JP4762850B2

JP4762850B2 - 回転ロールの洗浄機構及び回転ロールの洗浄方法

Info

Publication number: JP4762850B2
Application number: JP2006284932A
Authority: JP
Inventors: 剛山▲崎▼; 昌孝境
Original assignee: Tokyo Electron Ltd
Current assignee: Tokyo Electron Ltd
Priority date: 2005-11-16
Filing date: 2006-10-19
Publication date: 2011-08-31
Anticipated expiration: 2026-10-19
Also published as: JP2007160301A

Description

本発明は，ノズルから基板に塗布液が吐出される前に，ノズルから塗布液が供給される回転ロールの洗浄機構と，その回転ロールの洗浄方法に関する。

例えば，液晶ディスプレイの製造プロセスのフォトリソグラフィ工程では，ガラス基板上にレジスト液を塗布してレジスト膜を形成するレジスト塗布処理が行われている。

このレジスト塗布処理は，レジスト塗布処理ユニットにおいて行われ，例えばステージにガラス基板が載置され，そのガラス基板の上面をノズルが移動しながらレジスト液を吐出することにより行われている。また，レジスト塗布処理ユニットでは，塗布時のノズルの吐出状態を安定させるため，塗布前にノズルの先端部を，回転している回転ロールの上部表面に近づけ，ノズルから回転ロールにレジスト液を試し出しする処理が行われている。

さらに，レジスト液で汚れた回転ロールをそのままにしておくと，次の試し出しの際にノズルが汚れるので，試し出しの終了後に，回転ロールを洗浄する処理が行われている。従来より，この回転ロールの洗浄は，タンクに貯留された洗浄液内に回転ロールの下部を浸漬し，回転ロールを回転させることによって行われていた（特許文献１参照）。

特開平１０−７６２０５号公報

しかしながら，上述したようにタンクに洗浄液を貯留して回転ロールを洗浄する場合，容積の大きいタンクに洗浄の度に毎回洗浄液を入れ替える必要があるので，多量の洗浄液が必要になっていた。このため，レジスト塗布処理ユニットのランニングコストが高くなっていた。

本発明は，かかる点に鑑みてなされたものであり，回転ロールを洗浄するための洗浄液の消費量を低減し，レジスト塗布処理ユニットなどの塗布処理ユニットのランニングコストを低減することをその目的とする。

上記目的を達成するための本発明は，ノズルから基板に塗布液が吐出される前に，ノズルから塗布液が供給される回転ロールの洗浄機構であって，回転ロールの表面の一部をその表面に沿って覆い，当該回転ロールの表面との間に円弧状で狭小な隙間を形成するカバー体と，前記カバー体と前記回転ロールの表面との間の円弧状で狭小な隙間に正圧で洗浄液を吐出する洗浄液吐出口と，を有し，前記隙間は，前記洗浄液が正圧を維持したまま流れるように形成されていることを特徴とする。

本発明によれば，カバー体により回転ロールの表面に隙間を形成し，その隙間に洗浄液を吐出するので，汚れが付着した回転ロールの表面に効率的に洗浄液を供給することができる。この結果，洗浄液の消費量を低減でき，塗布処理ユニットのランニングコストも低減できる。

前記洗浄液吐出口は，前記カバー体に形成されていてもよい。

ノズルから塗布液が供給される回転ロールの最上部を回転の基点にして，回転ロールが回転方向に３/４回転した位置から１回転する位置までの間に，前記洗浄液吐出口が設けられていてもよい。

前記回転ロールが１/２回転した位置から３/４回転する位置までの間には，前記洗浄液吐出口から回転ロールの表面を伝って流れ落ちる洗浄液を前記回転ロールの表面において滞留させる滞留部材が設けられ，前記洗浄液吐出口から回転ロールの表面を伝って流れ落ちる洗浄液によって当該回転ロールの表面を洗浄し，前記滞留部材で滞留された洗浄液によって回転ロールの表面をさらに洗浄してもよい。

前記滞留部材は，上方からの洗浄液を受け止めて滞留させ，当該洗浄液によって回転ロールの表面を洗浄するための滞留部と，前記滞留部の洗浄液を回転ロールの表面に沿って下方に流し，当該洗浄液によって回転ロールの表面をさらに洗浄するための洗浄液誘導部とを備えていてもよい。

前記滞留部は，滞留部材の回転ロールの表面側の上部に凹状に形成され，前記洗浄液誘導部は，前記回転ロールの表面をその表面に沿って覆い，その回転ロールの表面との間に円弧状で狭小な隙間を形成していてもよい。

前記洗浄液誘導部は，前記回転ロールの最下部まで形成され，前記回転ロールの最下部の位置には，洗浄液の排出口が設けられていてもよい。

前記排出口には，洗浄液を吸引するための吸引装置が接続されていてもよい。

前記洗浄液吐出口よりも前記回転ロールの回転方向側には，回転ロールの表面の洗浄液を吸引して除去する吸引口が設けられていてもよい。

ノズルから塗布液が供給される回転ロールの最上部を回転の基点にして，回転ロールが１/４回転した位置から１/２回転する位置までの間と，回転ロールが１/２回転した位置から３/４回転する位置までの間に，前記洗浄液吐出口が設けられていてもよい。

前記洗浄液吐出口は，２箇所に設けられ，前記カバー体は，前記回転ロールの下部側の少なくとも前記２箇所の洗浄液吐出口の間の回転ロールの表面を円弧状で狭小な隙間を介して覆うように形成されていてもよい。

前記２箇所の洗浄液吐出口の間のカバー体には，洗浄液の排出口が形成されていてもよい。

前記排出口は，前記回転ロールの最下部に対向する位置に形成されていてもよい。

前記回転ロールの１/２回転から３/４回転までの間に位置する前記洗浄液吐出口のさらに回転方向側には，回転ロールの表面の洗浄液を吸引して除去する吸引口が設けられていてもよい。

前記吸引口のさらに回転方向側には，回転ロールの表面を乾燥させるための排気口が設けられていてもよい。

前記洗浄液吐出口は，回転ロールの長手方向に沿って上下２列に並べて形成され，当該２列の洗浄液吐出口は，互いに千鳥状に配置されていてもよい。

別の観点による本発明は，請求項９，１５又は１６のいずれかの回転ロールの洗浄機構を用いた回転ロールの洗浄方法であって，洗浄液吐出口から洗浄液を供給しながら，回転ロールを回転させる洗浄工程と，前記洗浄液吐出口からの洗浄液の供給を停止し，前記洗浄工程よりも速い速度で前記回転ロールを回転させ，前記回転ロールの表面の洗浄液を吸引口により吸引して除去する乾燥工程と，を有することを特徴とする。

さらに別の観点による本発明は，請求項９，１５又は１６のいずれかに記載の回転ロールの洗浄機構を用いた回転ロールの洗浄方法であって，回転ロールを回転させながら，洗浄液吐出口から洗浄液を吐出する吐出工程と，前記吐出工程と同じ速度で前記回転ロールを回転させながら，前記回転ロールの表面の洗浄液を吸引口により吸引して除去する吸引工程と，を有し，前記吐出工程と吸引工程は，交互に行われ，前記吐出工程においては，前記吸引口からの洗浄液の吸引は停止し，前記吸引工程においては，前記洗浄液吐出口からの洗浄液の供給は停止していることを特徴とする。

本発明によれば，洗浄液の消費量を低減して，塗布処理ユニットのランニングコストを低減できる。

以下，本発明の好ましい実施の形態について説明する。図１は，本実施の形態にかかる回転ロールの洗浄機構が搭載された塗布現像処理装置１の構成の概略を示す平面図である。

塗布現像処理装置１は，図１に示すように例えば複数のガラス基板Ｇをカセット単位で外部に対して搬入出するためのカセットステーション２と，フォトリソグラフィ工程の中で枚葉式に所定の処理を施す各種処理ユニットが配置された処理ステーション３と，処理ステーション３に隣接して設けられ，処理ステーション３と露光装置４との間でガラス基板Ｇの受け渡しを行うインターフェイスステーション５とを一体に接続した構成を有している。

カセットステーション２には，カセット載置台１０が設けられ，当該カセット載置台１０は，複数のカセットＣをＸ方向（図１中の上下方向）に一列に載置自在になっている。カセットステーション２には，搬送路１１上をＸ方向に向かって移動可能な基板搬送体１２が設けられている。基板搬送体１２は，カセットＣに収容されたガラス基板Ｇの配列方向（Ｚ方向；鉛直方向）にも移動自在であり，Ｘ方向に配列された各カセットＣ内のガラス基板Ｇに対して選択的にアクセスできる。

基板搬送体１２は，Ｚ軸周りのθ方向に回転可能であり，後述する処理ステーション３側のエキシマＵＶ照射ユニット２０や第６の熱処理ユニット群３４の各ユニットに対してもアクセスできる。

処理ステーション３は，例えばＹ方向（図１の左右方向）に延びる２列の搬送ラインＡ，Ｂを備えている。この搬送ラインＡ，Ｂにおいては，コロ搬送やアームによる搬送などにより，ガラス基板Ｇを搬送できる。処理ステーション３の正面側であるＸ方向負方向側（図１の下側）の搬送ラインＡには，カセットステーション２側からインターフェイスステーション５側に向けて順に，例えばガラス基板Ｇ上の有機物を除去するエキシマＵＶ照射ユニット２０，ガラス基板Ｇを洗浄するスクラバ洗浄ユニット２１，第１の熱処理ユニット群２２，第２の熱処理ユニット群２３，ガラス基板Ｇにレジスト液を塗布するレジスト塗布処理ユニット２４，ガラス基板Ｇを減圧乾燥する減圧乾燥ユニット２５及び第３の熱処理ユニット群２６が直線的に一列に配置されている。

第１及び第２の熱処理ユニット群２２，２３には，ガラス基板Ｇを加熱する複数の加熱処理ユニットとガラス基板Ｇを冷却する冷却処理ユニットが多段に積層されている。第１の熱処理ユニット群２２と第２の熱処理ユニット群２３との間には，このユニット群２２，２３間のガラス基板Ｇの搬送を行う搬送体２７が設けられている。第３の熱処理ユニット群２６にも同様に，加熱処理ユニットと冷却処理ユニットが多段に積層されている。

処理ステーション３の背面側であるＸ方向正方向側（図１の上方側）の搬送ラインＢには，インターフェイスステーション５側からカセットステーション２側に向けて順に，例えば第４の熱処理ユニット群３０，ガラス基板Ｇを現像処理する現像処理ユニット３１，ガラス基板Ｇの脱色処理を行うｉ線ＵＶ照射ユニット３２，第５の熱処理ユニット群３３及び第６の熱処理ユニット群３４が直線状に一列に配置されている。

第４〜第６の熱処理ユニット群３０，３３，３４には，それぞれ加熱処理ユニットと冷却処理ユニットが多段に積層されている。また，第５の熱処理ユニット群３３と第６の熱処理ユニット群３４との間には，このユニット群３３，３４間のガラス基板Ｇの搬送を行う搬送体４０が設けられている。

搬送ラインＡの第３の熱処理ユニット群２６と搬送ラインＢの第４の熱処理ユニット群３０との間には，このユニット群２６，３０間のガラス基板Ｇの搬送を行う搬送体４１が設けられている。この搬送体４１は，後述するインターフェイスステーション５のエクステンション・クーリングユニット６０に対してもガラス基板Ｇを搬送できる。

搬送ラインＡと搬送ラインＢとの間には，Ｙ方向に沿った直線的な空間５０が形成されている。空間５０には，ガラス基板Ｇを載置して搬送可能なシャトル５１が設けられている。シャトル５１は，処理ステーション３のカセットステーション２側の端部からインターフェイスステーション５側の端部まで移動自在であり，処理ステーション３内の各搬送体２７，４０，４１に対してガラス基板Ｇを受け渡すことができる。

インターフェイスステーション５には，例えば冷却機能を有しガラス基板Ｇの受け渡しを行うエクステンション・クーリングユニット６０と，ガラス基板Ｇを一時的に収容するバッファカセット６１と，外部装置ブロック６２が設けられている。外部装置ブロック６２には，ガラス基板Ｇに生産管理用のコードを露光するタイトラーと，ガラス基板Ｇの周辺部を露光する周辺露光装置が設けられている。インターフェイスステーション５には，上記エクステンション・クーリングユニット６０，バッファカセット６１，外部装置ブロック６２及び露光装置４に対して，ガラス基板Ｇを搬送可能な基板搬送体６３が設けられている。

この塗布現像処理装置１においては，カセットステーション２から搬入されたガラス基板Ｇが，洗浄処理，熱処理，レジスト塗布処理，乾燥処理などを順に行いながら，搬送ラインＡを通ってインターフェイスステーション５に搬送される。そして，ガラス基板Ｇがインターフェイスステーション５から露光装置４に搬送され，露光装置４で露光処理が終了したガラス基板Ｇが，熱処理，現像処理，熱処理などを行いながら，搬送ラインＢを通ってカセットステーション２に戻される。

次に，回転ロールの洗浄機構を有するレジスト塗布処理ユニット２４について説明する。

レジスト塗布処理ユニット２４には，例えば図２及び図３に示すように搬送ラインＡに沿ったＹ方向に長いステージ７０が設けられている。ステージ７０の上面には，図３に示すように多数のガス噴出口７１が形成されている。ステージ７０の幅方向（Ｘ方向）の両側には，Ｙ方向に延びる一対の第１のガイドレール７２が設けられている。第１のガイドレール７２には，ガラス基板Ｇの幅方向の端部を保持して第１のガイドレール７２上を移動する一対の保持アーム７３がそれぞれ設けられている。ガス噴出口７１からガスを噴出することにより，ガラス基板Ｇを浮上させ，保持アーム７３により，その浮上したガラス基板Ｇの両端部を保持して，ガラス基板Ｇを搬送ラインＡに沿って移動させることができる。

レジスト塗布処理ユニット２４のステージ７０上には，ガラス基板Ｇにレジスト液を吐出するノズル８０が設けられている。ノズル８０は，例えば図３及び図４に示すようにＸ方向に向けて長い略直方体形状に形成されている。ノズル８０は，例えばガラス基板ＧのＸ方向の幅よりも長く形成されている。ノズル８０の下端部には，図４に示すようにスリット状の吐出口８０ａが形成されている。ノズル８０の上部には，レジスト液供給源８１に通じるレジスト液供給管８２が接続されている。

図３に示すようにノズル８０の両側には，Ｙ方向に延びる第２のガイドレール８３が形成されている。ノズル８０は，第２のガイドレール８３上を移動するノズルアーム８４によって保持されている。ノズル８０は，ノズルアーム８４の駆動機構により，第２のガイドレール８３に沿ってＹ方向に移動できる。また，例えばノズルアーム８４には，昇降機構が設けられており，ノズル８０は，所定の高さに昇降できる。これにより，ノズル８０は，ガラス基板Ｇにレジスト液を吐出する吐出位置Ｅと，後述する回転ロール９０及び待機部９１との間を移動できる。

図２及び図３に示すようにノズル８０の吐出位置Ｅよりも上流側，つまりノズル８０の吐出位置ＥのＹ方向負方向側には，ノズル８０の試し出しが行われる回転ロール９０が設けられている。この回転ロール９０の最上部にノズル８０の吐出口８０ａを近接させ，回転ロール９０を回転させながらレジスト液を吐出することにより，ノズル８０の吐出口８０ａにおけるレジスト液の付着状態を整えて，レジスト液の吐出状態を安定させることができる。

回転ロール９０のさらに上流側には，ノズル８０の待機部９１が設けられている。この待機部９１には，例えばノズル８０を洗浄する機能やノズル８０の乾燥を防止する機能が設けられている。

回転ロール９０には，回転ロール９０を洗浄する洗浄機構１００が設けられている。以下，この回転ロール９０の洗浄機構１００について説明する。

回転ロール９０は，図５に示すように搬送ラインＡの搬送方向（Ｙ方向正方向）に向かって後方回り（図５中の回転方向Ｆ）に回転する。回転ロール９０の最上部を回転の基点Ｐにして，回転ロール９０が回転方向Ｆに例えば３/４回転した位置から１回転する位置までの間には，カバー体としての第１のブロック１１０が設けられている。第１のブロック１１０は，基点Ｐに対して回転ロール９０の例えば２７０°〜３００°の区間に亘って回転ロール９０の表面を覆っている。第１のブロック１１０は，回転ロール９０の長手方向に沿って長い略直方体形状に形成され，図６に示すように回転ロール９０の長手方向の両端部間に亘って形成されている。図５に示すように第１のブロック１１０の回転ロール９０側の表面１１０ａは，回転ロール９０の表面に沿って円弧状に湾曲して形成されている。第１のブロック１１０の表面１１０ａと回転ロール９０の表面との間には，１００μｍ〜３００μｍ，より好ましくは１００μｍの隙間Ｄが形成されている。

第１のブロック１１０の表面１１０ａには，レジスト液の溶剤などの洗浄液を吐出する洗浄液吐出口１１１と，洗浄液を吸引する吸引口１１２が形成されている。吸引口１１２は，洗浄液吐出口１１１よりも回転方向Ｆ側，つまり上方側に形成されている。洗浄液吐出口１１１は，例えば図７に示すように回転ロール９０の長手方向に沿って一列に複数並べて形成されている。吸引口１１２は，回転ロール９０の長手方向に沿ってスリット状に形成されている。

洗浄液吐出口１１１は，図５に示すように第１のブロック１１０内に形成された流路１２０と，その流路１２０に接続された配管１２１によって，洗浄液供給装置１２２に接続されている。この洗浄液供給装置１２２からの洗浄液の供給により，洗浄液吐出口１１１から回転ロール９０と第１のブロック１１０との間の隙間Ｄに洗浄液を吐出できる。

吸引口１１２は，第１のブロック１１０内に形成された流路１２３と，その流路１２３に接続された配管１２４によって，真空ポンプなどの吸引装置１２５に接続されている。吸引装置１２５による真空引きにより，吸引口１１２から回転ロール９０の表面の洗浄液を吸引して除去できる。

第１のブロック１１０と回転ロール９０の最上部との間には，第２のブロック１３０が設けられている。第２のブロック１３０は，第１のブロック１１０と同様に，回転ロール９０の長手方向に沿って長い略直方体形状を有し，図６に示すように回転ロール９０の長手方向の両端部間に亘って形成されている。図５に示すように第２のブロック１３０の回転ロール９０側の表面１３０ａは，回転ロール９０の表面に沿って円弧状に湾曲して形成されている。例えば第２のブロック１３０の表面１３０ａと回転ロール９０の表面との間には，１ｍｍ以下，より好ましくは３００μｍの隙間Ｄが形成されている。

第２のブロック１３０の表面１３０ａには，回転ロール９０の表面を乾燥させるための排気口１３１が形成されている。排気口１３１は，図８に示すように回転ロール９０の長手方向に沿ってスリット状に形成されている。

排気口１３１は，図５に示すように例えば第２のブロック１３０内に形成された流路１３２と，その流路１３２に接続された排気管１３３によって，真空ポンプなどの負圧発生装置１３４に接続されている。負圧発生装置１３４により，排気口１３１から回転ロール９０の表面の雰囲気を強制的に排気して回転ロール９０の表面を乾燥させることができる。

基点Ｐから回転ロール９０が回転方向Ｆに例えば１/２回転した位置から３/４回転する位置までの間には，滞留部材としての第３のブロック１４０が設けられている。第３のブロック１４０は，回転ロール９０の例えば１８０°〜２４０°の区間に亘って回転ロール９０のＹ方向正方向側の下部を覆うように形成されている。第３のブロック１４０は，例えば回転ロール９０の長手方向に沿って長い細長形状に形成され，図６に示したように回転ロール９０の両端部間に亘り形成されている。

図５に示すように第３のブロック１４０の回転ロール９０側の表面１４０ａには，回転ロール９０の表面を伝って流れ落ちる洗浄液を滞留させる滞留部１４１と，その滞留部１４１の洗浄液を回転ロール９０の最下部に誘導する洗浄液誘導部１４２が形成されている。滞留部１４１は，表面１４０ａの上部に形成され，下に凸の湾曲状に形成されている。洗浄液誘導部１４２は，回転ロール９０の表面に沿って，滞留部１４１から回転ロール９０の最下部までの回転ロール９０の表面を覆うように円弧状に湾曲している。洗浄液誘導部１４２と回転ロールの表面との間には，例えば第１のブロック１１０と同様に１００μｍ〜３００μｍ，より好ましくは１００μｍの隙間Ｄが形成されている。

例えば回転ロール９０の最下部を挟んだ，第３のブロック１４０の反対側の位置には，第４のブロック１５０が設けられている。第４のブロック１５０は，回転ロール９０のＹ方向負方向側の下部付近を覆うように形成されている。第４のブロック１５０の表面１５０ａは，第３のブロック１４０の洗浄液誘導部１４２と同様に，回転ロール９０との間に一定の隙間Ｄができるように円弧状に形成されている。なお，第４のブロック１５０と第３のブロック１４０は，一体的に形成されていてもよい。

第３のブロック１４０と第４のブロック１５０との間には，洗浄液の排出口１６０がスリット状に形成されている。この排出口１６０は，配管１６１を通じて真空ポンプなどの吸引装置１６２に接続されている。この吸引装置１６２による真空引きにより，回転ロール９０と第３のブロック１４０との間或いは回転ロール９０と第４のブロック１５０との間の洗浄液を排出口１６０から吸引して排出できる。

例えば第３のブロック１４０と第４のブロック１５０の下方には，ドレインパン１７０が設けられている。このドレインパン１７０により，例えば第３のブロック１４０や第４のブロック１５０から漏れた洗浄液を受け止めて回収することができる。ドレインパン１７０には，排液管１７１が接続されており，ドレインパン１７０に溜まった洗浄液を排出できる。

なお，洗浄液供給装置１２２，吸引装置１２５，１６２，負圧発生装置１３４などの動作の制御は，制御部１８０によって行われており，洗浄液吐出口１１１からの洗浄液の吐出のタイミングや吐出圧，吸引口１１２や排出口１６０からの吸引のタイミングや吸引圧，排気口１３１からの排気のタイミングや排気圧などは，制御部１８０によって制御されている。

次に，以上のように構成された回転ロール９０の洗浄機構１００の動作を，ガラス基板Ｇのレジスト塗布処理のプロセスと共に説明する。

先ず，図２に示すようにノズル８０が待機部９１から回転ロール９０上に移動し，ノズル８０の吐出口８０ａが回転ロール９０の最上部に近接される。回転ロール９０は，例えば表面速度が３０〜５０ｍｍ/ｓ程度の第１の速度で回転方向Ｆに回転され，ノズル８０の吐出口８０ａから回転ロール９０の表面にレジスト液が吐出されて，レジスト液の試し出しが行われる。こうして，吐出口８０ａにおけるレジスト液の付着状態が整えられ，ノズル８０の吐出状態が安定される。なお，この試し出し時には，洗浄液吐出口１１１からの洗浄液の吐出，吸引口１１２，排出口１６０からの吸引，排気口１３１からの排気のいずれも停止されている。

ノズル８０の吐出口８０ａにおけるレジスト液の付着状態が整えられた後，ノズル８０の吐出が停止され，ノズル８０が所定の吐出位置Ｅに移動する。ノズル８０が吐出位置Ｅに移動した後，ガラス基板Ｇがレジスト塗布処理ユニット２４のステージ７０上を搬送ラインＡに沿って移動される。ガラス基板Ｇがノズル８０の下方を通過する際に，ノズル８０からレジスト液が吐出され，ガラス基板Ｇの表面の全面にレジスト液が塗布される。

一方，ノズル８０が回転ロール９０の最上部から吐出位置Ｅに移動した後，回転ロール９０の洗浄が開始される。先ず，回転ロール９０が，試し出し時の第１の速度よりも遅い，例えば表面速度が１０〜３０ｍｍ/ｓ程度（第１の速度の約０．５倍程度）の第２の速度で回転される。このとき，図９に示すように洗浄液吐出口１１１から回転ロール９０と第１のブロック１１０との隙間Ｄにレジスト液の溶剤である洗浄液Ｈが吐出される。吐出された洗浄液Ｈは，至近距離にある回転ロール９０の表面に高圧で衝突し，狭小の隙間Ｄ内で高い圧力を維持したまま回転ロール９０の表面に沿って流れる。この洗浄液Ｈの流れにより，回転ロール９０の表面のレジスト液が除去される。そして，洗浄液Ｈは，回転ロール９０の汚れを落としながら，回転ロール９０の表面を伝ってさらに落下し，第３のブロック１４０の滞留部１４１で一時的に滞留される。この滞留部１４１では，回転ロール９０の表面のレジスト液が洗浄液Ｈに溶解し，ここでも回転ロール９０の表面の汚れが落とされる。滞留部１４１の洗浄液Ｈは，続いて第３のブロック１４０の洗浄液誘導部１４２に流入し，回転ロール９０の表面と第３のブロック１４０との隙間Ｄを通って，排出口１６０から排出される。

この洗浄液Ｈを吐出する洗浄工程では，回転ロール９０が例えば２回程度回転される。その後，洗浄液吐出口１１１による洗浄液Ｈの吐出が停止され，吸引口１１２及び排出口１６０からの吸引と，排気口１３１からの排気が行われる。このとき，回転ロール９０の回転は，試し出し時の第１の速度と洗浄液吐出時の第２の速度よりも速い，例えば表面速度が４０〜６０ｍｍ/ｓ程度（第１の速度の約１．２５倍程度）の第３の速度で行われる。回転ロール９０の表面に付着した洗浄液Ｈは，図１０に示すように洗浄液吐出口１１１の回転方向Ｆ側にある吸引口１１２により吸引され除去される。また，さらに回転方向Ｆ側にある排気口１３１により，回転ロール９０の表面の雰囲気が強制排気され，回転ロール９０の表面が乾燥される。また，回転ロール９０の最下部においても，排出口１６０により吸引され，回転ロール９０に表面に付着している洗浄液Ｈが除去される。こうして，回転ロール９０の表面が完全に乾燥されると，吸引口１１２，排出口１６０からの吸引と，排気口１３１からの排気が停止され，回転ロール９０の乾燥工程が終了する。

以上の実施の形態によれば，第１のブロック１１０により回転ロール９０の表面との間に狭小な隙間Ｄを形成し，その隙間Ｄに洗浄液吐出口１１１から洗浄液Ｈを吐出するようにしたので，洗浄液Ｈが至近距離から回転ロールＨの表面に衝突し，その洗浄液Ｈが隙間Ｄ内を高圧の状態で回転ロール９０の表面に沿って流れるので，回転ロール９０の表面のレジスト液が効果的に洗浄される。洗浄液Ｈが回転ロール９０の表面にのみ供給されるだけなので，従来のようにタンクに洗浄液を貯留する場合に比べて，洗浄液Ｈの消費量を飛躍的に低減できる。

回転ロール９０の回転方向Ｆの３/４回転〜１回転までの間に洗浄液吐出口１１１を設けたので，洗浄液吐出口１１１から吐出された洗浄液Ｈは，回転ロール９０の表面を回転ロール９０の回転方向Ｆと逆方向に流れ落ちる。この結果，回転ロール９０の表面に対する洗浄液Ｈの相対速度が増して，洗浄液Ｈによる洗浄能力を向上することができる。

また，第３のブロック１４０により滞留部１４１を形成したので，滞留部１４１の洗浄液Ｈを一旦滞留させ，その滞留部１４１においてレジスト液を洗浄液Ｈに溶解させることができる。これにより，回転ロール９０の洗浄をさらに効果的に行うことができる。

第３のブロック１４０の滞留部１４１の下方に洗浄液誘導部１４２を形成したので，回転ロール９０の表面の狭小な隙間Ｄに洗浄液Ｈを流し，ここでも，洗浄液Ｈによって回転ロール９０の表面の洗浄を行うことができる。

洗浄液誘導部１４２が回転ロール９０の最下部まで形成され，その回転ロール９０の最下部に排出口１６０が形成されているので，回転ロール９０の表面を洗浄した洗浄液Ｈを適正に排出できる。

洗浄液吐出口１１１の上方側には，吸引口１１２が設けられたので，乾燥時には，回転ロール９０の表面の洗浄液Ｈを吸引除去できる。また，吸引口１１２のさらに上方側には，排気口１３１が設けられたので，洗浄液Ｈが除去された後に回転ロール９０の表面の雰囲気を排気して，回転ロール９０の表面を乾燥させることができる。

また，排出口１６０に吸引装置１６２が接続されているので，洗浄液誘導部１４２などに残る洗浄液Ｈを確実に排出することができる。

以上の実施の形態において，洗浄工程の回転ロール９０の回転速度よりも乾燥工程の回転ロール９０の回転速度の方が高くなるようにしたので，洗浄工程時には，回転ロール９０の表面に十分な量の洗浄液Ｈを供給し，乾燥工程時には，回転ロール９０の表面に付着した洗浄液Ｈを上方の吸引口１１２まで確実に運んで排出することができる。

以上の実施の形態で記載した洗浄液吐出口１１１は，第１のブロック１１０の表面１１０ａに一列に形成されていたが，図１１に示すように上下２列に形成され，長手方向に向けて各列の洗浄液吐出口１１１が互いに千鳥状に配置されてもよい。こうすることにより，回転ロール９０の表面に洗浄液Ｈが斑なく吐出され，回転ロール９０の洗浄がより効果的に行われる。

また，洗浄液吐出口１１１は，図１２に示すように第１のブロック１１０の表面１１０ａに，例えば回転ロール９０よりも長いスリット状に形成されていてもよい。この場合，例えば洗浄液吐出口１１１の幅は，０．１ｍｍ程度に設定される。

以上の実施の形態で記載した洗浄液吐出口１１１と吸引口１１２は，同じ第１のブロック１１０に設けられていたが，別のブロックに設けられていてもよい。また，洗浄液吐出口１１１，吸引口１１２及び排気口１３１が同じブロックに設けられていてもよい。

また，図１３に示すように第２のブロック１３０の表面１３０ａには，平行に並ぶ２列のスリット状の排気口１３１が形成されていてもよい。この場合，例えば排気口１３１の幅は，１ｍｍ程度に設定される。２列の排気口１３１の各流路１３２は，第２のブロック１３０の内部で合流し同じ排気管１３３に接続されている。

以上の実施の形態で記載した排出口１６０は，吸引により洗浄液Ｈを除去していたが，吸引せずに自然落下により洗浄液Ｈを排出してもよい。

以上の実施の形態では，洗浄液吐出口１１１を，回転ロール９０が３/４回転した位置から１回転する位置までの間に設けていたが，回転ロール９０が１/４回転した位置から１/２回転する位置までの間と，回転ロール９０が１/２回転した位置から３/４回転する位置までの間に設けてもよい。以下，かかる場合の一例を図１４を用いて説明する。

回転ロール９０の下部側には，その回転ロール９０の下部側の表面を覆うカバー体としてのプレート２００が設けられる。プレート２００は，最上部を基点Ｐとして回転ロール９０の回転方向Ｆの１２０°程度から２４０°程度までの区間を覆うように形成されている。プレート２００は，回転ロール９０の長手方向に沿って細長に形成され，回転ロール９０の長手方向の両端部間に亘り形成されている。プレート２００は，回転ロール９０の表面形状に沿って円弧状に形成されている。プレート２００と回転ロール９０の表面との間には，上記実施の形態と同様に１００μｍ〜３００μｍ，より好ましくは１００μｍの隙間Ｄが形成されている。

プレート２００の中央部であって，回転ロール９０の最下部に対向する位置には，回転ロール９０の長手方向に沿ったスリット状の排出口２０１が形成されている。プレート２００の排出口２０１の両側には，それぞれ洗浄液吐出口２０２，２０３が形成されている。洗浄液吐出口２０２，２０３は，排出口２０１から例えば３０°程度離れた等距離の位置に形成されている。洗浄液吐出口２０２，２０３は，例えば回転ロール９０の長手方向に沿ったスリット状に形成されている。

洗浄液吐出口２０２，２０３は，各供給管２１０によって，洗浄液供給装置２１１に接続されている。この洗浄液供給装置２１１からの洗浄液の供給により，洗浄液吐出口２０２，２０３から回転ロール９０とプレート２００との間の隙間Ｄに洗浄液を吐出できる。

排出口２０１は，配管２２０によって，真空ポンプなどの吸引装置２２１に接続されている。吸引装置２２１による真空引きにより，吸引口２０１から回転ロール９０の表面の洗浄液を吸引して除去できる。

プレート２００の下方には，上記実施の形態と同様に排液管２３０を有するドレインパン２３１が設けられている。

そして，回転ロール９０を洗浄する際には，回転ロール９０が上述の第２の速度で回転された状態で，洗浄液吐出口２０２，２０３から回転ロール９０の表面に向けて洗浄液Ｈが吐出され，プレート２００と回転ロール９０の隙間Ｄに洗浄液Ｈが供給される。このとき，例えば排出口２０１から吸引が行われ，隙間Ｄに供給された洗浄液Ｈは，回転ロール９０の最下部に位置する排出口２０１から排出される。この状態で，例えば回転ロール９０が２回転程度された後，洗浄液吐出口２０２，２０３からの洗浄液Ｈの吐出が停止される。その後，例えば回転ロール９０の回転速度が第２の速度から上述の第３の速度に上げられ，排出口２０１からの吸引により，プレート２００と回転ロール９０との隙間Ｄの洗浄液Ｈが吸引除去され，回転ロール９０の表面が乾燥される。

この実施の形態においても，狭小な隙間Ｄに洗浄液Ｈが吐出され，高圧の水流により，回転ロール９０の汚れが落とされるので，回転ロール９０の洗浄が効果的に行われる。また，狭小な隙間Ｄに洗浄液Ｈを供給するだけなので，洗浄液Ｈの消費量を飛躍的に低減できる。

また，排出口２０１を挟んだ両側に洗浄液吐出口２０２，２０３が設けられたので，回転方向Ｆに対して後ろ側の洗浄液吐出口２０２から排出口２０１に向けて回転ロール９０の回転方向Ｆと同じ方向に洗浄液Ｈが流れる。この間に，回転ロール９０の表面に付着したレジスト液を洗浄液Ｈに溶解させることができる。また，回転方向Ｆに対して前方側の洗浄液吐出口２０３から排出口２０１に向けて回転ロール９０と逆回転の方向に洗浄液Ｈが流れるので，洗浄液Ｈと回転ロール９０の相対速度が増大し，洗浄液Ｈが回転ロール９０のレジスト液を強制的に取り除くことができる。

排出口２０１には，吸引装置２２１が接続されているので，プレート２００に残る洗浄液Ｈを確実に排出することができる。

また，排出口２０１を回転ロール９０の最下部の位置に設けたので，プレート２００上の洗浄液Ｈを排出しやすい。なお，前記実施の形態では，排出口２０１が真空引きされていたが，自然落下により洗浄液Ｈを排出してもよい。

以上の実施の形態において，プレート２００の回転方向Ｆ側に，回転ロール９０の表面の洗浄液を吸引除去する吸引口を設けてもよい。例えば図１５に示すように，例えばプレート２００の回転方向Ｆ側に，上述の実施の形態と同様の第１のブロック１１０が設けられる。この第１のブロック１１０の表面１１０ａに吸引口２４０が形成される。吸引口２４０は，第１のブロック１１０内に形成された流路２４１と，その流路２４１に接続された配管２４２によって，真空ポンプなどの吸引装置２４３に接続されている。そして，回転ロール９０の乾燥時には，上述した排出口２０１からの排出に併せて，吸引口２４０からの吸引によっても，回転ロール９０の表面のレジスト液が除去される。こうすることにより，回転ロール９０の回転によりプレート２００の外側に運び出された洗浄液Ｈも適正に除去できる。

また，プレート２００を備えた上述の実施の形態において，回転ロール９０の表面を乾燥させる排気口を設けてもよい。例えば，図１５に示す上記例において，吸引口２４０のさらに回転方向Ｆ側に，上述した実施の形態と同様の第２のブロック１３０が設けられる。第２のブロック１３０の表面１３０ａに，排気口２５０が形成される。排気口２５０は，第２のブロック１３０内に形成された流路２５１と，流路２５１に接続された配管２５２によって，負圧発生装置２５３に接続されている。そして，洗浄後の乾燥時には，排気口２５０から回転ロール９０の表面の雰囲気を排気することにより，回転ロール９０の表面の乾燥を促進できる。これにより，回転ロール９０の乾燥をより確実に行うことができる。

以上の実施の形態では，第１のブロック１１０の表面１１０ａには，吸引口１１２が形成されているが，図１６に示すようにさらに同一の表面１１０ａに，洗浄液を吸引する吸引口３０１を形成してもよい。

吸引口３０１は，吸引口１１２の回転方向Ｆ側，つまり上方側の表面１１０ａに形成されている。吸引口３０１の形状は，吸引口１１２と同様に回転ロール９０の長手方向に沿ってスリット状となっている。

吸引口３０１は，第１のブロック１１０内に形成された流路３０２と，その流路３０２に接続された配管３０３によって，吸引装置３０４に接続されている。吸引装置３０４による真空引きにより，吸引口３０１から回転ロール９０の表面の洗浄液を吸引して除去できる。したがって，吸引装置３０４と吸引装置１２５を同時に稼動させることによって，吸引口３０１と吸引口１１２の２箇所から一度に多量の洗浄液を吸引することができる。

また吸引口３０１の回転方向Ｆ側の表面１１０ａに，先端３０５ａを斜め下方に向けて成形し，洗浄液Ｈを一時的に滞留させる滞留部３０５を形成してもよい。この滞留部３０５では，洗浄液吐出口１１１から吐出された洗浄液Ｈの一部が，回転ロール９０の表面に沿って上り一時的に滞留される。そして，回転ロール９０の表面のレジスト液が洗浄液Ｈに溶解し，滞留部３０５でも回転ロール９０の表面の汚れが落とされる。

以上のように構成される洗浄機構１００を用いて，次に説明する方法で回転ロール９０を洗浄してもよい。図１７は，回転ロール９０の円周上の動点Ｓの鉛直方向位置の経時変化と，動点Ｓの鉛直方向位置に対応して洗浄液吐出口１１１から洗浄液Ｈを吐出するタイミング，吸引口３０１，吸引口１１２及び排出口１６０から洗浄液Ｈを吸引するタイミング，及び排気口１３１から排気するタイミングを示した説明図である。

ノズル８０が回転ロール９０上に移動した後，回転ロール９０は，例えば表面速度が３０〜５０ｍｍ／ｓの速度で回転方向Ｆに回転される。そして回転ロール９０が例えば半周回転する間，すなわち回転ロール９０の表面上の動点Ｓが回転ロール９０の最上部から最下部に移動する間（図１７のＲ工程），ノズル８０から回転ロール９０の表面にレジスト液の試し出しが行われる。このレジスト液の試し出しが終了すると，回転ロール９０の洗浄が開始される。

先ず，動点Ｓが回転ロール９０の最下部に達した後，洗浄液吐出口１１１から回転ロール９０と第１のブロック１１０との隙間Ｄに洗浄液Ｈが吐出される。このとき，回転ロール９０が，レジスト液の試し出し時の速度よりも遅い，例えば表面速度１０〜３０ｍｍ/ｓで回転される。吐出された洗浄液Ｈは，回転ロール９０の表面に沿って流れる。この洗浄液Ｈの流れにより，回転ロール９０の表面のレジスト液が除去される。そして動点Ｓが吸引口３０１を通過したとき，洗浄液吐出口１１１からの洗浄液Ｈの吐出を止める（図１７のＴ１工程）。

動点Ｓが吸引口３０１を通過すると，吸引口３０１，吸引口１１２及び排出口１６０から洗浄液Ｈが吸引される。そして動点Ｓが再び回転ロール９０の最下部に達したときに，この洗浄液Ｈの吸引を止める（図１７のＴ２工程）。

その後，Ｔ１工程における洗浄液Ｈの吐出と，Ｔ２工程における洗浄液Ｈの吸引と同様の工程で，洗浄液Ｈの吐出（図１７のＴ３工程）と洗浄液Ｈの吸引（図１７のＴ４工程）が行われる。

このようにＴ１〜Ｔ４工程が行われて，動点Ｓが回転ロール９０の最下部に達したとき，洗浄液吐出口１１１から洗浄液Ｈが吐出される。そして動点Ｓが一周して再び回転ロール９０の最下部に達したときに，洗浄液Ｈの吐出を止める（図１７のＴ５工程）。

以上のＴ１〜Ｔ５工程が終了すると，吸引口３０１，吸引口１１２及び排出口１６０からの洗浄液Ｈの吸引と，排気口１３１からの排気が同時に行われる。このとき，回転ロール９０の回転は，試し出し時（Ｒ工程）の速度と洗浄液Ｈの吐出・吸引時（Ｔ１〜Ｔ５工程）の速度よりも速い，例えば表面速度が４０〜６０ｍｍ／ｓの速度で行われる。回転ロール９０の表面に付着した洗浄液Ｈは，吸引口３０１，吸引口１１２及び排出口１６０によって除去され，さらに排気口１３１によって，回転ロール９０の表面の雰囲気が強制排気され，回転ロール９０の表面が乾燥される（図１７のＥ工程）。

発明者らの知見によると，以上の回転ロール９０の洗浄方法に示すように洗浄液Ｈの吐出と吸引が交互に行われ（Ｔ１〜Ｔ５工程），間欠的に洗浄液Ｈを吐出した場合でも，回転ロール９０の表面に付着したレジスト液を十分に洗浄することができる。そして洗浄液Ｈの吐出が間欠的であるので，回転ロール９０の表面のレジスト液を効率よく洗浄することができ，回転ロール９０の洗浄に使用される洗浄液Ｈの消費量を飛躍的に低減することができる。例えば，洗浄液Ｈを連続して吐出して回転ロール９０を洗浄する場合，一回の洗浄に使用する洗浄液Ｈの消費量は３００ｍｌであったが，本洗浄方法のように洗浄液Ｈを間欠的に吐出することによって，洗浄液Ｈの消費量を６７ｍｌに抑えることができた。

以上，添付図面を参照しながら本発明の好適な実施の形態について説明したが，本発明はかかる例に限定されない。当業者であれば，特許請求の範囲に記載された思想の範疇内において，各種の変更例または修正例に相到し得ることは明らかであり，それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。例えば以上の実施の形態で記載した洗浄液吐出口１１１と第１のブロック１１０や，洗浄液吐出口２０２，２０３とプレート２００は，回転ロール９０の表面上の他の位置に設けてもよい。また，第１〜第４のブロック１１０，１３０，１４０，１５０や，プレート２００などの形状は，他の形状であってもよい。上記実施の形態では，本発明を，レジスト液の試し出しが行われる回転ロールの洗浄に対して適用していたが，現像液などの他の塗布液の試し出しが行われる回転ロールの洗浄に適用してもよい。また，洗浄液Ｈも溶剤に限られず，純水など他の液体であってもよい。本発明は，ガラス基板Ｇ以外の他のＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）やフォトマスク用のマスクレチクル，半導体ウェハなどの他の基板に塗布液を塗布する場合にも適用できる。

本発明は，回転ロールを洗浄する洗浄液の消費量を低減する際に有用である。

本実施の形態における塗布現像処理装置の構成の概略を示す平面図である。レジスト塗布処理ユニットの構成の概略を示す縦断面の説明図である。レジスト塗布処理ユニットの構成の概略を示す平面図である。ノズルの説明図である。回転ロールの洗浄機構の構成の概略を示す縦断面の説明図である。回転ロールのＹ方向正方向側の側面図である。第１のブロックの斜視図である。第２のブロックの斜視図である。洗浄工程時の洗浄液の流れを示す回転ロールの洗浄機構の縦断面の説明図である。乾燥工程時の洗浄液の流れを示す回転ロールの洗浄機構の縦断面の説明図である。洗浄液吐出口を千鳥状に配置した場合の第１のブロックの斜視図である。洗浄液吐出口をスリット状にした場合の第１のブロックの斜視図である。排気口を２列にした場合の第２のブロックの斜視図である。回転ロールの洗浄機構の他の構成例を示す縦断面の説明図である。第１のブロックと第２のブロックを備えた洗浄機構の構成例を示す縦断面の説明図である。第１のブロックに吸引口を追加し，滞留部を設けた洗浄機構の構成例を示す縦断面の説明図である。回転ロール表面を洗浄する際に，洗浄液の吐出，吸引，及び排気のタイミングを示した説明図である。

符号の説明

１塗布現像処理装置
２４レジスト塗布処理ユニット
９０回転ロール
１１０第１のブロック
１１１洗浄液吐出口
１１２吸引口
１３０第２のブロック
１３１排気口
１４０第３のブロック
１４１滞留部
１４２洗浄液誘導部
１６０排出口
Ｈ洗浄液
Ｇガラス基板

Claims

ノズルから基板に塗布液が吐出される前に，ノズルから塗布液が供給される回転ロールの洗浄機構であって，
回転ロールの表面の一部をその表面に沿って覆い，当該回転ロールの表面との間に円弧状で狭小な隙間を形成するカバー体と，
前記カバー体と前記回転ロールの表面との間の円弧状で狭小な隙間に正圧で洗浄液を吐出する洗浄液吐出口と，を有し，
前記隙間は，前記洗浄液が正圧を維持したまま流れるように形成されていることを特徴とする，回転ロールの洗浄機構。
前記洗浄液吐出口は，前記カバー体に形成されていることを特徴とする，請求項１に記載の回転ロールの洗浄機構。
ノズルから塗布液が供給される回転ロールの最上部を回転の基点にして，回転ロールが回転方向に３/４回転した位置から１回転する位置までの間に，前記洗浄液吐出口が設けられていることを特徴とする，請求項１又は２のいずれかに記載の回転ロールの洗浄機構。
前記回転ロールが１/２回転した位置から３/４回転する位置までの間には，前記洗浄液吐出口から回転ロールの表面を伝って流れ落ちる洗浄液を前記回転ロールの表面において滞留させる滞留部材が設けられ，
前記洗浄液吐出口から回転ロールの表面を伝って流れ落ちる洗浄液によって当該回転ロールの表面を洗浄し，前記滞留部材で滞留された洗浄液によって回転ロールの表面をさらに洗浄することを特徴とする，請求項３に記載の回転ロールの洗浄機構。
前記滞留部材は，上方からの洗浄液を受け止めて滞留させ，当該洗浄液によって回転ロールの表面を洗浄するための滞留部と，前記滞留部の洗浄液を回転ロールの表面に沿って下方に流し，当該洗浄液によって回転ロールの表面をさらに洗浄するための洗浄液誘導部とを備えていることを特徴とする，請求項４に記載の回転ロールの洗浄機構。
前記滞留部は，滞留部材の回転ロールの表面側の上部に凹状に形成され，
前記洗浄液誘導部は，前記回転ロールの表面をその表面に沿って覆い，その回転ロールの表面との間に円弧状で狭小な隙間を形成していることを特徴とする，請求項５に記載の回転ロールの洗浄機構。
前記洗浄液誘導部は，前記回転ロールの最下部まで形成され，
前記回転ロールの最下部の位置には，洗浄液の排出口が設けられていることを特徴とする，請求項５又は６のいずれかに記載の回転ロールの洗浄機構。
前記排出口には，洗浄液を吸引するための吸引装置が接続されていることを特徴とする，請求項７に記載の回転ロールの洗浄機構。
前記洗浄液吐出口よりも前記回転ロールの回転方向側には，回転ロールの表面の洗浄液を吸引して除去する吸引口が設けられていることを特徴とする，請求項３〜８のいずれかに記載の回転ロールの洗浄機構。
ノズルから塗布液が供給される回転ロールの最上部を回転の基点にして，回転ロールが１/４回転した位置から１/２回転する位置までの間と，回転ロールが１/２回転した位置から３/４回転する位置までの間に，前記洗浄液吐出口が設けられていることを特徴とする，請求項１又は２のいずれかに記載の回転ロールの洗浄機構。
前記洗浄液吐出口は，２箇所に設けられ，
前記カバー体は，前記回転ロールの下部側の少なくとも前記２箇所の洗浄液吐出口の間の回転ロールの表面を円弧状で狭小な隙間を介して覆うように形成されていることを特徴とする，請求項１０に記載の回転ロールの洗浄機構。
前記２箇所の洗浄液吐出口の間のカバー体には，洗浄液の排出口が形成されていることを特徴とする，請求項１１に記載の回転ロールの洗浄機構。
前記排出口は，前記回転ロールの最下部に対向する位置に形成されていることを特徴とする，請求項１２に記載の回転ロールの洗浄機構。
前記排出口には，洗浄液を吸引するための吸引装置が接続されていることを特徴とする，請求項１２又は１３のいずれかに記載の回転ロールの洗浄機構。
前記回転ロールの１/２回転から３/４回転までの間に位置する前記洗浄液吐出口のさらに回転方向側には，回転ロールの表面の洗浄液を吸引して除去する吸引口が設けられていることを特徴とする，請求項１０〜１４のいずれかに記載の回転ロールの洗浄機構。
前記吸引口のさらに回転方向側には，回転ロールの表面を乾燥させるための排気口が設けられていることを特徴とする，請求項９又は１５のいずれかに記載の回転ロールの洗浄機構。
前記洗浄液吐出口は，回転ロールの長手方向に沿って上下２列に並べて形成され，当該２列の洗浄液吐出口は，互いに千鳥状に配置されていることを特徴とする，請求項１〜１６のいずれかに記載の回転ロールの洗浄機構。
請求項９，１５又は１６のいずれかに記載の回転ロールの洗浄機構を用いた回転ロールの洗浄方法であって，
洗浄液吐出口から洗浄液を供給しながら，回転ロールを回転させる洗浄工程と，
前記洗浄液吐出口からの洗浄液の供給を停止し，前記洗浄工程よりも速い速度で前記回転ロールを回転させ，前記回転ロールの表面の洗浄液を吸引口により吸引して除去する乾燥工程と，を有することを特徴とする，回転ロールの洗浄方法。
請求項９，１５又は１６のいずれかに記載の回転ロールの洗浄機構を用いた回転ロールの洗浄方法であって，
回転ロールを回転させながら，洗浄液吐出口から洗浄液を吐出する吐出工程と，
前記吐出工程と同じ速度で前記回転ロールを回転させながら，前記回転ロールの表面の洗浄液を吸引口により吸引して除去する吸引工程と，を有し，
前記吐出工程と吸引工程は，交互に行われ，
前記吐出工程においては，前記吸引口からの洗浄液の吸引は停止し，
前記吸引工程においては，前記洗浄液吐出口からの洗浄液の供給は停止していることを特徴とする，回転ロールの洗浄方法。