると共に、基板に形成されたレジスト膜において、浮上搬送部でのエア噴射(吸引)による転写痕の発生を防止することができる。
前記浮上搬送部2Aにおいては、基板搬送方向であるY方向に延長された浮上ステージ3が設けられている。浮上ステージ3の上面には、図示するように多数のガス噴出口3aとガス吸気口3bとがX方向とY方向に一定間隔で交互に設けられ、ガス噴出口3aからのガス噴出量と、ガス吸気口3bからの吸気量との圧力負荷を一定とすることによって、ガラス基板Gを浮上させている。尚、この実施形態においては、ガスの噴出及び吸気により基板Gを浮上させるようにしたが、それに限定されず、ガス噴出のみの構成によって基板浮上させるようにしてもよい。
尚、前記スライド部材6aと、シリンダ部6cと、吸引ポンプ13は、それぞれコンピュータからなる制御部50によって、その駆動が制御される。
また、図2に示すようにノズル7の下端部には、スリット状の吐出口7aが形成され、このノズル7には,レジスト液供給源(図示せず)からレジスト液が供給されるようになされている。
また、ノズルアーム9には、昇降機構が設けられており、ノズル7は、所定の高さに昇降可能である。かかる構成により、図2に示すように、ノズル7は、ガラス基板Gにレジスト液を吐出する吐出位置と、それより上流側にある回転ロール10及び待機部12との間を移動可能となされている。
前記回転ロール10のさらに上流側には,ノズル7の待機部12が設けられている。この待機部12には,例えばノズル7を洗浄する機能やノズル7の乾燥を防止する機能が設けられている。
このコロ搬送部2Bにおいては、ステージ3の後段に、コロ駆動部25によって回転駆動される複数本のコロ軸16が並列に設けられている。各コロ軸16には、複数の搬送コロ17が取り付けられ、これら搬送コロ17の回転によって基板Gを搬送する構成となされている。
この待機中において、ノズル7は図2に示すように待機部12から回転ロール10上に移動する。回転ロール10が回転した状態で、ノズル7から回転ロール10にレジスト液が吐出されて、レジスト液の試し出しが行われる。その後、ノズル7は、所定の吐出位置に移動する。
そして、ノズル7の吐出口7aからはレジスト液が吐出され、ノズル7の下方を通過する基板Gの上面にレジスト液が塗布される(図4のステップS3、図5(b)の状態)。
基板キャリア6がコロ搬送部2Bに達すると、図5(d)に示すように、基板Gは次第に、その先端から後端に向けて搬送コロ17上に載置され始める。
ここで、搬送コロ17上に載置された基板先端からの長さLが、センサ等の検出手段、或いは搬送速度をパラメータに用いた演算により検出開始される(図4のステップS5)。そして、前記長さLが、所定長さ(例えば基板全長に対し1/3〜1/2程度)に達すると(即ち、基板Gの先端がコロ搬送部2Bの所定位置に到達すると(図4のステップS6))、基板キャリア6の吸着部材6bによる吸着が解除される(図5のステップS7)。また、吸着部材6bはシリンダ部6cにより下降される。
これにより、その後、基板Gは搬送コロ17の駆動力のみで搬送され、浮上搬送からコロ搬送に搬送停止されることなく移行する(図4のステップS9、図5(e)の状態)。
また、基板キャリア6は、ガイドレール5に沿って浮上搬送部2Aの開始位置まで戻り、次の基板Gを吸着保持する。
この構成により、浮上搬送からコロ搬送へと移行する際に、基板Gを一時停止することなく、高速な搬送速度を維持したまま搬送を継続することができる。
したがって、スループットを向上することができると共に、基板Gに形成されたレジスト膜において、浮上ステージ201でのエア噴射(吸引)による転写痕の発生を防止することができる。
この第2の実施の形態では、第1の実施形態での構成に加え、図6に示すように、ガイドレール5に沿って移動する4つの基板キャリア6の後方に(即ち、基板Gの後方に)、同じくガイドレール5に沿って移動可能に設けられた一対の押出部15を備える。
この押出部15は、前記基板キャリア6による基板保持が解除された際、基板Gの左右両側の後端部を基板搬送方向に押し続け、基板Gをコロ搬送部2Bに引き渡すために用いられる。
尚、図7(a)は、押板15bが上昇し、基板後端部に当接した状態を示し、図7(b)は、押板15bが下降し、基板Gに接していない状態を示している。
また、スライド部材15aとシリンダ部15cは、制御部50の制御により駆動するように構成されている。
この待機中において、ノズル7は図2に示すように待機部12から回転ロール10上に移動する。回転ロール10が回転した状態で、ノズル7から回転ロール10にレジスト液が吐出されて、レジスト液の試し出しが行われる。その後、ノズル7は、所定の吐出位置に移動する。
そして、ノズル7の吐出口7aからはレジスト液が吐出され、ノズル7の下方を通過する基板Gの上面にレジスト液が塗布される(図8のステップSt3、図9(b)の状態)。
ここで、基板Gの後ろに続いて移動していた押出部15の押板15bが上昇し(図8のステップSt5)、押板15bが基板後端部に当接する。
この押板15bが基板後端部を押して浮上ステージ3上の基板Gを移動させることにより、基板搬送が速度を低下することなく継続して行われる(図8のステップSt6、図9(d)の状態)。
ここで、搬送コロ17上に載置された基板先端からの長さLが、センサ等の検出手段、或いは搬送速度をパラメータに用いた演算により検出開始される(図8のステップSt7)。そして、前記長さLが所定長さ(例えば基板全長に対し1/3〜1/2程度)に達すると(即ち、基板Gの先端がコロ搬送部2Bの所定位置に到達すると(図8のステップSt8))、押出部15のガイドレール5に沿った移動が停止する(図8のステップSt9)。
その後、基板Gは搬送コロ17の駆動力のみで搬送され、浮上搬送からコロ搬送に搬送停止されることなく移行する(図8のステップSt10、図9(e)の状態)。
また、押出部15及び基板キャリア6は、ガイドレール5に沿って浮上搬送部2Aの開始位置まで戻り、基板キャリア6は、次の基板Gを吸着保持する。
この構成により、浮上搬送からコロ搬送へと移行する際に、基板Gを一時停止することなく、高速な搬送速度を維持したまま搬送を継続することができる。
したがって、スループットを向上することができると共に、基板Gに形成されたレジスト膜において、浮上ステージ201でのエア噴射(吸引)による転写痕の発生を防止することができる。
図10に示すように、コロ搬送部2Bにおいては、複数本のコロ軸16が並列に敷設され、第1、第2の実施形態と同様に各コロ軸16に取り付けられた搬送コロ17の回転によって基板Gを搬送するようになされている。尚、図10においては、コロ軸16を回転駆動するコロ駆動部25(図1,図6参照)の図示を省略している。
複数のコロ軸16によって形成される基板搬送路の左右両側には、一対のレール26(第2のガイドレール)が敷設されている。また、各レール26に沿って移動可能な一対のスライダ27が設けられている。
このスライダ27は、浮上搬送部2Aにおけるレジスト液の塗布終了後、保持部27aにより基板Gの下面を吸着保持し、レール26に沿って移動して、基板Gをコロ搬送部2Bに引き渡すために用いられる。
また、スライド部材27bとシリンダ部27cは、制御部50の制御により駆動するように構成されている。
この待機中において、前記第1、第2の実施形態と同様に、具体的には図2に示したようにノズル7は待機部12から回転ロール10上に移動する。回転ロール10が回転した状態で、ノズル7から回転ロール10にレジスト液が吐出されて、レジスト液の試し出しが行われる。その後、ノズル7は、所定の吐出位置に移動する。
そして、ノズル7の吐出口7aからはレジスト液が吐出され、ノズル7の下方を通過する基板Gの上面にレジスト液が塗布される(図12のステップSp3、図13(b)の状態)。
基板キャリア6によって搬送される基板Gの先端がスライダ27の待機位置(レール26の始点付近)に到達すると、一対のスライダ27はレール26に沿って移動を開始する(図12のステップSp5、図13(d)の状態)。
次いで、スライダ27においてシリンダ部27cが駆動され、保持部27aが上昇する(図12のステップSp6)。
次いで、基板キャリア6による基板Gの吸着保持が解除され、図13(f)に示すように、その吸着部材6bが下降する。尚、基板キャリア6は、ガイドレール5に沿って浮上搬送部2Aの開始位置まで戻り、次の基板Gを吸着保持する。
ここで、搬送コロ17上に載置された基板先端からの長さLが、センサ等の検出手段、或いは搬送速度をパラメータに用いた演算により検出開始される(図12のステップSp10)。そして、前記長さLが、所定長さ(例えば基板全長に対し1/2程度)に達すると(即ち、基板Gの先端がコロ搬送部2Bの所定位置に到達すると(図12のステップSp11))、スライダ27の保持部27aによる吸着が解除される(図12のステップSp12)。尚、スライダ27は、レール26の開始点まで戻り、次の基板Gを待機する。
その後、基板Gは搬送コロ17の駆動力のみで搬送され、浮上搬送からコロ搬送に搬送停止されることなく移行する(図12のステップSp13)。
この構成により、基板Gを一時停止することなく、所定の搬送速度を維持したまま搬送を継続することができる。
したがって、スループットを向上することができると共に、基板Gに形成されたレジスト膜において、浮上ステージ201でのエア噴射(吸引)による転写痕の発生を防止することができる。
Claims (10)
- 被処理基板を平流し搬送する基板搬送装置であって、
前記基板を浮上させた状態で搬送する浮上搬送部と、
基板搬送方向に沿って前記浮上搬送部の後段に配置され、前記浮上搬送部から前記基板を受け取って搬送コロにより搬送するコロ搬送部とを備え、
前記浮上搬送部は、気体の噴射又は噴射と吸引により前記基板を浮上させる浮上ステージと、前記浮上ステージの左右側方に平行に配置されると共に、前記コロ搬送部の左右側方まで延設されたガイドレールと、前記ガイドレールに沿って、それぞれ移動可能に設けられ、前記基板の縁部を下方から吸着保持可能な複数の基板キャリアとを有し、
前記基板は、前記基板キャリアにより吸着保持され、前記ガイドレールに沿って搬送され、前記基板の先端が前記コロ搬送部の所定位置に到達した際、前記基板キャリアによる吸着が解除されることを特徴とする基板搬送装置。 - 被処理基板を平流し搬送する基板搬送装置であって、
前記基板を浮上させた状態で搬送する浮上搬送部と、
基板搬送方向に沿って前記浮上搬送部の後段に配置され、前記浮上搬送部から前記基板を受け取って搬送コロにより搬送するコロ搬送部とを備え、
前記浮上搬送部は、気体の噴射又は噴射と吸引により前記基板を浮上させる浮上ステージと、前記浮上ステージの左右側方に平行に配置されると共に、前記コロ搬送部の左右側方まで延設されたガイドレールと、前記ガイドレールに沿って移動可能に設けられ、前記基板の縁部を下方から吸着保持可能な複数の基板キャリアと、前記ガイドレールに沿って移動可能に設けられ、前記基板の後端部を押すことにより、前記基板を基板搬送方向に移動可能な押出部とを有し、
前記基板は、前記基板キャリアにより吸着保持され、前記ガイドレールに沿って搬送され、前記基板キャリアによる吸着が解除された後、前記押出部により押されて搬送され、前記基板の先端が前記コロ搬送部の所定位置に到達した際、前記押出部の移動が停止されることを特徴とする基板搬送装置。 - 前記基板が前記浮上ステージ上を搬送される間に、前記基板キャリアによる前記基板への吸着が解除されることを特徴とする請求項2に記載された基板搬送装置。
- 被処理基板を平流し搬送する基板搬送装置であって、
前記基板を浮上させた状態で搬送する浮上搬送部と、
基板搬送方向に沿って前記浮上搬送部の後段に配置され、前記浮上搬送部から前記基板を受け取って搬送コロにより搬送するコロ搬送部とを備え、
前記浮上搬送部は、気体の噴射又は噴射と吸引により前記基板を浮上させる浮上ステージと、前記浮上ステージの左右側方に平行に配置されると共に、前記コロ搬送部の左右側方まで延設された第1のガイドレールと、前記第1のガイドレールに沿って、それぞれ移動可能に設けられ、前記基板の側縁部を下方から吸着保持可能な基板キャリアとを有し、
前記コロ搬送部は、前記搬送コロによって形成される基板搬送路の左右側方に敷設された第2のガイドレールと、前記第2のガイドレールに沿って、それぞれ移動可能に設けられ、前記基板の前縁部を下方から吸着保持可能なスライダとを有し、
前記基板は、前記基板キャリアにより吸着保持され、前記第1のガイドレールに沿って搬送され、
前記基板の先端が前記スライダの待機位置に到達すると、前記スライダが、前記基板キャリアの移動速度に同期して、前記第2のガイドレールに沿って移動し、
前記スライダにより前記基板が吸着保持されると、前記基板キャリアによる吸着が解除されることを特徴とする基板搬送装置。 - 前記スライダにより吸着保持され、前記コロ搬送部を搬送される前記基板は、その先端が前記コロ搬送部の所定位置に到達した際、前記スライダによる吸着が解除されることを特徴とする請求項4に記載された基板搬送装置。
- 気体の噴射又は噴射と吸引により被処理基板を浮上させる浮上搬送部において、基板搬送方向に敷設されたガイドレールに沿って移動可能な基板キャリアの基板吸着部材により、前記基板の縁部を吸着保持し、前記基板キャリアを前記ガイドレールに沿って移動させて前記基板を搬送し、
さらに前記浮上搬送部の後段に配置されたコロ搬送部において、前記基板キャリアから前記基板を受け取り、搬送コロにより平流し搬送する基板搬送方法であって、
前記浮上搬送部において、前記基板を、前記基板キャリアの基板吸着部材により吸着保持した状態で前記ガイドレールに沿って搬送するステップと、
前記基板の先端が前記コロ搬送部の所定位置に到達した際、前記基板キャリアの基板吸着部材による吸着を解除し、前記基板吸着部材を下降させるステップと、
前記基板を前記搬送コロの駆動力のみによって搬送し、前記基板を浮上搬送からコロ搬送に搬送停止することなく移行するステップと、
を実行することを特徴とする基板搬送方法。 - 気体の噴射又は噴射と吸引により被処理基板を浮上させる浮上搬送部において、基板搬送方向に敷設されたガイドレールに沿って移動可能な基板キャリアにより前記基板の縁部を吸着保持し、前記基板キャリアを前記ガイドレールに沿って移動させて前記基板を搬送し、
さらに前記浮上搬送部の後段に配置されたコロ搬送部において、前記基板キャリアから前記基板を受け取り、搬送コロにより平流し搬送する基板搬送方法であって、
前記浮上搬送部において、前記基板を、前記基板キャリアにより吸着保持した状態で前記ガイドレールに沿って搬送するステップと、
前記基板キャリアによる前記基板への吸着を解除するステップと、
前記ガイドレールに沿って移動可能に設けられた押出部により前記基板の後端部を押して前記基板を搬送するステップと、
前記基板の先端が、前記コロ搬送部の所定位置に到達すると、前記押出部の移動を停止するステップとを実行することを特徴とする基板搬送方法。 - 前記基板が前記浮上搬送部を搬送される間に、前記基板キャリアによる前記基板への吸着を解除するステップを実行することを特徴とする請求項7に記載された基板搬送方法。
- 気体の噴射又は噴射と吸引により被処理基板を浮上させる浮上搬送部において、基板搬送方向に敷設された第1のガイドレールに沿って移動可能な基板キャリアにより前記基板の側縁部を吸着保持し、前記基板キャリアを前記第1のガイドレールに沿って移動させて前記基板を搬送し、
さらに前記浮上搬送部の後段に配置されたコロ搬送部において、基板搬送方向に敷設された第2のガイドレールに沿って移動可能なスライダにより前記基板の前縁部を吸着保持し、搬送コロにより平流し搬送する基板搬送方法であって、
前記基板を、前記基板キャリアにより吸着保持した状態で前記第1のガイドレールに沿って搬送するステップと、
前記基板の先端が前記スライダの待機位置に到達すると、前記スライダを、前記基板キャリアの移動速度に同期させ、前記第2のガイドレールに沿って移動させるステップと、
前記スライダにより前記基板を吸着保持するステップと、
前記基板キャリアによる吸着を解除するステップとを実行することを特徴とする基板搬送方法。 - 前記スライダにより吸着保持され、前記コロ搬送部を搬送される前記基板に対し、その先端が前記コロ搬送部の所定位置に到達した際、前記スライダによる吸着を解除するステップを実行することを特徴とする請求項9に記載された基板搬送方法。
Priority Applications (4)
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