JP6491816B2 - スリットノズル洗浄装置、及びワーク用塗布装置 - Google Patents

Description

本発明は、塗布液をワークに塗布するスリットノズルに付着した塗布液をスクレーパで掻き取って洗浄するスリットノズル洗浄装置、該スリットノズル洗浄装置を備えるワーク用塗布装置、及び該スリットノズル洗浄装置を使用したスリットノズル洗浄方法に関する。

従来、例えばガラス基板（ワーク）にレジスト液（塗布液）をスリットノズルから塗布する基板用塗布装置が知られている。基板用塗布装置は、スリットノズルのスリット方向に直交する方向にガラス基板を搬送しつつレジスト液を塗布することにより、ガラス基板上に塗布膜を形成する。ただし、基板用塗布装置は、スリットノズルがスリット方向と直交する方向に移動する場合もある。

このような基板用塗布装置において、スリットノズルの側面に付着した塗布液を取り除いて、スリットノズルを洗浄することがある。

例えば、特許文献１には、ゴムからなる平板状のスクレーパを、スリットノズルの先端及び側面に当接させながら当該スクレーパを移動させて塗布液を掻き取って除くスリットノズル洗浄機構が記載されている。

また、特許文献１には、スクレーパが吹き付けられた溶剤（レジスト液の溶剤と同種のものである。）によって洗浄される旨も記載されている。

特開２００４−５５６０７号公報

しかしながら、特許文献１に記載のスクレーパ洗浄機構には、以下のような虞がある。洗浄液がスクレーパに残留した状態でスリットノズルを洗浄すると、スリットノズルの先端及び側面の塗布液が十分に取り除けないことがある。また、スリットノズルの洗浄時にスリットノズルの先端及び側面に洗浄液が付着することもある。特に、スリットノズルのうち、最初にスクレーパに当接する部分では、塗布液が残留しやすく、かつ洗浄液が付着しやすい。

スリットノズルの洗浄が不十分な状態又はスリットノズルに洗浄液が付着した状態で、ワークへの塗布液の塗布を行うと、塗布処理の初期で形成した塗布膜には、残留して経時劣化した塗布液又は洗浄液が含まれる。その結果、ワークには、均質な塗布膜が形成されなくなってしまう。

均質な塗布膜を形成するために、塗布処理の前に予備の塗布処理（プライミング処理）を行って経時劣化した塗布液等を吐出する場合であっても、スリットノズル洗浄後に残留した塗布液等を吐出しきるためには、より多くの塗布液の吐出が必要となる。また、プライミング処理を行っても、スリットノズル洗浄後に残留した塗布液等が吐出しきれない場合もある。

上述の問題は、特に表面張力（Ｎ／ｍ）が高く又は蒸気圧（Ｐａ）が低い洗浄液（例えば水）を用いる場合に発生しやすい。

そこで、本発明は、上述の従来の問題に鑑みてなされたものであり、スリットノズルの洗浄において信頼性をより高めたスリットノズル洗浄装置、該スリットノズル洗浄装置を備えたワーク用塗布装置、及び該スリットノズル洗浄装置を使用したスリットノズル洗浄方法を提供することを目的とする。

本発明は、塗布液をワークに塗布するスリットノズルを洗浄するスリットノズル洗浄装置であって、前記スリットノズルに付着した前記塗布液を掻き取るスクレーパと、前記スクレーパを前記スリットノズルの側面に当接させたまま、該スリットノズルのスリット方向に該スクレーパを移動させる移動機構と、前記スクレーパに洗浄液を吹き付けて前記塗布液を取り除く洗浄機構と、前記スクレーパに付着した前記洗浄液を乾燥させる乾燥機構と、を備える。

本発明のスリットノズル洗浄装置は、塗布液（例えば薬剤及びインク）が付着したスリットノズルの洗浄に用いたスクレーパを乾燥機構によって乾燥させる。すると、スクレーパに付着した洗浄液は、乾燥して蒸発する。従って、本発明のスリットノズル洗浄装置は、溶剤に比べて表面張力が高く又は蒸気圧が低い洗浄液（例えば水）を用いても、乾燥によってスクレーパから洗浄液を取り除くことにより、洗浄液が残留した状態で再びスリットノズルを洗浄することを防ぐことができる。

また、より具体的には、前記乾燥機構は、吹出口が形成された吹出部材を用いて、該吹出口から下方向にエアを吹き付けて前記スクレーパに付着した前記洗浄液を乾燥させてもよい。

前記乾燥機構は、温風を下方向に吹き出してスクレーパを乾燥させてもよいが、スリットノズル洗浄装置の簡素化のために単に常温のエアを下方向に吹き出すだけであってもよい。

また、前記洗浄機構は、前記吹出部材を用いて、前記吹出口から下方向に前記洗浄液を吹き付けてもよい。

この構成では、吹出部材の吹出口は、洗浄液とエアとを吹出す。すなわち、乾燥のためにスクレーパを移動させる必要が無い。従って、この構成は、スクレーパの移動を最小限に抑え、かつスリットノズル洗浄装置の構成を簡素化できる。

また、前記移動機構は、乾燥位置において前記スクレーパを通過させ、前記乾燥機構は、前記スクレーパが前記乾燥位置を通過している間に、前記エアを吹き付けてもよい。

これにより、乾燥機構は、スクレーパ全体にエアを吹き付けることができ、洗浄液を取り除くことができる。

また、前記移動機構は、前記乾燥位置で前記スクレーパを往復移動させ、前記乾燥位置において前記スクレーパを一時停止させ、前記乾燥機構は、前記スクレーパが前記乾燥位置において一時停止している間に、該スクレーパの前記スリットノズルの側面との当接部分に前記エアを吹き付けてもよい。

この構成では、乾燥機構は、スクレーパの乾燥位置の通過中にスクレーパ全体から洗浄液を取り除くことに加えて、スクレーパの乾燥位置における一時停止中にスリットノズルの側面に洗浄液を付着させる虞が大きい当接部分にエアを吹き付ける。これにより、スクレーパに残留する洗浄液は、より確実に乾燥して蒸発する。

また、本発明は、スリットノズル洗浄装置に限らず、スリットノズル洗浄装置と、前記ワークと前記スリットノズルとを相対的に移動させる搬送機構と、前記スリットノズルから前記塗布液を供給する塗布液供給機構と、を備えたワーク用塗布装置であってもよい。

また、本発明は、塗布液をワークに塗布するスリットノズルを洗浄するスリットノズル洗浄方法であってもよく、当該スリットノズル洗浄方法は、前記スリットノズルの側面に付着した塗布液をスクレーパで掻き取るノズル洗浄ステップと、前記塗布液が付着した前記スクレーパを洗浄する洗浄ステップと、前記洗浄されたスクレーパを乾燥させる乾燥ステップと、を有する。

この発明によると、スクレーパを乾燥させて洗浄液を取り除くことにより、スリットノズルに洗浄液が付着することを防止するため、スリットノズルの洗浄の信頼性が高まる。

本実施形態に係る基板用塗布装置の上面図である。 本実施形態に係る基板用塗布装置の側面図である。 スリットノズル洗浄装置によるスクレーパ洗浄を説明するための図である。 スリットノズル洗浄装置によるスクレーパ乾燥を説明するための図である。 本実施形態に係る基板用塗布装置のコントロール部の構成の一部を示すブロック図である。 本実施形態に係る基板用塗布装置の処理を示すフローチャートである。 スクレーパ保持部材の移動の変形例を説明するための図である。 洗浄乾燥部材の変形例を説明するための図である。

図１及び図２に示すように、本実施形態に係る基板用塗布装置１０は、メインフレーム１、サブフレーム２、上流側コンベア３、中間コンベア４、下流側コンベア５、スリットノズル６、スリットノズル洗浄機構７、及びコントローラ部１００を備えている。

コントローラ部１００は、メインフレーム１に接続されている。コントローラ部１００の制御部１０１（図５を参照。）は、メインフレーム１及びサブフレーム２の各駆動部品の動作、スリットノズル６からの塗布液の供給、並びにスリットノズル洗浄機構７の洗浄液及びエアの吹出しを制御する。

メインフレーム１は、上面にサブフレーム２を保持している。上流側コンベア３、中間コンベア４、及び下流側コンベア５は、それぞれレール（不図示）によってメインフレーム１の上方に保持されている。また、メインフレーム１は、保持部材６Ａを介してスリットノズル６を中間コンベア４の上方に保持している。

スリットノズル６は、保持部材６Ａの駆動部（不図示）によって、中間コンベア４の上方の吐出位置及び退避位置の間で昇降する。退避位置は、吐出位置より上方の位置である。図２に示すように、スリットノズル６は、基板用塗布装置１０を側面視すると、先端が絞り込まれた形状からなる。スリットノズル６は、当該先端で開放されたスリットからレジスト液を吐出する。ただし、スリットノズル６は、レジスト液に限らず、例えばインクを吐出してもよい。

上流側コンベア３、中間コンベア４、及び下流側コンベア５は、それぞれ複数のローラ３１，４１，５１を備えている。ローラ３１，４１，５１は、モータからの駆動力によって回転する。すると、上流側コンベア３、中間コンベア４、及び下流側コンベア５は、ガラス基板を上流側から下流側に向けて直線状に搬送する。ただし、基板用塗布装置１０は、ガラス基板とスリットノズル６が相対的に移動すればよく、例えばガラス基板を固定してスリットノズル６をスリット方向と直交する方向に移動させる態様であっても構わない。また、ガラス基板の搬送は、コンベアではなく、ベルト又はチェーン等の機構によって実現されてもよい。さらに、基板用塗布装置１０は、ガラス基板に限らず、塗布の対象となる膜状の部材（ワーク）を搬送してもよい。

スリットノズル洗浄機構７は、洗浄台７０、プライミングローラ７１、スクレーパ保持部材７２、洗浄乾燥部材７４、及び保持部材７５を備えている。スリットノズル洗浄機構７とコントローラ部１００との組は、本発明のスリットノズル洗浄装置に相当する。

洗浄台７０は、上面が開放された箱形状であり、サブフレーム２によって保持されている。プライミングローラ７１及びスクレーパ保持部材７２は、洗浄台７０の内部に備えられる。洗浄台７０は、内部にプライミングローラ７１及びスクレーパ保持部材７２を備えた状態で、中間コンベア４の上方で、基板の搬送方向に平行に往復移動する。洗浄台７０は、プライミング位置、スリットノズル洗浄位置、及びスクレーパ洗浄位置で停止する。

プライミングローラ７１は、例えば高さ方向が基板の搬送方向と直交する方向の円柱形状である。洗浄台７０がプライミング位置に位置し、かつスリットノズル６が吐出位置に位置すると、スリットノズル６は、先端６３がプライミングローラ７１の周面に当接する。この状態で、コントローラ部１００の制御により、プライミングローラ７１は回転し、かつスリットノズル６はレジスト液を吐出する。これにより、例えばスリットノズル６内の経時劣化したレジスト液は、プライミングローラ７１の周面に吐出される。ただし、プライミングローラ７１は、本実施形態に必須の構成ではない。

図２に示すように、スクレーパ保持部材７２は、基板の搬送方向と直交する方向のガイド７３に沿って洗浄台７０の内部で往復移動する。図２に示すように、スクレーパ保持部材７２は、基板用塗布装置１０を側面視すると、上面がＶ字状となっている。スクレーパ保持部材７２は、洗浄台７０がスリットノズル洗浄位置に位置し、かつスリットノズル６が吐出位置に位置すると、Ｖ字状の上面がスリットノズル６の先端６３を構成する側面６１，６２に近接する。

スクレーパ保持部材７２は、Ｖ字状の上面に、スクレーパ７６及びスクレーパ７７を備えている。スクレーパ７６及びスクレーパ７７は、それぞれ略三角柱の形状のゴムからなる。スクレーパ７６及びスクレーパ７７は、それぞれ三角柱の側面（保持面）でスクレーパ保持部材７２のＶ字状の面に保持されている。スクレーパ７６及びスクレーパ７７の保持面と異なる面（当接面）は、スリットノズル６の側面６１、及び側面６２に略当接する。

スクレーパ保持部材７２は、スクレーパ７６及びスクレーパ７７がスリットノズル６の側面６１及び側面６２に当接した状態で、コントローラ部１００の制御によりガイド７３に沿って洗浄方向に移動する。ただし、洗浄方向は、図１に示す方向と逆方向であってもよい。

このようにスクレーパ７６及びスクレーパ７７が移動すると、スリットノズル６の側面６１，６２に付着していたレジスト液が掻き取られる。掻き取られたレジスト液は、洗浄台７０の内部に一時的に溜まった後、排出される。ただし、図１及び図２に示すスクレーパ７６及びスクレーパ７７は例示であり、スリットノズル６の側面６１，６２に付着していたレジスト液を掻き取れば、どのような形状であっても構わない。

図３及び図４に示すように、洗浄乾燥部材７４は、保持部材７５によって洗浄台７０の上方に保持されている。

洗浄乾燥部材７４は、基板の搬送方向と直交する方向に長い直方体形状である。洗浄乾燥部材７４は、内部に送水管７４１及び送風管７４２を備える。送水管７４１は洗浄液を輸送し、送風管７４２はエアを輸送する。

洗浄乾燥部材７４の下面には、送水管７４１の開口部である吹出口７４１Ａ（特許請求の範囲に記載の「第１の吹出口」に相当）及び送風管７４２の吹出口７４２Ａ（特許請求の範囲に記載の「第２の吹出口」に相当）が配置されている。吹出口７４２Ａは、基板の搬送方向と直交する方向のスリット形状である。

図３に示すように、洗浄台７０がスクレーパ洗浄位置に位置し、かつスクレーパ保持部材７２が洗浄位置９００に位置すると、コントローラ部１００の制御により吹出口７４１Ａから洗浄液が下方向に吹出される。

図４に示すように、洗浄台７０がスクレーパ洗浄位置に位置し、かつスクレーパ保持部材７２が乾燥位置９０１に位置すると、コントローラ部１００の制御により吹出口７４２Ａからエアが鉛直下方向に吹出される。

図５に示すように、コントローラ部１００は、制御部１０１、電磁弁１０２、エアコンプレッサ１０３、洗浄液供給タンク１０４、圧力調整器１１１，１１２，１１３、及び空気作動弁１２１，１２２を備えている。なお、図３の実線はエアの流れを示し、点線は制御部１０１の制御信号の流れを示し、一点破線は洗浄液の流れを示している。

エアコンプレッサ１０３は、制御部１０１からの起動指示によりモータ又はエンジンを駆動してエアを吐出する。エアコンプレッサ１０３から吐出されたエアは、圧力調整器１１１，１１２，１１３に送られる。圧力調整器１１１，１１２，１１３は、エアの気圧値が所定値を超えると弁を開いてエアの気圧値を所定値に保つものである。

電磁弁１０２は、制御部１０１の制御により独立に開閉する２枚の弁を備えている。圧力調整器１１１により調整された気圧値のエアは、電磁弁１０２の各弁が開くと空気作動弁１２１，１２２に送られる。空気作動弁１２１，１２２は、電磁弁１０２からエアが送られると、開く。

空気作動弁１２２が開くと、圧力調整器１１３で調整されたエアの気圧によって洗浄液供給タンク１０４から洗浄液が送水管７４１に送られる。空気作動弁１２１が開くと、圧力調整器１１２により気圧値が調整されたエアは、送風管７４２に送られる。なお、コントローラ部１００は、送風管７４２にエアを常温のまま送るのではなく、ヒータで暖めたエアを送風管７４２に送ってもよい。

このような構成により、基板用塗布装置１０は、吹出口７４１Ａから洗浄液を吹き出してスクレーパ７６，７７を洗浄して、吹出口７４２Ａからエアを吹き出してスクレーパ７６，７７を乾燥させる。より具体的には、制御部１０１は、以下のように動作する。

図６に示すように、まず、制御部１０１は、スリットノズルの洗浄が必要か否かを判定する（Ｓ１）。例えば、制御部１０１は、前回の塗布処理からの経過時間が１０分以上であると、スリットノズルの洗浄が必要であると判定する。また、制御部１０１は、塗布液の交換を検知してスリットノズルの洗浄が必要であると判定してもよい。さらには、制御部１０１は、コントローラ部１００に備えられたユーザＩ／Ｆでユーザからの操作入力を受付けることにより、スリットノズルの洗浄が必要であると判定してもよい。

制御部１０１は、スリットノズルの洗浄が必要であると判定すると（Ｓ１：ＹＥＳ）、スリットノズルの洗浄処理を行う（Ｓ２）。より具体的には、制御部１０１は、洗浄台７０をスリットノズル洗浄位置に移動させ、かつスリットノズル６を吐出位置に下降させる。そして、制御部１０１は、スクレーパ保持部材７２を洗浄方向に沿って移動させる。これにより、スリットノズル６の側面６１，６２に付着した塗布液が掻き取られる。掻き取られた塗布液は、洗浄台７０の内部にたまり、一部がスクレーパ７６，７７の表面に残留する。その後、制御部１０１は、スリットノズル６を退避位置に移動させる。

制御部１０１は、スリットノズルの洗浄処理を行うと（Ｓ２）、ステップＳ３，Ｓ４の処理と、ステップＳ５の処理とを並列処理する。

ステップＳ３では、制御部１０１は、スクレーパの洗浄処理として、洗浄台７０をスクレーパ洗浄位置に移動させ、かつスクレーパ保持部材７２を移動させて洗浄位置９００を通過させる。制御部１０１は、スクレーパ保持部材７２が洗浄位置９００を通過している最中に、電磁弁１０２を制御して吹出口７４１Ａから洗浄液を吹き出させる。制御部１０１は、スクレーパ保持部材７２が洗浄位置９００を通過すると、洗浄液の吹き出しを停止させる。

図４に示すように、制御部１０１は、スクレーパの洗浄処理を行うと（Ｓ３）、スクレーパの乾燥処理として（Ｓ４）、スクレーパ保持部材７２をさらに移動させて乾燥位置９０１を通過させる。制御部１０１は、スクレーパ保持部材７２が乾燥位置９０１を通過している最中に、電磁弁１０２を制御して吹出口７４２Ａからエアを吹き出させる。これにより、スクレーパ７６，７７は、全体的に洗浄液が吹き飛ばされる。洗浄液の一部が吹き飛ばずにスクレーパ７６，７７に残留したとしても、残留した洗浄液は、極少量であるため、その後自然乾燥して蒸発する。制御部１０１は、スクレーパ保持部材７２が乾燥位置９０１を通過すると、洗浄液の吹き出しを停止させる。ステップＳ３及びステップＳ４の処理により、スクレーパ７６，７７は洗浄されて乾燥される。なお、制御部１０１は、スクレーパの乾燥処理後、スクレーパ保持部材７２をスリットノズル６の洗浄開始位置に移動させる。

ステップＳ５では、制御部１０１は、塗布処理として、スリットノズル６を吐出位置に移動させる。そして、制御部１０１は、上流側コンベア３、中間コンベア４、及び下流側コンベア５のモータを駆動してガラス基板を上流から下流に搬送し、搬送タイミングに合わせて塗布液をスリットノズル６から吐出させる。なお、制御部１０１は、ステップＳ５の処理の前にプライミング処理を行ってもよい。プライミング処理では、制御部１０１は、洗浄台７０をプライミング位置に移動させた後に、スリットノズル６から所定量の塗布液を吐出させる。

制御部１０１は、スリットノズルの洗浄が必要ないと判定すると（Ｓ１：ＮＯ）、塗布処理を行う（Ｓ６）。ステップＳ６の塗布処理は、スクレーパ７６，７７の洗浄及び乾燥処理（Ｓ３及びＳ４）と並列に処理されない点において、ステップＳ５の塗布処理と相違する。

以上のように、基板用塗布装置１０は、スクレーパ７６，７７を洗浄した後に乾燥させるため、スクレーパ７６，７７に洗浄液が残留することを防いで、スリットノズル６の側面６１，６２及び先端６３に洗浄液が付着することを防ぐことができる。

基板用塗布装置１０は、プライミング処理を塗布処理の前に行う場合であっても、洗浄液がスリットノズル６に付着することを防ぐため、付着した洗浄液をプライミング処理により吐出しきるために多量の塗布液が必要となることがない。

また、基板用塗布装置１０は、表面張力が高くかつ蒸気圧が低い水を洗浄液として用いても、スクレーパ７６，７７を乾燥することにより、スリットノズル６の側面６１，６２及び先端６３に水が付着することを防ぐことができる。

また、基板用塗布装置１０は、スクレーパの乾燥処理を実行しても、スクレーパの乾燥処理が塗布処理と並列に実行されるため、スリットノズル６の洗浄の信頼性を高めつつ、塗布処理速度が低下することを防ぐことが出来る。

なお、上述の例では、吹出口７４２Ａから鉛直下方にエアが吹き出されているが、エアの吹き出し方向は鉛直下方に限らない。例えば、送風管７４２の吹出口７４２Ａ側は、洗浄位置９００側又は洗浄位置９００側と反対側に傾いていてもよい。これにより、エアの吹き出し方向は、鉛直下方向から洗浄位置９００側又は洗浄位置９００側と反対側に傾く。その結果、基板用塗布装置１０は、スクレーパ７６，７７が鉛直下方のエアでは届きにくい面を有していても、エアの吹き出し方向を傾斜させることにより、当該面にエアを届けて乾燥させることができる。

図７に示すように、基板用塗布装置１０は、乾燥位置９０１を中心にスクレーパ保持部材７２を往復移動させつつ、乾燥させてもよい。より具体的には、制御部１０１は、スクレーパ保持部材７２が乾燥位置９０１を通過して折り返し位置９０２に到達すると、スクレーパ保持部材７２を乾燥位置９０１に向けて移動させる。そして、制御部１０１は、乾燥位置９０１において、スクレーパ保持部材７２を一時停止させる。制御部１０１は、スクレーパ保持部材７２の往復移動及び乾燥位置９０１での一時停止中に、エアを吹き出させる。

スクレーパ７６，７７の全体から洗浄液が吹き飛ばされた後、スクレーパ保持部材７２が乾燥位置９０１で一時停止することにより、スクレーパ７６，７７は、スリットノズル６との当接面（特にスクレーパ７６の先端部７６Ａ）が集中的に乾燥される。このような乾燥処理により、基板用塗布装置１０は、より確実に洗浄液がスリットノズル６の側面６１，６２及び先端６３に付着することを防ぐことができる。

ただし、制御部１０１は、スクレーパ保持部材７２を折り返し位置９０２で一度だけ折り返し移動させるに限らず、乾燥位置９０１を中心に折り返し位置９０２と洗浄位置９００との間で往復させて、往復移動中に乾燥位置９０１で一時停止させてもよい。

図８に示すように、洗浄乾燥部材７４の変形例に係る洗浄乾燥部材７４Ａは、スクレーパ乾燥用のエアが吹出口７４１Ａから吹き出される点において、洗浄乾燥部材７４と相違する。すなわち、吹出口７４１Ａは、洗浄液吹出口とエア吹出口とを兼用する。

より具体的には、洗浄乾燥部材７４Ａは、送風管７４２の代わりに送風管７４３を備えている。送風管７４３は、送水管７４１に接続されている点において送風管７４２と相違する。

このような構成により、基板用塗布装置１０は、１つの吹出口を備えるだけでよく、かつ乾燥処理のためだけにスクレーパ保持部材７２を移動させる必要がなく、洗浄位置９００においてスクレーパの洗浄及び乾燥の両方の処理を行うことができる。

上述の実施形態の説明は、すべての点で例示であって、制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上述の実施形態ではなく、特許請求の範囲によって示される。さらに、本発明の範囲には、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。

１…メインフレーム
２…サブフレーム
３…上流側コンベア
４…中間コンベア
５…下流側コンベア
６…スリットノズル
６Ａ…保持部材
７…スリットノズル洗浄機構
１０…基板用塗布装置
３１，４１，５１…ローラ
６１，６２…側面
６３…先端
７０…洗浄台
７１…プライミングローラ
７２…スクレーパ保持部材
７３…ガイド
７４，７４Ａ…洗浄乾燥部材
７５…保持部材
７６，７７…スクレーパ
７６Ａ…先端部
１００…コントローラ部
１０１…制御部
１０２…電磁弁
１０３…エアコンプレッサ
１０４…洗浄液供給タンク
１１１，１１２，１１３…圧力調整器
１２１，１２２…空気作動弁
７４１…送水管
７４１Ａ…吹出口
７４２，７４３…送風管
７４２Ａ…吹出口
９００…洗浄位置
９０１…乾燥位置
９０２…折り返し位置

Claims (8)

1. スリットノズルに付着した塗布液を当該スリットノズルから掻き取るスクレーパと、
   前記スクレーパを、前記スリットノズルの側面に当接させた状態で当該スリットノズルのスリット方向について移動させる移動機構と、
   前記塗布液の掻取り後に前記スクレーパに洗浄液を吹き付けることにより、当該スクレーパから前記塗布液を取り除く洗浄機構と、
   前記洗浄機構による洗浄後に、前記洗浄液が付着した前記スクレーパを乾燥させる乾燥機構と、
   を備え、
   前記移動機構は、乾燥位置を経て前記スクレーパを往復移動させると共に、前記乾燥位置にて前記スクレーパを一時停止させ、
   前記乾燥機構は、前記スクレーパが前記乾燥位置に一時停止しているときに、前記スクレーパを乾燥させる、スリットノズル洗浄装置。
2. 前記洗浄機構及び前記乾燥機構を保持する洗浄乾燥部材と、
   前記スリット方向と直交する方向に往復移動し、前記洗浄乾燥部材の下方位置で停止可能な洗浄台と、
   を更に備え、
   前記移動機構は、前記洗浄台上で前記スクレーパを前記スリット方向に移動させ、
   前記下方位置は、当該下方位置に前記洗浄台が停止した場合に、前記洗浄機構による洗浄位置及び前記乾燥機構による乾燥位置への前記移動機構による前記スクレーパの選択的な配置が可能になる位置である、請求項１に記載のスリットノズル洗浄装置。
3. 前記洗浄機構は、第１の吹出口から下方向に前記洗浄液を吹き付けて前記スクレーパを洗浄する、請求項１又は２に記載のスリットノズル洗浄装置。
4. 前記乾燥機構は、第２の吹出口から下方向にエアを吹き付けて前記スクレーパを乾燥する、請求項１又は２に記載のスリットノズル洗浄装置。
5. 前記乾燥機構は、第２の吹出口から下方向にエアを吹き付けて前記スクレーパを乾燥する、請求項３に記載のスリットノズル洗浄装置。
6. 前記第１の吹出口が、前記第２の吹出口としても用いられる、請求項５に記載のスリットノズル洗浄装置。
7. 前記洗浄液は水である、請求項１〜６のいずれかに記載のスリットノズル洗浄装置。
8. スリットノズルを有し、当該スリットノズルからワークに前記塗布液を供給する塗布液供給機構と、
   前記ワークと前記スリットノズルとを相対的に移動させる搬送機構と、
   前記スリットノズルを洗浄する、請求項１〜７のいずれかに記載のスリットノズル洗浄装置と、
   を備える、ワーク用塗布装置。

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